材料評價的分析電子顯微方法

內(nèi)容概要

　　《材料評價的分析電子顯微方法》全面介紹了各種分析電子顯微方法。對兩種最重要的電子顯微分析技術(shù)——電子能量損失譜和X射線能譜分析方法的理論基礎(chǔ)、實驗技術(shù)、譜的解析，進行了系統(tǒng)的講解，指出了定量分析時的注意事項。

作者簡介

作者：(日本)進藤 譯者：劉安生

書籍目錄

第1章 分析電子顯微方法的基礎(chǔ)知識1．1 電子與物質(zhì)的相互作用1．1．1 電子的散射1．1．2 描述電子散射的基本參量1．1．3 散射過程的模擬1．2 電子的非彈性散射和分析電子顯微方法1．2．1 電子能量損失譜(eeis)分析方法和x射線能譜(eds)分析方法的概述1．2．2 分析電子顯微方法和材料評價1．3 儀器的計算機控制和分析數(shù)據(jù)的計算機處理參考文獻第2章 分析電子顯微鏡的構(gòu)成和基本操作2．1 分析電子顯微鏡的基本結(jié)構(gòu)2．1．1 電子槍2．1．2 高壓發(fā)生器和加速管2．1．3 照明透鏡系統(tǒng)和偏轉(zhuǎn)系統(tǒng)2．1．4 試樣臺和試樣架2．1．5 放大和成像透鏡系統(tǒng)2．1．6 觀察室和照相室(記錄系統(tǒng))2．2 電子顯微鏡的基本操作2．2．1 各種透鏡的合軸調(diào)整和消像散2．2．2 物鏡聚焦的調(diào)整參考文獻第3章 電子能量損失譜(eels)分析方法3．1 電子的非彈性散射和eeis3．2 eeis的譜儀3．2．1 能量色散3．2．2 譜儀的光學系統(tǒng)3．2．3 串行探測方式和并行探測方式3．2．4 雜散磁場的校正3．3 eeis的分析技術(shù)3．3．1 加速電壓3．3．2 接收角3．3．3 分析模式3．4 eels的理論基礎(chǔ)3．5 能量損失譜的解析3．5．1 等離子激發(fā)的譜3．5．2 非彈性散射平均自由程的測量和試樣厚度的確定3．5．3 內(nèi)殼層電子激發(fā)譜3．6 能量過濾方法的原理和應(yīng)用3．6．1 能量過濾器的光學系統(tǒng)3．6．2 能量過濾器的種類和特點3．6．3 能量過濾方法的應(yīng)用參考文獻第4章 x射線能譜(eiis)分析方法4．1 特征x射線的產(chǎn)生4．2 x射線探測器的種類和原理4．2．1 鈹窗口型4．2．2 超薄窗口型4．3 eds的分析技術(shù)4．3．1 x射線的測量4．3．2 空間分辨率4．3．3 峰／背比(p／b)4．3．4 元素的面分布分析方法4．4 定量分析4．4．1 k因子4．4．2 定量分析實驗4．5 定量分析時的注意事項4．5．1 試樣對x射線的吸收4．5．2 統(tǒng)計誤差4．5．3 逃逸峰、合峰等4．5．4 晶體試樣分析時的注意事項4．6 原子位置確定的通道增強微分析(alchemi)方法4．6．1 alchemi的原理4．6．2 用alchkmi確定位置占有率4．6．3 aichemi的精度和注意事項參考文獻第5章 分析電子顯微方法的周邊技術(shù)5．1 電子衍射方法5．1．1 納米束電子衍射方法5．1．2 會聚束電子衍射方法5．2 羅倫茲電子顯微方法5．2．1 離焦方法5．2．2 正焦方法5．3 電子全息照相術(shù)5．3．1 電子全息照相術(shù)的原理5．3．2 用全息圖像測量試樣的厚度5．3．3 用電子全息照相術(shù)研究磁性5．4 掃描電子顯微方法5．4．1 掃描電子顯微鏡的原理和應(yīng)用5．4．2 高角度散射暗場stem方法5．5 試樣制備方法5．5．1 粉碎和分散方法5．5．2 電解減薄方法5．5．3 化學減薄方法5．5．4 切片方法(超薄切片法)5．5．5 離子減薄方法5．5．6 會聚離子束(fib)方法5．5．7 真空蒸涂方法5．5．8 試樣觀察時的注意事項參考文獻附錄附錄1 物理常數(shù)、轉(zhuǎn)換系數(shù)和電子波長等附錄2 電子結(jié)合能和特征x射線的能量附錄3 真空排氣系統(tǒng)附錄4 分析電子顯微方法的有關(guān)計算機軟件參考文獻索引專欄1) 電子透鏡的工作原理2) 高壓顫動器和像顫動器3) 能量過濾器的像差和單色性4) 表示電子能量狀態(tài)的量子數(shù)5) 布拉格公式和高階反射6) 三維信息和立體觀察

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《材料評價的分析電子顯微方法》由冶金工業(yè)出版社出版。

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