出版時(shí)間:2003-10 出版社:化學(xué)工業(yè)出版社 作者:劉平安
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內(nèi)容概要
本書(shū)在對(duì)X射線衍射分析原理簡(jiǎn)單介紹基礎(chǔ)上,選出了許多有代表性的應(yīng)用實(shí)例,重點(diǎn)介紹X射線分析法在新型材料研究方面的應(yīng)用。全書(shū)共10章。第1章為概述。第2-第5章為X射線衍射分析法基礎(chǔ)理論部分。第6、第7章為X線衍射物相定性和定量分析方法。第8章為衍射系統(tǒng)的消光概念及應(yīng)用。第9章為應(yīng)用實(shí)例。第10章為Rietveld方法簡(jiǎn)介。本書(shū)可作為高等學(xué)校化工、材料類(lèi)專(zhuān)業(yè)有關(guān)“測(cè)試方法”、“材料結(jié)構(gòu)”課程本科生、研究生的教材,也可作為相關(guān)科研工作者及廠礦技術(shù)人員的參考書(shū)。
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