鈉工藝基礎(chǔ)

出版時間:2011-4  出版社:徐囗 原子能出版社 (2011-04出版)  作者:徐囗  頁數(shù):110  

內(nèi)容概要

  《鈉工藝基礎(chǔ)》介紹了實(shí)驗(yàn)快堆中鈉的工藝,主要講述了鈉的性質(zhì)、鈉的凈化、鈉中雜質(zhì)的化學(xué)分析、鈉中雜質(zhì)的在線分析、鈉回路及其設(shè)備、覆蓋氣體、沾鈉設(shè)備的清洗、鈉火消防、金屬鈉安全操作規(guī)程等?!垛c工藝基礎(chǔ)》適合從事金屬鈉研究和使用會屬鈉的人員閱讀。

書籍目錄

第1章  鈉的性質(zhì)  1.1  鈉的物理性質(zhì)    1.1.1  鈉的主要物理性質(zhì)    1.1.2  鈉同位素的中子截面    1.1.3  放射性廢鈉的性質(zhì)    1.1.4  鈉的比重    1.1.5  鈉的飽和蒸氣壓    1.1.6  鈉的摩爾熱容  1.2  鈉的化學(xué)性質(zhì)  1.3  雜質(zhì)在鈉中的溶解度和金屬鈉的制造    1.3.1  雜質(zhì)在鈉中的溶解度    1.3.2  鈉的制造  1.4  鈉作為冷卻劑的性能比較第2章  鈉的凈化  2.1  雜質(zhì)來源    2.1.1  一回路鈉中雜質(zhì)來源    2.1.2  二回路鈉中雜質(zhì)來源  2.2  鈉的凈化方法    2.2.1  過濾    2.2.2  冷阱    2.2.3  熱阱    2.2.4  真空蒸餾    2.2.5  鈉中鈣的除去    2.2.6  鈉中放射性雜質(zhì)的除去第3章  鈉中雜質(zhì)的化學(xué)分析  3.1  鈉的取樣    3.1.1  一回路鈉取樣器    3.1.2  二回路鈉取樣器  3.2  鈉中雜質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)  3.3  鈉中雜質(zhì)的化學(xué)分析    3.3.1  鈉中氧的化學(xué)分析    3.3.2  鈉中碳的分析    3.3.3  鈉中氫的分析    3.3.4  鈉中氮的分析    3.3.5  鈉中鐵的分析    3.3.6  鈉中鈣的分析    3.3.7  鈉中鉀的分析    3.3.8  鈉中氯的分析第4章  鈉中雜質(zhì)的在線分析  4.1  阻塞計    4.1.1  原理    4.1.2  結(jié)構(gòu)    4.1.3  阻塞計儀控電系統(tǒng)    4.1.4  操作步驟  4.2  氧計  4.3  氫計    4.3.1  擴(kuò)散型氫計    4.3.2  電化學(xué)氫計    4.3.3  CEFR化學(xué)氫計  4.4  水泄漏人鈉中的脈沖一噪聲探測器    4.4.1  結(jié)構(gòu)和原理    4.4.2  性能  4.5  一回路鈉中放射性雜質(zhì)的測量第5章  鈉回路及其設(shè)備  5.1  鈉工藝試驗(yàn)回路流程  5.2  鈉輸送容器充鈉前的準(zhǔn)備  5.3  CEFR鈉系統(tǒng)充鈉前的準(zhǔn)備    5.3.1  不能抽空的系統(tǒng)的氬氣置換    5.3.2  可抽空的系統(tǒng)的氬氣置換  5.4  回路預(yù)熱    5.4.1  回路加熱方式    5.4.2  回路電加熱設(shè)置原則    5.4.3  電器控制    5.4.4  預(yù)熱功率計算  5.5  回路充鈉  5.6  冷凍和熔化  5.7  電磁泵    5.7.1  原理    5.7.2  電磁泵的分類  5.8  鈉閥    5.8.1  冷凍密封閥    5.8.2  波紋管密封閥  5.9  流量測量    5.9.1  永磁式鈉流量計    5.9.2  內(nèi)潛式鈉流量計  5.10  壓力測量    5.10.1  膜片壓力計    5.10.2  波紋管壓力計    5.10.3  CEFR壓力傳感器  5.11  液位測量    5.11.1  觸點(diǎn)式液位計    5.11.2  電阻式液位計    5.11.3  電感式液位計  5.12  蒸汽發(fā)生器水泄漏    5.12.1  蒸汽發(fā)生器選材    5.12.2  水泄漏  5.13  氫計測定蒸汽發(fā)生器鈉一水反應(yīng)    5.13.1  蒸汽發(fā)生器的運(yùn)行參數(shù)    5.13.2  鈉流道面積和鈉流速    5.13.3  氫計測定蒸汽發(fā)生器鈉一水反應(yīng)第6章  覆蓋氣體  6.1  一、二回路覆蓋氣體    6.1.1  氬氣接收系統(tǒng)    6.1.2  一次氬氣分配系統(tǒng)    6.1.3  二次氬氣分配系統(tǒng)  6.2  雜質(zhì)來源  6.3  氣體凈化  6.4  氣體中雜質(zhì)的測量    6.4.1  覆蓋氣體的雜質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)    6.4.2  雜質(zhì)的測量方法  6.5  鈉蒸氣阱第7章  沾鈉設(shè)備的清洗  7.1  清洗方法  7.2  安全措施  7.3  清洗臺架    7.3.1  CEFR設(shè)備清洗系統(tǒng)    7.3.2  CEFR乏燃料組件清洗第8章  鈉火消防  8.1  鈉的火險性    8.1.1  引起鈉火原因    8.1.2  鈉火特性  8.2  鈉氣溶膠的除去    8.2.1  鈉氣溶膠的特性    8.2.2  鈉氣溶膠的顆粒尺寸    8.2.3  氣溶膠除去裝置  8.3  快堆滅鈉火的設(shè)備    8.3.1  非能動設(shè)備    8.3.2  能動設(shè)備    8.3.3  鈉氣溶膠除去系統(tǒng)    8.3.4  滅火劑    8.3.5  房間要求    8.3.6  鈉火監(jiān)測第9章  金屬鈉安全操作規(guī)程  9.1  事故起因及處理辦法    9.1.1  事故起因    9.1.2  事故處理辦法    9.1.3  眼睛燒傷處理辦法    9.1.4  鈉煙傷害處理辦法  9.2  個人防護(hù)手段必須遵守的原則  9.3  堿金屬包裝容器開啟時的注意事項(xiàng)  9.4  堿金屬運(yùn)輸?shù)囊? 9.5  勞動衛(wèi)生  9.6  體檢  9.7  急救參考文獻(xiàn)

編輯推薦

隨著中國鈉冷快堆研發(fā)工作的展開,需要對快堆的運(yùn)行人員進(jìn)行關(guān)于鈉工藝基礎(chǔ)的培訓(xùn)。由于鈉冷快堆是一種新的堆型,作為堆的冷卻劑也完全不同。因此,需要重新編制出相應(yīng)的書來滿足我國發(fā)展快堆的要求。《鈉工藝基礎(chǔ)》是作者洪順章根據(jù)長期的工作經(jīng)驗(yàn)并參考國內(nèi)外相關(guān)文獻(xiàn)的基礎(chǔ)上,圍繞中國實(shí)驗(yàn)快堆的實(shí)際情況編寫的。    金屬鈉廣泛地用于化工、染料、冶金、制藥、電光源及其他領(lǐng)域的傳熱介質(zhì),作者希望本書對從事金屬鈉研究和使用金屬鈉的人員有所幫助。

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