出版時間:2004-10 出版社:河北大學出版社 作者:董麗芳 頁數(shù):368 字數(shù):340000
內(nèi)容概要
本書共分4章。第1章介紹了介質阻擋放電中的斑圖動力學。斑圖動力學是非線性科學的一個重要分支,氣體放電中的斑圖動力學則為目前氣體放電動力學的一個前沿領域。作者在獨創(chuàng)的水電極介質阻擋放電裝置上,率先實現(xiàn)了多種時空斑圖,如正方形斑圖、準晶斑圖、迷宮斑圖、點線狀斑圖等,為斑圖動力學提供了一個全新的實驗系統(tǒng)。第2章介紹托卡馬克等離子體動力學,著重介紹等離子體湍流中相干結構的實驗觀察及理論分析。第3章介紹直流放電等離子體動力學的數(shù)值模擬,特別關注其在金剛石薄膜生長中的應用。第4章介紹激光等離子體化學氣相沉積動力學。
書籍目錄
第1章 氣體放電斑圖動力學
1.1 氬氣介質阻擋放電斑圖動力學
1.2 空氣介質阻擋放電斑圖動力學
1.3 介質阻擋放電時空動力學測量
第2章 托卡馬克等離子體動力學過程
2.1 分析磁約束等離子體湍流特性的統(tǒng)計方法
2.2 等離子體漲落的光學測量
2.3 等離子體湍流中的相干結構
第3章 電子助進熱絲化學氣相沉積動力學過程
3.1 蒙特卡羅(MONTE Carlo)方法解電子輸運問題
3.2 電子助進熱絲化學氣相沉積電子
3.3 電子助進熱絲化學氣相沉積氣相分解過程
3.4 電子助進熱絲化學氣相沉積中金剛石低溫生長機制
3.5 電子助進熱線化學氣相沉積的發(fā)射光譜診斷
第4章 激光等離子體化學氣相沉積動力學研究
4.1 激光等離子體化學氣相沉積中氣相過程研究
4.2 激光等離子體化學氣相沉積硅膜
圖書封面
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