高分子光化學(xué)原理及應(yīng)用

內(nèi)容概要

本書可作為高等院校高分子化學(xué)專業(yè)、應(yīng)用化學(xué)專業(yè)的教材或教學(xué)參考書，亦可供有關(guān)的科技人員參考閱讀。
   本書共十章，在介紹光化學(xué)和光物理過程的基礎(chǔ)理論之后，從反應(yīng)機(jī)理和反應(yīng)動力學(xué)的角度討論了光聚合反應(yīng)、光交聯(lián)反應(yīng)、光降解反應(yīng)和光穩(wěn)定現(xiàn)象，它們在工業(yè)上都很重要，其中包括介紹應(yīng)用廣泛的光引發(fā)劑和光敏劑的內(nèi)容。高分子光化學(xué)應(yīng)用的最重要方面，即光敏涂料和制造集成電路及印刷工業(yè)上使用的光致抗蝕劑則分別專門

書籍目錄

第一章 光化學(xué)原理 1.1 光的吸收 1.2 激發(fā)態(tài) 1.2.1 電子躍遷 1.2.2 多重態(tài) 1.2.3 激發(fā)態(tài)的靜態(tài)性質(zhì) 1.2.

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