光學投影曝光微納加工技術(shù)

內(nèi)容概要

　　《光學投影曝光微納加工技術(shù)》系統(tǒng)介紹主流光刻技術(shù)——光學投影光刻的工作原理、系統(tǒng)組成、應用和發(fā)展前景，詳細介紹投影光刻物鏡、掩模硅片對準、激光定位工件臺、分辨力增強技術(shù)以及整機集成。

作者簡介

　　姚漢民　1944年11月生，男，1966年畢業(yè)于浙江大學光學儀器系光學儀器專業(yè)，研究員，博士生導師。曾任中國科學院成都分院院長、光電技術(shù)研究所所長、微細加工光學技術(shù)國家重點實驗室主任。長期從事光電跟蹤光學儀器和微電子光學設(shè)備的研究，1979年至今，參加JX-1型接近／接觸式光刻機，圓形電子束、可變矩形電子束曝光機激光定位工件臺系統(tǒng)，掩模缺陷自動檢測系統(tǒng)，1．5 pan～2 btm分步重復投影光刻機等研究工作。主持國家“八五”攻關(guān)項目O．8 μm～1μm投影光刻機、中國科學院重大項目0．7μm～O．8 μmi線投影曝光系統(tǒng)的研究。作為項目負責人，主持完成“九五”重大項目O．35μm投影光刻關(guān)鍵單元技術(shù)研究。作為首席專家完成中國科學院知識創(chuàng)新工程重大方向性項目“生物芯片儀器”項目研究。先后獲國家科技進步三等獎兩項，中國科學院科技進步一等獎四項、科技進步二等獎一項?！　‖F(xiàn)為國際SPIE學會會員，中國光學學會會員，四川省學術(shù)和技術(shù)帶頭人。1991年享

