出版時(shí)間:2004-9 出版社:第1版 (2004年9月1日) 作者:胡傳炘
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內(nèi)容概要
本書在綜合論述隱身技術(shù)的基礎(chǔ)上,重點(diǎn)介紹了光學(xué)(含近紅外)隱身涂層、激光隱身涂層、雷達(dá)隱身涂層、紅外隱身涂層,特別詳細(xì)敘述了各種隱身涂層新技術(shù),如納米復(fù)合隱身涂層、新型雷達(dá)吸收劑制備技術(shù)、吸波涂層計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)、新型偽裝網(wǎng)等。本書可供相關(guān)專業(yè)的高等學(xué)校師生、研究人員和工程技術(shù)人員參考,也可供對(duì)隱身技術(shù)有興趣的讀者閱讀。
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