顏勤禮碑技法與臨創(chuàng)

出版時(shí)間:2008-4  出版社:上海科技文獻(xiàn)  作者:施志偉 編  頁數(shù):72  

內(nèi)容概要

  書法是我國(guó)優(yōu)秀的傳統(tǒng)藝術(shù),幾千年來留下了數(shù)不勝數(shù)的書法遺產(chǎn)。其中許多優(yōu)秀的碑帖墨跡,被后人所推崇,廣為習(xí)書者仿效和臨摹。  本帖將所有的范字還原成墨跡,使其更接近書法大師的真跡,同時(shí)適度放大和在筆畫中用白細(xì)線勾畫筆法走勢(shì),增加了圖文的可讀性,結(jié)構(gòu)要領(lǐng)的直觀性,文字精解的易讀性,并加以歸類編排。使學(xué)書者更容易領(lǐng)悟大師書體的特點(diǎn),引導(dǎo)學(xué)習(xí)者舉一反三,加以變化運(yùn)用,以提高書法基礎(chǔ)訓(xùn)練的效果。

書籍目錄

一 概述顏真卿《顏勤禮碑》簡(jiǎn)介《顏勤禮碑》技法精要毛筆、書寫姿勢(shì)和運(yùn)筆方式二 點(diǎn)畫技法永字八法點(diǎn)畫變化點(diǎn)畫組合三 部首技法四 結(jié)構(gòu)技法五 集字創(chuàng)作中堂對(duì)聯(lián)條幅斗方、團(tuán)扇折扇橫幅附:顏真卿《顏勤禮碑》原碑帖

圖書封面

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