薄膜材料科學(xué)

內(nèi)容概要

　　本書詳細(xì)介紹了涉及薄膜材料科學(xué)的各個(gè)方面，內(nèi)容包括真空技術(shù)、薄膜沉積技術(shù)與原子過程、薄膜的結(jié)構(gòu)與性能表征等。本書內(nèi)容廣泛，資料全面，各章后面附有習(xí)題，是一本真正意義上的薄膜科學(xué)與技術(shù)的教科書。該書自1992 年第1版問市以來，深受材料科學(xué)界的廣泛歡迎。非常適用于從事薄膜材料研究的專業(yè)研究人員、材料類院系高年級(jí)本科生和研究生作教材或參考書。本書由中國科學(xué)院物理研究所研究員曹則賢先生特別推薦?！　”緯鵀橛⑽陌?！

作者簡(jiǎn)介

作者：(英國)奧林 (Ohring M.)Milton Ohring, 生于1936年，美國史第文斯理工學(xué)院材料工程學(xué)系教授，在此職位上工作37年期間，一直活躍在講臺(tái)。同時(shí)，作者還是材料科學(xué)、薄膜技術(shù)、微電子學(xué)等領(lǐng)域的資深研究專家。其他相關(guān)著作還有Engineering Materials science,Academic Press(1995),Reliability&failure of electronic Materials &Devices,Academic Press(1998)等。

書籍目錄

ForewordtoFirstEditionPrefaceAcknowledgmentsAHistoricalPerspectiveChapter1 AReviewofMaterialsScience1.1 Introduction1.2 Structure1.3 DefectsinSolids1.4 BondsandBandsinMaterials1.5 ThermodynamicsofMaterials1.6 Kinetics1.7 Nucleation1.8 AnIntroductiontoMechanicalBehavior1.9 ConclusionExercisesReferencesChapter2 VacuumScienceandTechnology2.1 Introduction2.2 KineticTheoryofGases2.3 GasTransportandPumping2.4 VacuumPumps2.5 VacuumSystems2.6 ConclusionExercisesReferencesChapter3 Thin-FilmEvaporationProcesses3.1 Introduction3.2 ThePhysicsandChemistryofEvaporation3.3 FilmThicknessUniformityandPurity3.4 EvaporationHardware3.5 EvaporationProcessesandApplications3.6 ConclusionExercisesReferencesChapter4 Discharges,Plasmas,andIon-SurfaceInteractions4.1 Introduction4.2 Plasmas,Discharges,andArcs4.3 FundamentalsofPlasmaPhysics4.4 ReactionsinPlasmas4.5 PhysicsofSputtering4.6 IonBombardmentModificationofGrowingFilms4.7 ConclusionExercisesReferencesChapter5 PlasmaandIonBeamProcessingofThinFilms5.1 Introduction5.2 DC,AC,andReactiveSputteringProcesses5.3 MagnetronSputtering5.4 PlasmaEtching5.5 HybridandModifiedPVDProcesses5.6 ConclusionExercisesReferencesChapter6 ChemicalVaporDeposition6.1 Introduction6.2 ReactionTypes6.3 ThermodynamicsofCVD6.4 GasTransport6.5 FilmGrowthKinetics6.6 ThermalCVDProcesses6.7 Plasma-EnhancedCVDProcesses6.8 SomeCVDMaterialsIssues6.9 Safety6.10 ConclusionExercisesReferencesChapter7 SubstrateSurfacesandThin-FilmNucleation7.1 Introduction7.2 AnAtomicViewofSubstrateSurfaces7.3 ThermodynamicAspectsofNucleation7.4 KineticProcessesinNucleationandGrowth7.5 ExperimentalStudiesofNucleationandGrowth7.6 ConclusionExercises ReferencesChapter8 Epitaxy8.1 Introduction8.2 ManifestationsofEpitaxy8.3 LatticeMisfitandDefectsinEpitaxialFilms8.4 EpitaxyofCompoundSemiconductors8.5 High-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms8.6 Low-TemperatureMethodsforDepositingEpitaxialSemiconductorFilms8.7 MechanismsandCharacterizationofEpitaxialFilmGrowth8.8 ConclusionExercisesReferencesChapter9 FilmStructure9.1 Introduction……Chapter10 CharacterizationofThinFilmsandSurfacesChapter11 Interdiffusion,Reactions,andTransformationsinThinFilmsChapter12 MechanicalPropertiesofThinFilmsIndex

編輯推薦

　　本書詳細(xì)介紹了涉及薄膜材料科學(xué)的各個(gè)方面，內(nèi)容包括真空技術(shù)、薄膜沉積技術(shù)與原子過程、薄膜的結(jié)構(gòu)與性能表征等。本書內(nèi)容廣泛，資料全面，各章后面附有習(xí)題，是一本真正意義上的薄膜科學(xué)與技術(shù)的教科書。該書自1992 年第1版問市以來，深受材料科學(xué)界的廣泛歡迎。非常適用于從事薄膜材料研究的專業(yè)研究人員、材料類院系高年級(jí)本科生和研究生作教材或參考書。本書由中國科學(xué)院物理研究所研究員曹則賢先生特別推薦。

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