固體材料常用表征技術(shù)

內(nèi)容概要

　　本書(shū)共分13章，分別介紹X射線光電子能譜分析技術(shù)，X射線粉末衍射分析技術(shù)，俄歇電子能譜分析技術(shù)，X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)分析技術(shù)，固體材料的質(zhì)譜分析技術(shù)，電子顯微鏡分析技術(shù)，電子探針X射線顯微分析技術(shù)，核磁共振波譜分析技術(shù)，電子順磁共振譜分析技術(shù)，衍射散射式激光粒度分析技術(shù)，氮?dú)馕椒治黾夹g(shù)，正電子湮沒(méi)分析技術(shù)，電化學(xué)阻抗譜分析技術(shù)。
　　本書(shū)既可可作為高等院?；瘜W(xué)化工、材料、物理等專業(yè)的研究生教材和高年級(jí)本科生教材，也可作為相關(guān)領(lǐng)域的科研人員和工程技術(shù)人員的參考書(shū)。

書(shū)籍目錄

第1章 X射線光電子能譜分析技術(shù)
1.1 引言
1.2 儀器構(gòu)造與樣品制備
1.2.1 X射線源
1.2.2 超高真空系統(tǒng)（IJHV）
1.2.3 分析器與數(shù)據(jù)系統(tǒng)
1.2.4 其他附件
1.2.5 靈敏度和檢測(cè)限
1.2.6 清潔表面制備
1.3 基本原理
1.3.1 XPS的物理基礎(chǔ)
1.3.2 XPS譜的結(jié)合能參照基準(zhǔn)
1.3.3 結(jié)合能化學(xué)位移
1.4 XPS在化學(xué)上的應(yīng)用及實(shí)例解析
1.4.1 定性分析
1.4.2 定量分析
1.5 新技術(shù)
1.5.1 單色化XPS（Mono XPS）和小面積XPS（SAXPS）
1.5.2 SAXPS深度剖析
1.5.3 成像XPS（iXPS）
1.5.4 XPS線掃描分析
本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第2章 X射線粉末衍射分析技術(shù)
2.1 引言
2.2 X射線粉末衍射儀
2.2.1 基本構(gòu)造
2.2.2 工作原理
2.2.3 試樣制備
2.2.4 應(yīng)用及圖例解析
本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第3章 俄歇電子能譜分析技術(shù)
3.1 引言
3.2 俄歇表面分析技術(shù)的基本理論
3.2.1 俄歇過(guò)程和俄歇電子
3.2.2 俄歇電子能量與特征譜線的關(guān)系
3.2.3 俄歇電子的強(qiáng)度
3.2.4 化學(xué)效應(yīng)
3.3 儀器結(jié)構(gòu)
3.3.1 樣品室
3.3.2 電子槍
3.3.3 氬離子槍
3.3.4 電子能量分析器
3.3.5 檢測(cè)器
3.3.6 真空系統(tǒng)
3.3.7 俄歇電子能譜儀的分辨率和靈敏度
3.4 實(shí)驗(yàn)技術(shù)
3.4.1 樣品的制備技術(shù)
3.4.2 離子束濺射技術(shù)
3.4.3 樣品的荷電問(wèn)題
3.4.4 俄歇電子能譜的采樣深度
3.5 俄歇電子能譜圖的分析技術(shù)
3.5.1 表面元素定性鑒定
3.5.2 表面元素的半定量分析
3.5.3 表面元素的化學(xué)價(jià)態(tài)分析
3.5.4 深度分析
3.5.5 微區(qū)分析
3.6 俄歇電子能譜的應(yīng)用
3.6.1 表面檢查和污染分析
3.6.2 在金屬、半導(dǎo)體方面的應(yīng)用
3.6.3 吸附和催化方面的應(yīng)用
3.6.4 在薄膜、厚膜、多層膜方面的應(yīng)用
3.6.5 俄歇電子能譜的功能擴(kuò)展
本章小結(jié)
參考文獻(xiàn)
第4章 X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)分析技術(shù)
4.1 引言
……
第5章 固體材料的質(zhì)譜分析技術(shù)
第6章 電子顯微鏡分析技術(shù)
第7章 電子探針X射線顯微分析技術(shù)
第8章 核磁共振波譜分析技術(shù)

章節(jié)摘錄

　　自動(dòng)X射線粉末衍射儀是計(jì)算機(jī)技術(shù)和衍射儀技術(shù)相結(jié)合形成的一種現(xiàn)代先進(jìn)的自動(dòng)化和智能化儀器，適用于各種普通的或高精度的X射線多晶衍射測(cè)定工作。配有多種實(shí)用程序，能自動(dòng)控制衍射儀的操作，實(shí)時(shí)完成多晶衍射原始數(shù)據(jù)的采集、處理，以直接可用的實(shí)驗(yàn)報(bào)告格式輸出數(shù)據(jù)分析的結(jié)果。隨著儀器技術(shù)的改進(jìn)及自動(dòng)化程度的提高，實(shí)驗(yàn)操作簡(jiǎn)化，多晶X射線粉末衍射分析法容易掌握，對(duì)于一般的應(yīng)用，不要求操作者必須具備專門(mén)的高深理論知識(shí)?！　?.2.2 工作原理　　2.2.2.1 衍射的概念　　當(dāng)X射線進(jìn)入晶體之后，可以發(fā)生多種物理現(xiàn)象，對(duì)晶體結(jié)構(gòu)研究而言，其中最主要的是衍射現(xiàn)象。X射線射人晶體將引起晶體中原子的電子振動(dòng)，振動(dòng)的電子發(fā)出X射線。因此，每個(gè)原子都成為一個(gè)新的X射線源向四周發(fā)射X射線，稱為次生X射線，這種現(xiàn)象稱為相干散射。次生X射線顯然具有與人射X射線相同的波長(zhǎng)，但強(qiáng)度要小得多。單一原子的次生X射線是微不足道的，但是在晶體中存在周期性重復(fù)的原子，由這些原子所產(chǎn)生的次生X射線會(huì)發(fā)生干涉現(xiàn)象，干涉的結(jié)果可使次生X射線互相疊加（增強(qiáng)）或互相抵消（減弱）。干涉現(xiàn)象是由于在不同光源射出的光線之間存在光程差（△）而引起的，只有當(dāng)光程差等于波長(zhǎng)的整數(shù)倍時(shí)，光波才能互相疊加，而在其余的情況下則減弱，當(dāng)減弱的干涉現(xiàn)象多次重復(fù)（即次生光源很多）時(shí)，次生光線會(huì)抵消殆盡。由于晶體中各原子所射出的次生X射線在不同的方向上具有不同的光程差，只有在某些方向上光程差等于波長(zhǎng)的整數(shù)倍，也就是說(shuō)，只在某些方向上次生X射線才可以疊加形成衍射線。X射線在晶體中的衍射方向服從勞埃方程和布拉格方程。

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