難熔材料表面雙輝沉積銥涂層研究

內(nèi)容概要

　　《難熔材料表面雙輝沉積銥涂層研究》根據(jù)國(guó)家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目的研究?jī)?nèi)容編寫。書中介紹了采用雙層輝光等離子技術(shù)在碳材料、碳/碳復(fù)合材料、碳化鎢陶瓷，以及鉬、鈮、鎢等難熔金屬表面制備銥涂層的原理和方法，并采用氧一乙炔焰燒蝕法對(duì)銥涂層的高溫性能進(jìn)行考核?！　　峨y熔材料表面雙輝沉積銥涂層研究》介紹的僅是采用雙輝等離子技術(shù)在不同的高熔點(diǎn)導(dǎo)電基體上制備銥涂層的一種探索研究，其中揭示的機(jī)制和規(guī)律還有待商榷。但是經(jīng)過(guò)系統(tǒng)研究后，發(fā)現(xiàn)了一些規(guī)律性的科學(xué)問(wèn)題，即銥涂層強(qiáng)烈的擇優(yōu)取向問(wèn)題，柱狀銥涂層高溫轉(zhuǎn)化成等軸晶時(shí)產(chǎn)生的大量納米孔問(wèn)題，犧牲難熔金屬保護(hù)內(nèi)部涂層問(wèn)題等均有待深入研究。　　《難熔材料表面雙輝沉積銥涂層研究》是為從事材料學(xué)研究和生產(chǎn)的人員編寫的，同時(shí)也可作為高等院校有關(guān)專業(yè)的教學(xué)參考書。

書籍目錄

第1章 Ir的性質(zhì)及其涂層制備方法1.1 Ir的性質(zhì)1.2 Ir涂層制備方法第2章 C基體表面沉積Ir涂層2.1 引言2.2 實(shí)驗(yàn)過(guò)程2.3 工藝參數(shù)對(duì)涂層表面形貌的影響2.4 等離子體的繞射現(xiàn)象2.5 Ir涂層的微觀結(jié)構(gòu)2.6 Ir涂層的生長(zhǎng)方式2.7 Ir涂層的斷裂方式2.8 Ir涂層的力學(xué)性能2.9 涂層的高溫?zé)g2.10 小結(jié)第3章 雙輝等離子法在Mo基體表面沉積Ir涂層3.1 引言3.2 實(shí)驗(yàn)過(guò)程3.3 Ir涂層的組織結(jié)構(gòu)及形貌表征3.4 共混區(qū)形成機(jī)理3.5 涂層的力學(xué)性能3.6 涂層高溫處理3.7 涂層高溫?zé)g3.8 小結(jié)第4章 雙輝等離子法在Nb基體表面沉積Ir涂層4.1 引言4.2 實(shí)驗(yàn)過(guò)程4.3 Ir涂層的形貌表征4.4 Ir涂層的力學(xué)性能4.5 涂層高溫?zé)g4.6 小結(jié)第5章 雙輝等離子法在W基體表面沉積Ir涂層5.1 引言5.2 實(shí)驗(yàn)過(guò)程5.3 涂層組織結(jié)構(gòu)與表面形貌分析5.4 涂層高溫?zé)g5.5 W/Ir復(fù)合涂層5.6 小結(jié)第6章 雙輝等離子法在WC基體表面沉積Ir涂層6.1 引言6.2 實(shí)驗(yàn)過(guò)程6.3 涂層的形貌與結(jié)構(gòu)6.4 涂層的力學(xué)性能6.5 Ir涂層高溫?zé)g6.6 小結(jié)第7章 雙輝籌離子法在C/C基體表面沉積W涂層7.1 引言7.2 實(shí)驗(yàn)過(guò)程7.3 C/C復(fù)合材料表面雙輝等離子制備W涂層工藝優(yōu)化7.4 涂層的形貌表征7.5 涂層的力學(xué)性能7.6 涂層的高溫處理7.7 小結(jié)參考文獻(xiàn)支持本研究課題的學(xué)術(shù)論文支持本研究課題的專利致謝后記

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　　《難熔材料表面雙輝沉積銥涂層研究》介紹的僅是采用雙輝等離子技術(shù)在不同的高熔點(diǎn)導(dǎo)電基體上制備Ir涂層的一種探索研究，提出了一些新的觀點(diǎn)和看法，其中揭示的機(jī)制和規(guī)律還有待商榷。但是經(jīng)過(guò)系統(tǒng)研究后，筆者發(fā)現(xiàn)了一些規(guī)律性的科學(xué)問(wèn)題，即Ir涂層沿（220）晶面強(qiáng)烈的擇優(yōu)取向問(wèn)題，柱狀I(lǐng)r涂層高溫轉(zhuǎn)化成等軸晶時(shí)產(chǎn)生的大量納米孔問(wèn)題，犧牲難熔金屬保護(hù)內(nèi)部涂層問(wèn)題等都有待深入研究。

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