半導(dǎo)體集成電路

出版時(shí)間:2011-7  出版社:科學(xué)出版社  作者:余寧梅,楊媛 著  頁數(shù):299  

內(nèi)容概要

  《普通高等教育電子科學(xué)與技術(shù)類特色專業(yè)系列教材·國家級(jí)精品課程主干教材:半導(dǎo)體集成電路》在簡(jiǎn)述了集成電路的基本概念、發(fā)展和面臨的主要問題后,首先介紹了半導(dǎo)體集成電路的主要制造工藝、基本元器件的結(jié)構(gòu)和工作原理;然后重點(diǎn)討論了數(shù)字集成電路中的組合邏輯電路、時(shí)序邏輯電路、存儲(chǔ)器、邏輯功能部件;最后介紹了模擬集成電路中的關(guān)鍵電路和數(shù)一模、模一數(shù)轉(zhuǎn)換電路。《普通高等教育電子科學(xué)與技術(shù)類特色專業(yè)系列教材·國家級(jí)精品課程主干教材:半導(dǎo)體集成電路》內(nèi)容系統(tǒng)全面,與實(shí)際緊密結(jié)合。敘述深人淺出,易于自學(xué)。為了方便教師授課,全書配有課件?!镀胀ǜ叩冉逃娮涌茖W(xué)與技術(shù)類特色專業(yè)系列教材·國家級(jí)精品課程主干教材:半導(dǎo)體集成電路》可作為大專院校電子科學(xué)與技術(shù)和半導(dǎo)體專業(yè)的專業(yè)課教材,也可作為相關(guān)領(lǐng)域研究生和工程技術(shù)人員的參考書。

