出版時間:2008-8 出版社:浙江大學(xué)出版社 作者:(德)凱澤(Kaiser,N.),(德)普爾克(Pylker,H.K.) 編,劉旭 等譯 頁數(shù):336 字數(shù):564000
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內(nèi)容概要
本書覆蓋了現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)中最基本的干涉光學(xué)簿膜當(dāng)膠所有的研究領(lǐng)域,是為具有工程和大學(xué)水平的新光學(xué)從業(yè)者和專家撰寫的,也是為科學(xué)與工程學(xué)科的大學(xué)高年級學(xué)生撰寫的,目的是全面提供光學(xué)簿膜領(lǐng)域的完整認識,反映光學(xué)薄膜動態(tài)和快速變化的特點。本書共有18章,涉及干涉薄膜廣泛主題,第章都由專家撰寫和評論,提供權(quán)威信息。這些專題包括(而不只限于)自然薄膜、光子晶體結(jié)構(gòu)、光學(xué)薄膜設(shè)計、鍍膜材料、薄膜生長、大小尺寸基板上光學(xué)薄制備、光學(xué)薄膜表征、光學(xué)薄膜應(yīng)力、光學(xué)薄膜微小元件、DUV/VUV/EUV薄膜、超快光學(xué)、顯示系統(tǒng)用光學(xué)薄膜、超敏感熒光應(yīng)用、抗激光損傷薄膜、自由電子激光用薄膜以及塑料鍍膜等。本書以一種邏輯順序介紹了光學(xué)薄膜領(lǐng)域基礎(chǔ)理論和最新研究成果,每章末還給出大量參考文獻。
書籍目錄
自然界的薄膜具有光子結(jié)構(gòu)的干涉器件光學(xué)薄膜生長的基本原理光學(xué)薄膜設(shè)計鍍膜材料薄膜沉積方法大面積沉積技術(shù)特性檢測和監(jiān)控光學(xué)鍍膜中的機械應(yīng)力微器件中的光學(xué)薄膜深紫外和真空紫外光學(xué)薄膜極紫外與軟X射線多層膜反射鏡抗激光薄膜紫外自由電子激光器中的光學(xué)薄膜塑料基板光學(xué)鍍膜應(yīng)用于超快光學(xué)的干涉薄膜顯示中的光學(xué)薄膜用于自發(fā)輻射控制的光學(xué)薄膜后記
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