樹形高分子潛指紋顯現(xiàn)技術(shù)

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《樹形高分子潛指紋顯現(xiàn)技術(shù)》系統(tǒng)介紹了樹形高分子這種近年來新發(fā)展起來的新型高分子在潛指紋顯現(xiàn)中的應(yīng)用研究。詳細(xì)介紹了傳統(tǒng)的指紋顯現(xiàn)方法、存在的問題、樹形高分子的優(yōu)勢及其在指紋顯現(xiàn)領(lǐng)域的最新應(yīng)用成果，包括聚酰胺—胺樹形高分子自身熒光性能的研究及其在指紋顯現(xiàn)中的應(yīng)用，以聚酰胺—胺樹形高分子為模板合成的CdS量子點∕樹形高分子納米復(fù)合材料、CdSe量子點∕樹形高分子納米復(fù)合材料的制備、結(jié)構(gòu)性能表征以及指紋顯現(xiàn)規(guī)律，并對顯現(xiàn)指紋的原理進(jìn)行了論述。

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