出版時間:2008-4 出版社:袁樸 印刷工業(yè)出版社 (2008-04出版) 作者:袁樸 編 頁數(shù):182
內容概要
《2008印刷版材發(fā)展技術論壇論文集》主要介紹了印刷版材的新技術、應用以及發(fā)展趨勢、對國內印刷版材的研發(fā)人員、使用人員以及相關院校師生具有一定的指導作用。
書籍目錄
版材價格過高是限制CTP技術在報社印刷行業(yè)發(fā)展的主要因素CTP用鋁基材質量要求及典型質量問題分析高速卷筒生產線陽圖PS版感光膠技術控制印刷對鋁基材質量的要求平版印刷版材的鋁基支持體導論CTP版材成像質量的評價CTP技術的發(fā)展及CTP整體解決方案需要考慮的因素CTP印版的質量控制方案PS版版基表面處理條件對其質量參數(shù)的影響對PS版和CTP版表面粗糙度要求的探討決定CTP曝光質量的因素用于熱敏CTP版材的版基砂目研究CTdP系統(tǒng)的應用前景分析CTP版材家族中的重要一員——龍馬UV-CTP,藍激光新一代CTP版材CTP技術與版材全面分析DMD技術的PS版成像應用PS版毛面層技術UV-CTP制版系統(tǒng)技術發(fā)展動向從INFOPRINF2007看CTP系統(tǒng)方正雕龍CTP加快中國印刷業(yè)邁向數(shù)字化時代的進程CTP在高清晰度印刷中應用初探更貼近普通用戶的CTP向您走來光交聯(lián)型成像材料及其印刷基本性能研究光生酸劑光分解行為的研究環(huán)保型裸版噴墨CTP膠印版技術激光燒蝕無水膠印數(shù)字制版技術發(fā)展的障礙及解決途徑幾種用于CTP版材的成像體系的介紹內鼓式與外鼓式CTP直接制版機比較分析熱敏CTP版材性能測試方法的研究熱敏CTP版膠液配方的性能研究及評價熱敏CTP技術初探熱敏CTP一路領先,傳統(tǒng)CTP遭遇革命熱敏CTP制版最佳曝光參數(shù)測試熱敏技術是適合中國國情的CTP發(fā)展之路熱敏無處理版材技術一種基于功能聚合物微球的親和性變化熱敏成像體系研究中國銀鹽CTP版材打破國外壟斷CTP激光光源及技術分析基于網(wǎng)絡搜索的CTP主流技術分析實驗報告淺談CTP和CTCP實現(xiàn)高保真印刷的研究與實驗基于酸解型聚甲基丙烯酸酯的化學增幅成像材料及應用膠印印版專利匯編膠印印版專利匯編(英文)
章節(jié)摘錄
版權頁:插圖:鋁基體中的第二相多少以及第二相對腐蝕速度的影響,關鍵決定于鋁材的化學成分?;瘜W成分選擇需要取得腐蝕速度、腐蝕砂目均勻的平衡,需要有制版、印刷操作所需的基礎強度以及高速、長時間印刷條件下耐疲勞的良好結合。目前看1050合金是比較好的基礎合金,其次與鋁基材加工工藝密切相關。中國、日本、德國都是在此合金基礎上進行了相應的成分調控和工藝控制,從而獲得有利于電解的組織結構。其中日本與中國的化學成分控制幾乎一致,但是通過優(yōu)化加工工藝獲得較多的第二相質點,取得了較彌散、均勻的分布,因此電解效果比中國好。德國鋁基材的加工工藝與中國相近,通過調整微量元素,也獲得了較多的第二相質點和較理想的分布,因此電解效果也比中國的略好。晶界處原子排列不規(guī)則,是空位、位錯等晶體缺陷富集區(qū)域,不規(guī)則的原子排列和較多的晶體缺陷使得晶界與晶粒中的電極電位出現(xiàn)差異,在外部電能的支持下,晶界與晶粒微弱電位差對腐蝕就起到較明顯的有利影響。晶粒越細,晶界數(shù)量就越多,微觀不均勻腐蝕點就越多,就能形成越細小的腐蝕砂目。日本鋁基材晶粒最細,德國的次之,所以均比中國鋁基材有利于形成細小的電解砂目。位錯是金屬塑性變形的載體,位錯從產生、成長、合并反應,都與金屬中能量分布直接相關,優(yōu)先在最有利變形的位置、方向變形,位錯運動的結果如果獲得高密度的位錯露頭,就能在晶粒中形成新的腐蝕質點,就能形成多層次、更細微的腐蝕砂目。從位錯數(shù)量及分布分析看,中國鋁基材位錯合并反應充分,位錯密度和位錯露頭反而減少,而日本、德國鋁基材的工藝控制較好,最終保留了較多的位錯,電解后砂目的結構更合理。鋁基材的表面粗糙度本身不影響電解腐蝕性能,但是對電解腐蝕砂目產生疊加效應,鋁基材表面粗糙度不均勻,就會改變電解砂目的最終效果,給鋁基材組織控制帶來困難。中國、日本、德國鋁基材的表面粗糙度比較接近,但是中國的RZ值明顯偏高,表明鋁基材表面的機械條紋高低差異大,對最終砂目均勻性產生不利影響。電解腐蝕性能是化學成分、第二相、晶界、亞晶界、位錯和鋁基材表面質量綜合作用的結果,需要在實際生產中找到工藝實現(xiàn)的合理平衡,從而提高鋁基材的內在電解腐蝕性能。
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《2008印刷版材發(fā)展技術論壇》是由中國印刷機設備器材工業(yè)協(xié)會和中國感光學會主辦。
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