金屬高溫氧化和熱腐蝕

內(nèi)容概要

　　本書是金屬高溫氧化和熱腐蝕專著，書中全面地介紹了金屬高溫氧化基礎(chǔ)——高溫氧化熱力學(xué)與動力學(xué)、氧化物晶體結(jié)構(gòu)與缺陷、氧化物中的擴散，系統(tǒng)地闡述了金屬高溫氧化的理論及其在純金屬、合金高溫氧化中的應(yīng)用；詳細(xì)介紹了高溫氧化的初始階段的發(fā)展過程；簡要概括了廣義高溫氧化的熱力學(xué)和動力學(xué)；對熱腐蝕的原理和研究方法也作了相應(yīng)介紹。全書最后扼要地介紹了高溫合金防護涂層?！　”緯芍袊茖W(xué)院金屬研究所高溫氧化專家李鐵藩教授編著。全書結(jié)構(gòu)嚴(yán)謹(jǐn)、數(shù)據(jù)完善，參考文獻十分廣泛?？晒氖赂g學(xué)研究和開發(fā)、金屬材料學(xué)工作的科研、工程技術(shù)人員閱讀參考。

書籍目錄

第1章　緒論1.1　研究金屬高溫氧化的意義1.2　運用金屬高溫氧化知識發(fā)展新技術(shù)1.3　金屬高溫氧化理論研究進展1.4　金屬高溫氧化文獻簡介參考文獻第2章　金屬高溫氧化的一般概念2.1　金屬高溫氧化的定義2.1.1　狹義高溫氧化2.1.2　廣義高溫氧化2.2　高溫氧化的基本過程2.3　影響材料抗高溫氧化性能的主要因素2.3.1　材料性質(zhì)2.3.2　氧化膜性質(zhì)2.3.3　氧化膜/金屬界面2.3.4　氧化膜/氣體界面2.3.5　氣相2.4　高溫氧化測試與研究方法2.4.1　概述2.4.2　氧化動力學(xué)實驗2.4.3　氧化膜的組成、結(jié)構(gòu)與形貌分析實驗2.4.4　氧化膜傳質(zhì)實驗2.4.5　氧化膜力學(xué)性質(zhì)的測定參考文獻第3章　金屬高溫氧化基礎(chǔ)3.1　金屬氧化的熱力學(xué)判據(jù)3.1.1　金屬氧化的自由能判據(jù)3.1.2　反應(yīng)物化學(xué)熱力學(xué)穩(wěn)定性3.1.3　金屬氧化的ΔＧ０?Ｔ圖3.1.4　廣義金屬氧化的ΔＧ０?Ｔ圖3.1.5　金屬及其氧化產(chǎn)物蒸氣壓3.1.6　氧化反應(yīng)產(chǎn)物的熔點3.2　金屬高溫氧化動力學(xué)3.2.1　氧化膜完整性3.2.2　氧化膜生長速度參考文獻第4章　金屬氧化物晶體結(jié)構(gòu)與缺陷4.1　簡單金屬氧化物晶體結(jié)構(gòu)4.1.1　氯化物結(jié)構(gòu)4.1.2　螢石結(jié)構(gòu)4.1.3　金紅石結(jié)構(gòu)4.1.4　剛玉結(jié)構(gòu)4.1.5　尖晶石結(jié)構(gòu)4.2　熱力學(xué)可逆缺陷——點缺陷4.2.1　化學(xué)計量氧化物中的點缺陷4.2.2　非化學(xué)計量氧化物中點缺陷4.3　點缺陷方程與平衡4.3.1　化學(xué)計量氧化物4.3.2　非化學(xué)計量氧化物4.4　外來離子對點缺陷平衡的影響4.4.1　化學(xué)計量氧化物4.4.2　非化學(xué)計量氧化物4.5　氫缺陷4.5.1　氫缺陷形成與反應(yīng)式4.5.2　微量氫缺陷效應(yīng)4.5.3　環(huán)境氫或水蒸氣壓力對氫缺陷濃度的影響4.5.4　氫缺陷對氧化膜生長的影響4.5.5　氧化膜中氫缺陷的研究4.6　熱力學(xué)不可逆缺陷4.6.1　線缺陷4.6.2　面缺陷4.6.3　擴展缺陷參考文獻第5章　氧化物中的擴散5.1　擴散方程與擴散系數(shù)5.1.1　擴散基本方程5.1.2　擴散系數(shù)定義與相互關(guān)系5.2　擴散微觀機制5.3　擴散的原子描述5.3.1　自擴散系數(shù)5.3.2　自擴散與化學(xué)擴散關(guān)系式5.4　晶界擴散5.4.1　晶界擴散的基本方程5.4.2　晶界擴散動力學(xué)5.4.3　運動晶界擴散5.5　表面擴散5.6　擴散與電導(dǎo)率的關(guān)系5.6.1　金屬氧化物電導(dǎo)率5.6.2　電導(dǎo)率與擴散關(guān)系5.7　氧化物中擴散研究5.7.1　氧化鎳擴散研究5.7.2　抗氧化性優(yōu)良氧化物膜的擴散研究參考文獻第6章　