書籍目錄

前言第一章　光學投影光刻基礎(chǔ)第一節(jié)　微納光刻技術(shù)概述一、微納加工光刻技術(shù)二、微納加工光刻技術(shù)分類第二節(jié)　光學投影光刻一、光學投影光刻簡介二、光學投影光刻技術(shù)的發(fā)展三、光學投影光刻機分系統(tǒng)及關(guān)鍵單元技術(shù)四、光學投影光刻在微納加工技術(shù)中的應用參考文獻第二章　投影曝光光學系統(tǒng)第一節(jié)　投影光刻物鏡一、光學基礎(chǔ)二、投影光刻物鏡的光學材料三、投影光刻物鏡的光學設(shè)計與評價四、投影光刻物鏡的機械結(jié)構(gòu)設(shè)計與制造第二節(jié)　均勻照明系統(tǒng)一、概述二、紫外光照明系統(tǒng)三、準分子激光深紫外照明系統(tǒng)第三節(jié)　調(diào)焦調(diào)平系統(tǒng)一、概述二、檢焦技術(shù)三、整場調(diào)平逐場調(diào)焦四、逐場和實時調(diào)平調(diào)焦參考文獻第三章　掩模硅片對準第一節(jié)　概述一、對準工作原理二、對準技術(shù)和方法第二節(jié)　離軸對準技術(shù)一、CCD視頻圖像離軸對準的工作原理二、CCD視頻圖像離軸對準的對準標記、對準算法和精度分析第三節(jié)　同軸對準技術(shù)一、TIL衍射光柵同軸對準光學原理二、TIL對準標記三、TIL對準控制系統(tǒng)及數(shù)字信號處理第四節(jié)　同軸對準與離軸對準相結(jié)合的對準技術(shù)一、深紫外光刻對對準系統(tǒng)的要求二、深紫外光刻的對準過程三、深紫外光刻對準系統(tǒng)的對準標記四、雙激光多級衍射光柵離軸對準(ATHENA)光學原理五、ATHENA離軸對準的對準算法及工藝適應性六、深紫外光刻同軸對準原理第五節(jié)　硅片傳輸與硅片預對準技術(shù)一、硅片傳輸系統(tǒng)二、硅片預對準技術(shù)第六節(jié)　掩模傳輸與掩模預對準技術(shù)一、掩模傳輸系統(tǒng)二、掩模預對準技術(shù)參考文獻第四章　精密定位工件臺第一節(jié)　精密定位工件臺概述一、精密定位工件臺的功能二、精密定位工件臺的分類三、精密定位工件臺的發(fā)展概況第二節(jié)　工件臺系統(tǒng)精度分析一、測量系統(tǒng)誤差二、機械系統(tǒng)誤差三、控制系統(tǒng)誤差四、環(huán)境誤差第三節(jié)　工件臺的技術(shù)指標與檢測方法一、靜態(tài)性能方面二、動態(tài)性能方面三、工件臺的主要性能指標第四節(jié)　精密硅片工件臺的機械結(jié)構(gòu)一、光刻機工件臺的母軌種類二、光刻機工件臺的傳動機構(gòu)與驅(qū)動電機三、二軸粗動臺與三軸微動臺的結(jié)構(gòu)及特點四、掃描式硅片工件臺和掩模工件臺五、氣浮工件臺的氣足設(shè)計第五節(jié)　雙頻激光干涉測量系統(tǒng)一、雙頻激光干涉測量系統(tǒng)二、測量系統(tǒng)布局和坐標計算方法三、雙頻激光干涉測量系統(tǒng)的裝配調(diào)整四、雙頻激光干涉測量系統(tǒng)誤差分析第六節(jié)　工件臺控制系統(tǒng)設(shè)計一、三維精密工件臺控制系統(tǒng)設(shè)計二、三維氣浮工件臺控制系統(tǒng)設(shè)計參考文獻第五章　分辨力增強技術(shù)第一節(jié)　波前工程原理第二節(jié)　離軸照明技術(shù)一、OAI提高投影光刻成像系統(tǒng)分辨力和增大焦深的基本原理二、四極照明三、環(huán)形照明四、二元光柵照明第三節(jié)　相移掩模技術(shù)一、PSM提高光刻分辨力的原理-二、LevensonPSM三、邊緣PSM四、輔助PSM五、無鉻PSM六、衰減PSM第四節(jié)　光學鄰近效應校正技術(shù)一、鄰近效應現(xiàn)象與校正原理二、線條偏置法三、添加輔助線條法四、灰階掩模法第五節(jié)　光瞳濾波技術(shù)一、光瞳濾波(PF)提高光刻分辨力的原理二、振幅光瞳濾波三、相移光瞳濾波第六節(jié)　偏振成像控制技術(shù)一、偏振成像控制提高光刻分辨力的原理二、偏振成像控制方法參考文獻第六章　投影光刻整機集成第一節(jié)　整機的主要性能一、光刻動態(tài)分辨力與線條質(zhì)量二、套刻坐標系及套刻精度三、投影光刻機的生產(chǎn)效率四、整機的可靠性第二節(jié)　投影光刻機整機電控系統(tǒng)一、控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)二、電源系統(tǒng)第三節(jié)　投影光刻機整機軟件設(shè)計一、投影光刻機的工作流程二、整機測試軟件三、整機軟件框架第四節(jié)　環(huán)境控制系統(tǒng)一、對投影光刻機內(nèi)部環(huán)境控制系統(tǒng)的要求及其組成二、投影光刻機內(nèi)部環(huán)境控制系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)三、投影光刻機對外部環(huán)境的要求第五節(jié)　整機框架設(shè)計一、投影光刻機的振動源二、框架材料與線膨脹控制三、整機框架結(jié)構(gòu)實例參考文獻第七章　投影光刻技術(shù)的發(fā)展趨勢及納米光刻新技術(shù)的前景展望第一節(jié)　光學投影光刻技術(shù)的潛力第二節(jié)　光學投影光刻技術(shù)的最新進展第三節(jié)　納米光刻新技術(shù)的前景展望一、納米壓印技術(shù)二、表面等離子體光學光刻三、原子光刻四、結(jié)語參考文獻附錄：國際主要投影光刻設(shè)備廠商機器型號

編輯推薦

　　本書系統(tǒng)地介紹了光學光刻技術(shù)的發(fā)展歷史、主流光刻技術(shù)——光學投影光刻的工作原理、分類、組成的分系統(tǒng)及關(guān)鍵單元技術(shù)、技術(shù)發(fā)展趨勢和前景。這本書是對我國光學光刻技術(shù)20多年來的工作實踐和創(chuàng)新成果的系統(tǒng)總結(jié)，同時還介紹了光學投影光刻的最新進展和納米光刻新技術(shù)的前景展望。各章節(jié)選題和結(jié)構(gòu)合理。本書可作為微電子設(shè)備專業(yè)領(lǐng)域的科技人員和從事半導體、微機械、微光學、紅外器件、顯示器件等微(米)納(米)加工技術(shù)領(lǐng)域的科技人員的技術(shù)參考書，同時還可作為相關(guān)高等院校教師、研究生和本科生的參考用書。

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