脈沖激光沉積動力學(xué)與玻璃基薄膜

內(nèi)容概要

本書是國際上第一本詳細(xì)介紹脈沖激光沉積動力學(xué)原理的專著。主要介紹了作者建立的反映該技術(shù)各個階段物理過程的統(tǒng)一動力學(xué)模型；反映等離子體演化近場、中場和遠(yuǎn)場行為的基本方程，以及橢球羽輝形成的機(jī)制；關(guān)于燒蝕階段中固液相界面動態(tài)規(guī)律，以及熱源項、蒸發(fā)項、吸收率動態(tài)變化和非傅里葉效應(yīng)的影響；等離子體薄膜蒙特卡羅(Monte carlo)模擬，以及在生長過程中若干自組織現(xiàn)象規(guī)律。    本書完整、深入地總結(jié)了作者在自潔凈玻璃和空芯光纖的研究中諸多具有獨創(chuàng)性的研究成果：在玻璃基上制備具有光催化和節(jié)能雙重功能的Ti02薄膜和TiO2／TiN／TiO：多層薄膜；制備以石英玻璃毛細(xì)管為基的多種高反射薄膜、不同體系的全反射薄膜等多種體系材料，并用于制備空芯光纖。有關(guān)材料的制備工藝、性能表征和機(jī)制研究具有深遠(yuǎn)的應(yīng)用背景。    本書的兩部分具有相對的獨立性，但是內(nèi)容彼此呼應(yīng)，具有內(nèi)在的邏輯聯(lián)系，互補(bǔ)性很強(qiáng)，形成完整的科學(xué)結(jié)構(gòu)。因此，盡管本書的內(nèi)容完全取自最新研究成果，但是其系統(tǒng)性和可讀性卻很強(qiáng)。本書適合于從事材料科學(xué)和凝聚態(tài)物理研究的科學(xué)工作者，也可作為有關(guān)領(lǐng)域的博士生或碩士生的教科書和參考書。

作者簡介

張端明。華中科技大學(xué)特聘教授，凝聚態(tài)一材料物理中心學(xué)術(shù)委員會主任.博士生導(dǎo)師.湖北省物理協(xié)會理事。在特種納米復(fù)合功能材料及激光沉積動力學(xué)、復(fù)雜網(wǎng)絡(luò)拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)及功能、非均勻顆粒系統(tǒng)和非平衡隨機(jī)動力學(xué)、基礎(chǔ)量子理論以及有序介質(zhì)的拓?fù)淅碚摰阮I(lǐng)域的研究中，成果卓著。在《美國物理評論》、《應(yīng)用物理》、《歐洲物理》、《中國物理快報》等權(quán)威雜志上發(fā)表論文約210篇，出版專著及教材10本，獲國家專利1項，主持國家級和省部級科研項目20余項。
    在科研和教學(xué)工作中多次獲得國家級、省部級獎勵。教授量子場論、規(guī)范場論、固體量子場論、鐵電和鐵磁物理、群論、基本粒子物理學(xué)、原子核物理、非線性物理、早期宇宙學(xué)、量子力學(xué)、熱力學(xué)與統(tǒng)計物理學(xué)等30余門課程。歷訪國際理論物理中心、莫斯科大學(xué)、哈佛大學(xué)、麻省理工學(xué)院、紐約大學(xué)、康乃爾大學(xué)、賓夕法尼亞大學(xué)等，多次參加國際學(xué)術(shù)會議。

書籍目錄

總序前言上篇  脈沖激光沉積動力學(xué)　第1章　薄膜材料與制備方法引論    1.1　薄膜材料的特點    1.2　常見的薄膜材料    　1.2.1　結(jié)構(gòu)薄膜材料　    1.2.2　功能薄膜材料    1.3　鐵電薄膜材料  　  1.3.1　鐵電薄膜材料的結(jié)構(gòu)、性能與應(yīng)用    　1.3.2　鐵電薄膜制備    1.4　鉭鈮酸鉀鐵電薄膜材料　    1.4.1  KTN材料的結(jié)構(gòu)與相變  　  1.4.2  KTN材料的介電與鐵電性能    　1.4.3  KTN薄膜的制備、實驗研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢    1.5  常見的薄膜制備方法　    1.5.1  真空蒸發(fā)沉積  　  1.5.2  分子束外延法    　1.5.3  溶膠一凝膠法    1.6  濺射法    參考文獻(xiàn)　第2章　薄膜的缺陷和界面與實驗表征 　 2.1  薄膜的缺陷    　2.1.1  點缺陷　    2.1.2  線缺陷  　2.2  薄膜的界面與薄膜間的相互擴(kuò)散  　  2.2.1  薄膜與襯底間的界面  　　2.2.2  不同材料薄膜之間的界面 　 2.3  常見的實驗表征方法  　2.4  X射線衍射分析  　2.5  掃描隧道顯微鏡  　2.6  掃描近場光學(xué)顯微鏡  　參考文獻(xiàn)　第3章　脈沖激光沉積技術(shù)及其Z-L模型一般描述  　3.1  PLD技術(shù)發(fā)展過程  　3.2  PLD技術(shù)制備薄膜的實驗工藝  　3.3  PLD技術(shù)制備過程的一般描述　    3.3.1  PLD技術(shù)的物理圖像的一般描述  　  3.3.2  激光與靶材的相互作用    　3.3.3  等離子體膨脹　    3.3.4  襯底上沉積成膜 　 3.4  PLD技術(shù)的Z—L模型簡介   　 3.4.1  脈沖激光燒蝕靶材過程的描述  　  3.4.2  等離子體的空間膨脹過程研究　    3.4.3  薄膜沉積特性研究      3.4.4  等離子體沖擊波模型  　參考文獻(xiàn)　第4章　激光燒蝕的基本模型與含熱源項模型 　 4.1  激光燒蝕產(chǎn)生的燒蝕面的位置演化規(guī)律      4.1.1  燒蝕過程的基本物理圖像      4.1.2  燒蝕面的位置演化規(guī)律 　 4.2  燒蝕方程的導(dǎo)熱方程和定解條件      4.2.1  導(dǎo)熱方程與定解條件……第5章　含蒸發(fā)項和熱源項的以及靶材吸收率燒蝕模型第6章　等離子體的演化及沖擊波規(guī)律研究第7章　薄膜生長過程研究第8章　相爆炸和PLD技術(shù)機(jī)制研究最新進(jìn)展第9章　TiO2薄膜光化催化自潔凈玻璃的溶膠-凝膠技術(shù)制備研究第10章　TiO2薄膜的磁控濺射法制備第11章　玻璃基TiO2/TiN/TiO2多層膜的濺射制備第12章　石英玻璃毛細(xì)管內(nèi)高反射薄膜的制備第13章　全反射與全反射薄膜空芯光纖第14章　毛細(xì)管內(nèi)薄膜制備技術(shù)的研究第15章　致密氧化鋁薄膜全反射空芯光纖的研究第16章　GeO2基全反射薄膜空芯光纖的制備研究跋后記

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