出版時間:2001-6 出版社:冶金工業(yè)出版社 作者:戴達(dá)煌
內(nèi)容概要
這是一本較全面地敘述金剛石薄膜沉積制備工藝與應(yīng)用的書。本書從金剛石薄膜的優(yōu)異性能和應(yīng)用前景出發(fā),闡述了各種沉積薄膜的制備方法;論述了金剛石薄膜的非平衡熱力學(xué)和金剛石膜聲場的動力學(xué)因素;較詳盡地探討了能大面積沉積金剛石膜的熱絲裝置和當(dāng)今沉積速率最高的等離子射流裝置的一些關(guān)鍵技術(shù)和成膜關(guān)鍵技術(shù)和成膜工藝;同時介紹了性能接近金剛石膜、易實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化、應(yīng)用前景看好的雷金剛石膜的制備工藝、性能和應(yīng)用。最后展望了金剛石膜未來的發(fā)展前景,指出金剛石膜必將成為21世紀(jì)有影響的功能薄膜材料。
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