出版時(shí)間:2007-12 出版社:冶金工業(yè) 作者:張鈞,趙彥輝 頁數(shù):260
內(nèi)容概要
本書是近20年來國(guó)內(nèi)外大量相關(guān)文獻(xiàn)的綜合、分析、整理并結(jié)合作者的相關(guān)研究工作總結(jié)而成的。全書共分11章。第1章重點(diǎn)介紹了多弧離了鍍的沉積原理與技術(shù)特點(diǎn);第2章、第3章介紹了多弧離子鍍的沉積工藝、大顆粒的控制及設(shè)備發(fā)展;第4~7章分別介紹了多弧離子鍍?cè)诔卜磻?yīng)膜、離溫防護(hù)涂層、表面裝飾膜以及功能膜制備方面的應(yīng)用,給出了豐富的應(yīng)用實(shí)例;第8章介紹了多弧離子鍍技術(shù)制備成分設(shè)計(jì)及控制;第9章分析了超硬反應(yīng)膜的形成元素;第10章、第11章分別介紹了多弧離子鍍的鍍-滲復(fù)合工藝和脈沖偏壓多弧離子鍍新技術(shù)?! ”緯m合從事材料表面改性,特別是從事真鍍空膜技術(shù)研究開發(fā)及實(shí)際生產(chǎn)應(yīng)用的科技工作者閱讀,也可供材料表面工程專業(yè)的研究生、本科生參考。
書籍目錄
1 多弧離子鍍的沉積原理與技術(shù)特點(diǎn)1.1 真空鍍膜技術(shù)概論1.2 多弧離子鍍的基本結(jié)構(gòu)與沉積原理1.3 多弧離子鍍的技術(shù)特點(diǎn)1.4 多弧離子鍍的應(yīng)用2 工藝參數(shù)及液滴的控制2.1 大顆粒的產(chǎn)生2.2 大顆粒的去除2.3 大顆粒的控制效果2.4 大顆??刂频墓に噷?shí)現(xiàn)及優(yōu)化參考文獻(xiàn)3 多弧離子鍍?cè)O(shè)備的改進(jìn)3.1 國(guó)內(nèi)外早期設(shè)備3.2 現(xiàn)階段設(shè)備進(jìn)展3.3 設(shè)備技術(shù)發(fā)展方向參考文獻(xiàn)4 多弧離子鍍超硬反應(yīng)膜4.1 多弧離子鍍TiN超硬反應(yīng)膜4.2 多弧離子鍍CrN超硬反應(yīng)膜4.3 多弧離子鍍ZrN超硬反應(yīng)膜4.4 多弧離子鍍(Ti,A1)N超硬膜4.5 多弧離子鍍(Ti,Cr)N超硬膜4.6 多弧離子鍍(Ti,Zr)N超硬膜4.7 多弧離子鍍多元超硬反應(yīng)膜參考文獻(xiàn)5 多弧離子鍍高溫防護(hù)涂層5.1 高溫防護(hù)涂層概述5.2 MCrAIX高溫合金防護(hù)涂層5.3 Ti-A1-Cr系高溫鈦合金防護(hù)涂層5.4 熱障涂層參考文獻(xiàn)6 多弧離子鍍裝飾涂層7 多弧離子鍍?cè)诠δ鼙∧ぶ械膽?yīng)用8 多弧離子鍍合金涂層的成分問題9 超硬反應(yīng)膜形成元素分析10 多弧離子鍍、滲復(fù)合工藝11 脈沖偏壓多弧離子鍍
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《多弧離子鍍技術(shù)與應(yīng)用》適合從事材料表面改性,特別是從事真空鍍膜技術(shù)研究開發(fā)及實(shí)際生產(chǎn)應(yīng)用的科技工作者閱讀,也可供材料表面工程專業(yè)的研究生、本科生參考。
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