金屬高溫氧化理論6.1　TPB拋物線定律6.2　Wagner拋物線氧化理論6.3　Wagner理論的適用性6.4　其他拋物線定律6.4.1　Cabrera?Mott拋物線定律6.4.2　Galbranson絕對氧化速度拋物線定律6.4.3　Jost、Hoar和Price電化學(xué)模型6.5　金屬與氧的初始反應(yīng)6.5.1　形成化學(xué)吸附層的熱力學(xué)條件6.5.2　金屬表面結(jié)構(gòu)6.5.3　氧分子的性質(zhì)6.5.4　氧在金屬上吸附態(tài)6.5.5　金屬上二維氧化物成核6.5.6　金屬上的三維氧化物成核6.5.7　氧化物連續(xù)膜的形成過程參考文獻第7章　純金屬高溫氧化7.1　形成n型氧化物的金屬高溫氧化7.2　形成p型氧化物的金屬高溫氧化7.2.1　純鎳的氧化7.2.2　純鐵的氧化7.2.3　形成多層氧化膜的理論處理7.3　形成離子導(dǎo)體的金屬的氧化7.4　純金屬氧化的其他重要特性7.4.1　金屬氧化物具有低熔點或高蒸氣壓7.4.2　失穩(wěn)氧化7.5　氧化膜應(yīng)力的產(chǎn)生與釋放7.5.1　氧化膜應(yīng)力的產(chǎn)生7.5.2　氧化膜應(yīng)力釋放參考文獻第8章　合金高溫氧化8.1　Hauffe?Wagner理論8.2　Smirnov理論8.3　Wagner理論8.3.1　貴金屬基二元合金僅溶質(zhì)B選擇氧化8.3.2　兩組分同時氧化形成非均質(zhì)氧化膜8.3.3　兩組分同時氧化形成均質(zhì)單相膜8.3.4　兩組分同時氧化生成復(fù)合氧化物相8.4　三元與多元合金高溫氧化8.4.1　三元合金高溫氧化8.4.2　多元合金的高溫氧化8.5　保護性氧化鋁與氧化鉻膜的性質(zhì)與生長機制8.5.1　氧化鉻膜性質(zhì)與生長機制8.5.2　氧化鋁膜性質(zhì)與生長機制8.6　反應(yīng)元素效應(yīng)8.6.1　氧活性元素的添加方法8.6.2　對Cr203膜的影響8.6.3　對Al203膜的影響8.6.4　彌散稀土氧化效應(yīng)8.6.5　反應(yīng)元素效應(yīng)的機制8.7　合金內(nèi)氧化8.7.1　二元合金內(nèi)氧化動力學(xué)8.7.2　Wagner簡化處理8.7.3　Wagner內(nèi)氧化動力學(xué)方程8.7.4　外氧化膜下內(nèi)氧化8.7.5　內(nèi)氧化轉(zhuǎn)變?yōu)橥庋趸?.7.6　內(nèi)氧化物的形貌參考文獻第9章　金屬廣義氧化9.1　高溫硫化9.1.1　金屬硫化物主要物理化學(xué)性質(zhì)9.1.2　高溫硫化熱力學(xué)9.1.3　高溫硫化動力學(xué)9.1.4　合金高溫硫化9.2　高溫碳化9.2.1　高溫碳化熱力學(xué)9.2.2　高溫碳化動力學(xué)9.3　高溫鹵化9.3.1　高溫鹵化熱力學(xué)9.3.2　高溫鹵化動力學(xué)9.4　高溫氮化參考文獻第10章　熔鹽熱腐蝕10.1　概述10.2　典型的熱腐蝕——硫酸鹽熱腐蝕　10.2.1　測定方法　 10.2.2　熱力學(xué)10.2.3　機理參考文獻第11　章高溫防護涂層11.1　高溫防護涂層進展11.2　擴散鋁化物涂層　11.2.1　粉末包裝滲鋁　11.2.2　氣相滲鋁　11.2.3　料漿法滲鋁11.3　改進型鋁化物涂層　11.3.1　鉻改進鋁化物涂層　11.3.2　硅改進鋁化物涂層　11.3.3　鉑改進鋁化物涂層　 11.3.4　稀土元素改進鋁化物涂層11.4　包覆涂層　11.4.1　MCrAlY型涂層的成分、微觀結(jié)構(gòu)與力學(xué)性能　11.4.2　MCrAlY型合金的抗氧化、抗熱腐蝕性能　11.4.3　包覆涂層的制備技術(shù)與微觀性能　11.4.4　ODS型涂層及納米晶涂層　11.4.5　智能涂層　11.4.6　擴散與包覆涂層的退化11.5　熱障涂層　11.5.1　陶瓷頂層　 11.5.2　粘結(jié)底層11.5.3　熱障涂層的失效機理參考文獻部分非法定單位換算表

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