納米光電薄膜材料

內(nèi)容概要

　　本書論述了新型無機納米光電信息功能薄膜的制備、表征及其光學(xué)性能、電學(xué)性能和光電性能，也介紹了光子晶體薄膜和納米激光材料的研究，系統(tǒng)地反映了光電信息薄膜學(xué)科的物理基礎(chǔ)、研究方法，書中既有實驗描述，也有理論分析，并涉及國際上該領(lǐng)域的最新進展和發(fā)展趨勢。
　　本書內(nèi)容新穎，深入淺出，適于作為高年級本科生和研究生的教學(xué)參考書，有助于他們在學(xué)習(xí)納米光電薄膜材料的過程中掌握基本原理和實驗方法，本書也可供從事相關(guān)領(lǐng)域研究的科研人員參考。

作者簡介

　　吳錦雷，北京大學(xué)信息科學(xué)技術(shù)學(xué)院電子學(xué)系教授，享受國務(wù)院的政府特殊津貼。1967年畢業(yè)于清華大學(xué)無線電電子學(xué)系，1981年研究生畢業(yè)于北京大學(xué)無線電電子學(xué)系?，F(xiàn)從事物理電子學(xué)專業(yè)的教學(xué)和科研工作，研究方向有光電發(fā)射薄膜、納米薄膜電子學(xué)和納米電子器件等。出版科技專著《納米光電功能薄膜》、《幾種新型薄膜材料》和教材《基礎(chǔ)物理中的數(shù)學(xué)方法》，擔(dān)任《真空科學(xué)與技術(shù)學(xué)報》(El收錄)主編。

書籍目錄

第一章 緒論
1.1 納米材料在結(jié)構(gòu)方面的分類
1.2 納米材料的功能和應(yīng)用
1.3 納米薄膜
1.4 光電功能薄膜
參考文獻
第二章 光電功能薄膜的制備
2.1 真空沉積法
2.2 濺射法
2.3 薄膜生長機理
2,4影響薄膜生長和性能的一些因素
參考文獻
第三章 納米薄膜材料的表征
3.1 薄膜材料的表征技術(shù)
3.2 原子結(jié)構(gòu)的表征
3.3 薄膜成分的表征
3.4 電子結(jié)構(gòu)和原子態(tài)的表征
參考文獻
第四章 納米光電薄膜的能帶結(jié)構(gòu)和電學(xué)特性
4.1 能帶理論
4.2 薄膜的能帶結(jié)構(gòu)
4.3 超晶格薄膜的能帶結(jié)構(gòu)
4.4 薄膜電學(xué)特性測量方法
4.5 導(dǎo)電特性曲線的回路效應(yīng)
參考文獻
第五章 納米光電薄膜的光學(xué)特性
5.1 納米粒子的光吸收
5.2 納米光電薄膜的光吸收譜
5.3 金銀納米粒子一稀土氧化物薄膜的光吸收譜
5.4 金屬納米粒子一半導(dǎo)體薄膜在電場作用下的光吸收特性
5.5 A920納米粒子的光致熒光
5.6 Ag納米粒子埋藏于Ba0中的光致熒光增強
參考文獻
第六章 金屬納米粒子一半導(dǎo)體薄膜的三階光學(xué)非線性效應(yīng)
6.1 光克爾效應(yīng)
6.2 金屬納米粒子一半導(dǎo)體薄膜的光克爾效應(yīng)
6.3 金屬納米粒子薄膜的超外差光克爾效應(yīng)
參考文獻
第七章 納米光電發(fā)射薄膜的光電特性
7.1 光電發(fā)射特性
7.2 金屬納米粒子一半導(dǎo)體薄膜的光電靈敏度
7.3 多光子光電發(fā)射
7.4 內(nèi)場助光電發(fā)射
參考文獻
第八章 納米光電薄膜的時間響應(yīng)
8.1 光電發(fā)射的時間響應(yīng)
8.2 光學(xué)瞬態(tài)時間響應(yīng)
參考文獻
第九章 摻雜稀土元素的光電發(fā)射薄膜
9.1 摻雜稀土元素對Ag-Ba0光電薄膜光電發(fā)射性能的增強
9.2 稀土元素在納米金屬粒子一半導(dǎo)體薄膜中的能量傳遞作用
9.3 稀土元素對真空蒸發(fā)沉積Ag納米粒子的細化作用
參考文獻
第十章 膠體球光子晶體薄膜的制備及其光學(xué)特性
10.1 光子晶體的基本結(jié)構(gòu)特點和特性
10.2 光子晶體薄膜的制備及光學(xué)特性
10.3 光子禁帶的調(diào)控
參考文獻
第十一章 納米激光功能材料
11.1 Zn0納米材料
11.2 Zn0納米材料的光致激光
11.3 Zn0納米線的場致發(fā)光
11.4 Zn0納米線的電致近紫外激光
11.5 CdS納米線的電致激光
11.6 Si納米晶激光器的前期研究
參考文獻

章節(jié)摘錄

版權(quán)頁：插圖：硬質(zhì)薄膜的研究在工業(yè)生產(chǎn)中提高運轉(zhuǎn)部件表面耐磨性方面具有重要的應(yīng)用背景，如何使硬度最高的金剛石形成好的薄膜，多年來一直是人們追求的目標(biāo)，對于自由空間熱絲法氣相生長金剛石溫度場和流場的模擬計算和實驗研究，揭示了溫度場不均勻性、熱阻塞和熱繞流現(xiàn)象是造成金剛石薄膜層質(zhì)量波動和生長速率低的重要原因，對多種工作模式流場的模擬和對形核、生長及膜層質(zhì)量的實驗研究結(jié)果表明，通過合理選擇反應(yīng)器結(jié)構(gòu)和生長條件，可以控制反應(yīng)狀態(tài)參數(shù)空間場，實現(xiàn)金剛石薄膜大面積高速生長，這為設(shè)計工業(yè)型氣相生長金剛石反應(yīng)器提供了依據(jù)，展示了生長金剛石薄膜的發(fā)展前景。光信息存儲是利用調(diào)制激光把要存儲的數(shù)字信息記錄在由非晶材料制成的記錄介質(zhì)上，這是“寫入”過程，取出信息時，用低功率密度的激光掃描信息軌道，其反射光通過光電探測器檢測、解調(diào)以取出所要的信息，這是“讀取”過程，這種在襯盤上沉積有記錄光學(xué)信號薄膜的盤片叫做光盤，它比磁盤存儲密度高1～2個數(shù)量級，有較高的數(shù)據(jù)讀、寫速率（可達Mb/s數(shù)量級）。

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《納米光電薄膜材料》是中外物理學(xué)精品書系,前沿系列之一。

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