書籍目錄

叢書序序前言第1章 緒論1.1 半導(dǎo)體集成電路的概念1.1.1 半導(dǎo)體集成電路的基本概念1.1.2 半導(dǎo)體集成電路的分類1.2 半導(dǎo)體集成電路的發(fā)展過程1.3 半導(dǎo)體集成電路的發(fā)展規(guī)律1.4 半導(dǎo)體集成電路面臨的問題1.4.1 深亞微米集成電路設(shè)計(jì)面臨的問題與挑戰(zhàn)1.4.2 深亞微米集成電路性能面臨的問題與挑戰(zhàn)1.4.3 深亞微米集成電路工藝面臨的問題與挑戰(zhàn)技術(shù)展望:摩爾定律的擴(kuò)展習(xí)題第2章 雙極集成電路中的元件形成及其寄生效應(yīng)2.1 雙極集成電路的制造工藝2.1.1 雙極型晶體管的單管結(jié)構(gòu)和工作原理2.1.2 雙極集成晶體管的結(jié)構(gòu)與制造工藝2.2 理想本征雙極晶體管的埃伯斯一莫爾(EM)模型2.2.1 一結(jié)兩層二極管(單結(jié)晶體管)的EM模型2.2.2 兩結(jié)三層三極管(雙結(jié)晶體管)的EM模型2.2.3 三結(jié)四層三極管(多結(jié)晶體管)的EM模型2.3 集成雙極晶體管的有源寄生效應(yīng)2.3.1 npn管工作于正向工作區(qū)和截止區(qū)的情況2.3.2 npn管工作于反向工作區(qū)的情況2.3.3 npn管工作于飽和區(qū)的情況2.3.4 降低寄生pnp管的方法技術(shù)展望:SiGe異質(zhì)結(jié)雙極晶體管習(xí)題第3章 MOS集成電路中的元件形成及其寄生效應(yīng)3.1 MOSFET晶體管的制造工藝3.1.1 MOSFET晶體管器件結(jié)構(gòu)與工作原理3.1.2 MOSFET的制造工藝3.2 CMOS集成電路的制造工藝3.2.1 p阱CMOS工藝3.2.2 n阱CMOS工藝3.2.3 雙阱CMOS工藝3.3 Bi-CMOS集成電路的制造工藝3.3.1 以CMOS工藝為基礎(chǔ)的Bi-CMOS工藝3.3.2 以雙極型工藝為基礎(chǔ)的Bi-CMOS工藝3.4 MOS集成電路中的有源寄生效應(yīng)3.4.1 場(chǎng)區(qū)寄生MOSFET3.4.2 寄生雙極型晶體管3.4.3 CMOS集成電路中的閂鎖效應(yīng)技術(shù)展望:絕緣體上硅(SOI)技術(shù)習(xí)題第4章 集成電路中的無源元件4.1 集成電阻器4.1.1 雙極集成電路中的常用電阻4.1.2 MOS集成電路中常用的電阻4.2 集成電容器4.2.1 雙極集成電路中常用的集成電容器4.2.2 MOS集成電路中常用的電容器4.3 互連線4.3.1 多晶硅互連線4.3.2 擴(kuò)散層連線4.3.3 金屬互連線技術(shù)展望:鐵電電容器習(xí)題第5章 MOS晶體管基本原理與MOS反相器電路5.1 MOS晶體管的電學(xué)特性5.1.1 MOS晶體管基本電流方程的導(dǎo)出5.1.2 MOS晶體管I-V特性5.1.3 MOS晶體管的閾值電壓和導(dǎo)電特性5.1.4 MOS晶體管的襯底偏壓效應(yīng)5.1.5 MOS晶體管的二級(jí)效應(yīng)5.1.6 MOS晶體管的電容5.2 MOS反相器5.2.1反相器的基本概念5.2.2 E/R型nMOS反相器(電阻負(fù)載型MOS反相器)5.2.3 E/E型nMOS反相器(增強(qiáng)型nMOS負(fù)載反相器)5.2.4 E/D型nMOS反相器(耗盡型nMOS負(fù)載反相器)5.2.5 CMOS反相器技術(shù)展望:3D晶體管習(xí)題第6章 CMOS靜態(tài)門電路6.1 基本CMOS靜態(tài)門6.1.1 CMOS與非門6.1.2 CMOS或非門6.2 CMOS復(fù)合邏輯門6.2.1 異或門6.2.2 其他復(fù)合邏輯門6.3 MOS管的串并聯(lián)特性6.3.1 晶體管串聯(lián)的情況6.3.2 晶體管并聯(lián)的情況6.3.3 晶體管尺寸的設(shè)計(jì)6.4 CMOS靜態(tài)門電路的功耗6.4.1 CMOS靜態(tài)邏輯門電路功耗的組成6.4.2 降低電路功耗的方法6.5 CMOS靜態(tài)門電路的延遲6.5.1 延遲時(shí)間的估算方法6.5.2 緩沖器最優(yōu)化設(shè)計(jì)6.6 功耗和延遲的折中技術(shù)展望:減少短脈沖干擾信號(hào)功耗習(xí)題第7章 傳輸門邏輯和動(dòng)態(tài)邏輯電路7.1 基本的傳輸門7.1.1 nMOS傳輸門7.1.2 pMOS傳輸門7.1.3 CMOS傳輸門7.2 傳輸門邏輯電路7.2.1 傳輸門邏輯電路舉例7.2.2 傳輸門邏輯的特點(diǎn)7.3 基于二叉判決圖BDD的傳輸門邏輯生成方法7.4 基本動(dòng)態(tài)CMOS邏輯電路7.4.1 基本CMOS動(dòng)態(tài)邏輯電路的工作原理7.4.2 動(dòng)態(tài)邏輯電路的優(yōu)缺點(diǎn)7.5 傳輸門隔離動(dòng)態(tài)邏輯電路7.5.1 傳輸門隔離動(dòng)態(tài)邏輯電路工作原理7.5.2 傳輸門隔離多級(jí)動(dòng)態(tài)邏輯電路的時(shí)鐘信號(hào)7.5.3 多米諾邏輯7.6 