聚合物表面分析

出版時(shí)間:2001-11  出版社:化學(xué)工業(yè)出版社  作者:布里格斯  譯者:曹立禮  

內(nèi)容概要

本書深入論述了X射線光電子譜(XPS)和靜態(tài)次級(jí)離子質(zhì)譜(SSIMS)及其在聚合物材料研究中的應(yīng)用。在聚合物表面的結(jié)構(gòu)分析與特性研究,特別是解決工業(yè)研究中有關(guān)問題時(shí),XPS和SSIMS普遍被認(rèn)為是強(qiáng)有力的技術(shù)。隨著過(guò)去十年儀器分析能力和數(shù)據(jù)闡釋方面的飛速發(fā)展,該領(lǐng)域已經(jīng)發(fā)展到有可能將這兩方面的信息合并起來(lái)的階段。本書中,作者敘述了XPS和SSIMS技術(shù),并就各自可獲得的住處類型分別作了解釋。本書也包含實(shí)際研究細(xì)節(jié),強(qiáng)調(diào)了在聚合物表面結(jié)構(gòu)研究中,XPS和SSIMS的信息互與聯(lián)合作用,及其同材料性質(zhì)的關(guān)聯(lián)。對(duì)那些有志于聚合物表面和表面分析科學(xué)工作者、工業(yè)研究人員,本書是很有考參價(jià)值的。

書籍目錄

第一章  引言
1.1 聚合物表面的重要性
1.2 聚合物表面和體相的差異
1.3 添加劑和污染物的影響
1.4 聚合物表面預(yù)處理及改性
1.5 與表面特性有關(guān)的深度范圍
1.6 聚合物表面分析技術(shù)的要求
1.7 XPS簡(jiǎn)要?dú)v史
1.8 SIMS簡(jiǎn)要?dú)v史
第二章 X射線光電子譜
2.1 儀器結(jié)構(gòu)
2.2 物理基礎(chǔ)
第三章 聚合物的XPS信息

圖書封面

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