X射線熒光光譜分析基礎(chǔ)

內(nèi)容概要

　　X射線熒光光譜分析作為一重要的分析手段近二十年來(lái)已廣泛地應(yīng)用在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各領(lǐng)域?！　∽鳛橐槐救腴T書，本簡(jiǎn)明教程系統(tǒng)地介紹了X射線熒光光譜的基本原理，X射線熒光光譜儀的基本構(gòu)造和組成部件的工作原理；定性分析和定量分析方法；為提高分析正確度的常用方法、手段和注意事項(xiàng)；涉及各領(lǐng)域物料和分析對(duì)象的樣品制備方法和技術(shù)；X射線熒光光譜分析和X射線熒光光譜儀的最新動(dòng)態(tài)和前景?！　”窘坛踢€有大量常用基本參數(shù)和數(shù)據(jù)作為附錄　　教程編寫力求簡(jiǎn)明扼要，通俗易懂。

書籍目錄

前言第一章 X射線熒光光譜原理1.1 概述1.2 X射線和X射線光譜1.2.1 X射線的特征1.2.2 X射線光譜1.2.3 X射線和物質(zhì)的作用1.3 特征熒光X射線1.4 X射線的吸收和散射1.4.1 X射線的吸收1.4.2 X射線的散射1.5 X射線的分光1.6 X射線熒光光譜分析的特點(diǎn)和應(yīng)用1.6.1 特點(diǎn)1.6.2 應(yīng)用第二章 波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀2.1 儀器的組成2.2 熒光X射線的激發(fā)2.2.1 X射線高壓發(fā)生器2.2.2 X射線管2.2.3 熱交換器2.2.4 一次X射線濾光片2.2.5 X射線光路2.3 熒光X射線的分光2.3.1 限制光欄2.3.2 衰減器2.3.3 準(zhǔn)直器2.3.4 分光晶體2.4 熒光X射線的探測(cè)和脈沖高度分析2.4.1 正比計(jì)數(shù)器2.4.2 閃爍計(jì)數(shù)器2.4.3 脈沖高度分布和脈沖高度分析器2.4.4 2(5)聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)2.4.5 流氣型正比計(jì)數(shù)器芯線污染和清潔2.4.6 氣體密度穩(wěn)定器2.5 測(cè)角儀2.6 固定道背景自動(dòng)扣除裝置第三章 定性分析和半定量分析3.1 定性分析3.1.1 定性分析方法的建立3.1.2 定性分析譜圖解析3.1.3 譜峰分解3.1.4 背景計(jì)算和扣除3.2 半定量分析3.2.1 半定量分析的一般情況3.2.2 光電子基本參數(shù)法3.2.3 散射線基本參數(shù)法3.3 元素分布分析3.3.1 γ-θ樣品臺(tái)3.3.2 元素分布分析3.3.3 微小區(qū)域分布分析第四章 定量分析4.1 概述4.2 定量分析中的基體效應(yīng)4.2.1 吸收效應(yīng)4.2.2 增強(qiáng)效應(yīng)4.3 基體效應(yīng)的數(shù)學(xué)校正4.3.1 經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法4.3.2基本參數(shù)法4.3.3 理論影響系數(shù)法4.4 實(shí)驗(yàn)校正法4.4.1 內(nèi)標(biāo)法4.4.2 標(biāo)準(zhǔn)加入法(增量法)4.4.3 稀釋法4.5 定量分析的譜線干擾和校正4.5.1 定量分析的譜線干擾4.5.2 譜線干擾的消除和校正4.6 定量分析步驟4.6.1 定量分析測(cè)定條件選擇4.6.2 定量分析流程4.7 