薄膜材料制備原理、技術(shù)及應(yīng)用

內(nèi)容概要

　　本書以薄膜材料為中心，系統(tǒng)地介紹了薄膜技術(shù)中常用的真空技術(shù)基礎(chǔ)知識(shí)，各種物理和化學(xué)氣相沉積技術(shù)和方法，薄膜材料的形核及生長(zhǎng)理論，薄膜材料微觀結(jié)構(gòu)的形成以及薄膜材料的厚度、微觀結(jié)構(gòu)和成分的表征方法等。在此基礎(chǔ)上，本書還有選擇地討論了薄膜材料在力學(xué)、光電子學(xué)、磁學(xué)等領(lǐng)域的典型應(yīng)用實(shí)例，其中涉及各種機(jī)械防護(hù)涂層、金剛石膜、光電子器件、集成光學(xué)器件、磁記錄及光記錄介質(zhì)材料等技術(shù)?！　”緯勺鳛楦叩葘W(xué)校材料、物理及相關(guān)專業(yè)本科生、研究生及老師的教學(xué)參考書，也可供從事薄膜材料制備、研究的工程技術(shù)人員參考

書籍目錄

1 薄膜制備的真空技術(shù)基礎(chǔ)  1.1 氣體分子運(yùn)動(dòng)論的基本概念  1.2 氣體的流動(dòng)狀態(tài)和真空抽速  1.3 真空泵簡(jiǎn)介  1.4 真空的測(cè)量  參考文獻(xiàn)2 薄膜的物理氣相沉積（Ⅰ）——蒸發(fā)法  2.1 物質(zhì)的熱蒸發(fā)  2.2 薄膜沉積的厚度均勻性和純度  2.3 真空蒸發(fā)裝置  參考文獻(xiàn)3 薄膜的物理氣相沉積（Ⅱ）——濺射法及其他PVD方法  3.1 氣體放電現(xiàn)象與等離子體  3.2 物質(zhì)的濺射現(xiàn)象  3.3 濺射沉積裝置  3.4 其他物理氣相沉積方法  參考文獻(xiàn)4 薄膜的化學(xué)氣相沉積  4.1 化學(xué)氣相沉積反應(yīng)的類型  4.2 化學(xué)氣相沉積過程的熱力學(xué)  4.3 化學(xué)氣相沉積過程的動(dòng)力學(xué)  4.4 CVD薄膜沉積過程的數(shù)值模擬  4.5 化學(xué)氣相沉積裝置  4.6 等離子體輔助化學(xué)氣相沉積技術(shù)  參考文獻(xiàn)5 薄膜的生長(zhǎng)過程和薄膜結(jié)構(gòu)  5.1 薄膜生長(zhǎng)過程概述  5.2 新相的自發(fā)形核理論  5.3 薄膜的非自發(fā)形核理論  5.4 連續(xù)薄膜的形成  5.5 薄膜生長(zhǎng)過程與薄膜結(jié)構(gòu)  5.6 非晶薄膜  5.7 薄膜結(jié)構(gòu)  5.8 薄膜的外延生長(zhǎng)  5.9 薄膜中的應(yīng)力和薄膜的附著力  參考文獻(xiàn)6 薄膜材料的表征方法7 薄膜材料及其應(yīng)用

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