電子槍與離子束技術(shù)

內(nèi)容概要

本書主要介紹與電子槍、離子源設(shè)計(jì)有關(guān)的基礎(chǔ)理論，離子源及離子束應(yīng)用技術(shù)，特別介紹了常用的強(qiáng)流軸向電子槍、偏轉(zhuǎn)電子槍、HCD電子槍與S槍的設(shè)計(jì)與計(jì)算。    本書集設(shè)計(jì)理論和具體設(shè)計(jì)方法于一體，理論與工程實(shí)踐有機(jī)結(jié)合，適合于真空技術(shù)、真空冶金、材料工程、熱處理、焊接等行業(yè)從事設(shè)計(jì)研究、設(shè)備應(yīng)用與維護(hù)的技術(shù)人員使用，也可供大專院校相關(guān)專業(yè)師生參考。

書籍目錄

1 電子光學(xué)  1.1  電子光學(xué)特征  1.2  軸對(duì)稱電場(chǎng)中的電子運(yùn)動(dòng)  1.3  電透鏡  1.4  磁透鏡  1.5  實(shí)用磁透鏡  1.6  靜電透鏡與磁透鏡的比較2 電子束技術(shù)基礎(chǔ)  2.1  電子束的產(chǎn)生及性質(zhì)  2.2  電子槍概述  2.3  強(qiáng)流電子槍設(shè)計(jì)基礎(chǔ)  2.4  電子束蒸發(fā)沉積3 離子束物理基礎(chǔ)  3.1  等離子體基本性質(zhì)  3.2  等離子體的分類  3.3  等離子體的獲得  3.4  低溫等離子體中粒子運(yùn)動(dòng)和效電基本過程  3.5  離子束與材料表面的相互作用4 強(qiáng)流軸向電子槍  4.1  概述  4.2  軸向電子槍基本結(jié)構(gòu)和工作原理  4.3  軸向電子束發(fā)生系統(tǒng)設(shè)計(jì)計(jì)算  4.4  電子光路系統(tǒng)設(shè)計(jì)計(jì)算  4.5  槍室真空系統(tǒng)設(shè)計(jì)  4.6  電子槍的調(diào)試  4.7  強(qiáng)流軸向槍電源設(shè)計(jì)  4.8  電子槍X射線的形成與屏蔽防護(hù)5 偏轉(zhuǎn)電子槍  5.1  電子束流磁偏轉(zhuǎn)理論基礎(chǔ)  5.2  偏轉(zhuǎn)電子槍工作原理與結(jié)構(gòu)  5.3  偏轉(zhuǎn)槍（e型槍）參數(shù)設(shè)計(jì)  5.4  偏轉(zhuǎn)電子槍束流設(shè)計(jì)計(jì)算  5.5  壓差孔的設(shè)計(jì)  5.6  電子槍頭的安裝與調(diào)試  5.7  偏轉(zhuǎn)電子槍電源6 空心陰極放電（HCD）電子槍  6.1  空心陰極放電效應(yīng)  6.2  空心陰極電子槍工作原理  6.3  空心陰極電子槍設(shè)計(jì)參數(shù)  6.4  HCD槍中等離子體的離化率與電流形成  6.5  偏轉(zhuǎn)電磁場(chǎng)的設(shè)計(jì)計(jì)算  6.6  空心陰極與輔助陽(yáng)極的設(shè)計(jì)  6.7  離子鍍中等離子源的束流偏轉(zhuǎn)7 離子束技術(shù)  7.1  離子源  7.2  離子注入技術(shù)  7.3  離子束沉積技術(shù)8 S槍離子濺射源的設(shè)計(jì)基礎(chǔ)  8.1  S槍的基本原理與結(jié)構(gòu)  8.2  S槍濺射源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)  8.3  S槍磁控濺射的工作特性  8.4  基本參數(shù)的設(shè)計(jì)計(jì)算參考文獻(xiàn)

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