定量分析誤差4.7.1 誤差的種類4.7.2 統(tǒng)計(jì)誤差的處理4.7.3 精密度和準(zhǔn)確度4.7.4 死時(shí)間和計(jì)數(shù)的漏計(jì)4.7.5 靈敏度 檢測(cè)限 測(cè)定下限4.8 定量分析管理4.8.1 X射線強(qiáng)度的標(biāo)準(zhǔn)化4.8.2 分析管理4.9 薄膜和多層膜分析4.9.1 薄膜X射線熒光光譜分析的一般概念4.9.2 多層薄膜的基本參數(shù)法4.9.3 薄膜分析的應(yīng)用第五章 取樣、制樣和樣品保管5.1 X射線熒光分析樣品誤差的類型5.2 樣品制備的一般方法5.3 金屬樣品的取樣和制樣5.3.1 金屬樣品的取樣5.3.2 金屬樣品的表面處理5.4 粉末樣品的取樣和制樣5.4.1 粉末樣品的主要誤差來(lái)源5.4.2 取樣5.4.3 壓片法5.4.4 特殊粉末制樣法5.5 熔融制樣法5.5.1 玻璃熔片法5.5.2 熔融條件的選擇5.5.3 熔融過(guò)程和注意事項(xiàng)5.6 液體樣品的取樣和制樣5.6.1 直接溶液法5.6.2 紙上點(diǎn)滴法5.6.3 分離富集法5.7 特殊樣品制樣法5.8 樣品的保存5.8.1 金屬樣品的保存5.8.2 粉末樣品的保存第六章 能量色散及其他x射線熒光光譜分析方法6.1 能量色散X射線熒光光譜分析6.1.1 概述6.1.2 能量色散X射線熒光光譜儀6.1.3 應(yīng)用6.2 全反射X射線熒光光譜分析6.2.1 概述6.2.2 全反射X射線熒光光譜儀6.2.3 應(yīng)用6.3 同步輻射X射線熒光光譜分析6.3.1 概述6.3.2 同步輻射源6.3.3 應(yīng)用6.4 微束X射線熒光光譜分析6.4.1 概述6.4.2 微東X射線熒光光譜儀6.4.3 應(yīng)用6.5 質(zhì)子激發(fā)X射線分析6.5.1 概述6.5.2 質(zhì)子激發(fā)X射線分析裝置6.5.3 應(yīng)用參考文獻(xiàn)附錄1 物理和化學(xué)基本常數(shù)附錄2 元素及化合物密度附錄3 吸收限波長(zhǎng)和臨界激發(fā)能量附錄4 特征X射線波長(zhǎng)和能量附錄5 K殼層熒光產(chǎn)額ωk附錄6 K系伴線波長(zhǎng)(A)附錄7 K系線輻射躍遷幾率附錄8 干擾譜線表附錄9(a) 質(zhì)量吸收系數(shù)(μ/ρ：Cm2/g)附錄9(b) 質(zhì)量吸收系數(shù)(Mα、Mβ線)附錄10 熔融制樣燒失量校正方法和實(shí)例

編輯推薦

　　本書是一本介紹x射線熒光光譜分析基礎(chǔ)知識(shí)的書，闡述了x射線光譜分析的物理基礎(chǔ)；波長(zhǎng)色散型X射線熒光光譜儀的基本結(jié)構(gòu)、部件工作原理；定性、半定量、定量、薄膜、鍍層分析的相關(guān)理論、分析方法、干擾因素和校正方法以及各類分析樣品的制樣技術(shù)。本書還介紹了x射線熒光分析領(lǐng)域國(guó)內(nèi)外近年的一些新進(jìn)展，其中包括能量色散X射線熒光分析、全反射X射線熒光分析、同步輻射x射線熒光分析、微束x射線熒光分析及質(zhì)子激發(fā)X射線分析等的原理、儀器和應(yīng)用。書后附有常用的物理常數(shù)、參數(shù)及應(yīng)用實(shí)例?！　”緯勺鰪氖聏射線熒光光譜分析人員的入門教材，也可為分析化學(xué)領(lǐng)域的科研人員、分析人員和大專院校學(xué)生提供有益的參考。

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