動(dòng)態(tài)邏輯電路中存在的問題及解決方法7.6.1 電荷泄漏7.6.2 電荷共享7.6.3 時(shí)鐘饋通7.6.4 體效應(yīng)技術(shù)展望:如何選擇邏輯類型習(xí)題第8章 時(shí)序邏輯電路8.1 電荷的存儲(chǔ)機(jī)理8.1.1 靜態(tài)存儲(chǔ)機(jī)理8.1.2 動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)機(jī)理8.2 電平敏感鎖存器8.2.1 SR靜態(tài)鎖存器8.2.2 時(shí)鐘脈沖控制SR靜態(tài)鎖存器8.2.3 CMOS靜態(tài)邏輯結(jié)構(gòu)D鎖存器8.2.4 基于傳輸門多選器的D鎖存器8.2.5 動(dòng)態(tài)鎖存器8.3 邊沿觸發(fā)寄存器8.3.1 寄存器的幾個(gè)重要參數(shù)(建立時(shí)間、維持時(shí)間、傳輸時(shí)間)8.3.2 CMOS靜態(tài)主從結(jié)構(gòu)寄存器8.3.3 傳輸門多路開關(guān)型寄存器8.3.4 C2MOS寄存器8.4 其他類型寄存器8.4.1 脈沖觸發(fā)鎖存器8.4.2 靈敏放大器型寄存器8.4.3 靈敏放大器型寄存器8.5 帶復(fù)位及使能信號(hào)的D寄存器8.5.1 同步復(fù)位D寄存器8.5.2 異步復(fù)位D寄存器8.5.3 帶使能信號(hào)的同步復(fù)位D寄存器8.6 寄存器的應(yīng)用及時(shí)序約束8.6.1 計(jì)數(shù)器8.6.2 時(shí)序電路的時(shí)序約束技術(shù)展望:異步數(shù)字系統(tǒng)習(xí)題第9章 MOS邏輯功能部件9.1 多路開關(guān)9.2 加法器和進(jìn)位鏈9.2.1 加法器定義9.2.2 全加器電路設(shè)計(jì)9.2.3 進(jìn)位鏈9.3 算術(shù)邏輯單元9.3.1 以傳輸門為主體的算術(shù)邏輯單元9.3.2 以靜態(tài)邏輯門電路為主體的算術(shù)邏輯單元9.4 移位器9.5 乘法器技術(shù)展望:片上系統(tǒng)(SOC)技術(shù)習(xí)題第10章 半導(dǎo)體存儲(chǔ)器10.1 存儲(chǔ)器概述10.1.1 存儲(chǔ)器的分類10.1.2 存儲(chǔ)器的相關(guān)性能參數(shù)10.1.3 半導(dǎo)體存儲(chǔ)器的結(jié)構(gòu)10.2 非揮發(fā)性只讀存儲(chǔ)器10.2.1 ROM的基本存儲(chǔ)單元10.2.2 MOS OR和NOR型ROM10.2.3 MOS NAND型ROM10.2.4 預(yù)充式ROM10.2.5 一次性可編程ROM10.3 非揮發(fā)性讀寫存儲(chǔ)器10.3.1 可擦除可編程ROM10.3.2 電可擦除可編程ROM10.3.3 FLASH存儲(chǔ)器10.4 隨機(jī)存取存儲(chǔ)器10.4.1 SRAM10.4.2 DRAM10.5 存儲(chǔ)器外圍電路10.5.1 地址譯碼單元10.5.2 靈敏放大器10.5.3 時(shí)序和控制電路技術(shù)展望:高密度存儲(chǔ)器習(xí)題第11章 模擬集成電路基礎(chǔ)11.1 模擬集成電路中的特殊元件11.1.1 MOS可變電容11.1.2 集成雙極型晶體管11.1.3 集成MOS管11.2 MOS晶體管及雙極晶體管的小信號(hào)模型11.2.1 MOS晶體管的小信號(hào)模型11.2.2 雙極晶體管的小信號(hào)模型11.3 恒流源電路11.3.1 電流源11.3.2 電流基準(zhǔn)電路11.4 基準(zhǔn)電壓源電路11.4.1 基準(zhǔn)電壓源的主要性能指標(biāo)11.4.2 帶隙基準(zhǔn)電壓源的基本原理11.5 單級(jí)放大器11.5.1 MOS集成電路中的單級(jí)放大器11.5.2 雙極集成電路中的單級(jí)放大器11.6 差動(dòng)放大器11.6.1 MOS差動(dòng)放大器11.6.2 雙極晶體管差動(dòng)放大器技術(shù)展望:低壓低功耗模擬集成電路技術(shù)習(xí)題第12章 D/A及A/D變換器12.1 D/A變換器基本概念12.1.1 D/A變換器基本原理12.1.2 D/A變換器的分類12.1.3 D/A變換器的技術(shù)指標(biāo)12.2 D/A變換器的基本類型12.2.1 電流定標(biāo)D/A變換器12.2.2 電壓定標(biāo)D/A變換器12.2.3 電荷定標(biāo)D/A變換器12.3 A/D變換器的基本概念12.3.1 A/D變換器基本原理12.3.2 A/D變換器的分類12.3.3 A/D變換器的主要技術(shù)指標(biāo)12.4 A/D變換器的常用類型12.4.1 積分型A/D變換器12.4.2 逐次逼近式(SAR)A/D變換器12.4.3 ∑-△A/D變換器12.4.4 全并行ADC12.4.5 流水線A/D變換器技術(shù)展望:A/D變換器的發(fā)展方向習(xí)題參考文獻(xiàn)

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