單晶硅與多晶硅生產(chǎn)技術(shù)問答

內(nèi)容概要

　　本書闡述了單晶硅與多晶硅生產(chǎn)的基本原理和主要設(shè)備，列舉了實際生產(chǎn)技術(shù)方面的基礎(chǔ)知識，還給出了大量技術(shù)實例，論述了單晶硅與多晶硅生產(chǎn)操作方法和安全生產(chǎn)注意事項等。本書所列多是單晶硅與多晶硅生產(chǎn)企業(yè)人員應知和應會的技術(shù)內(nèi)容及理論問題，注重理論與實踐的緊密結(jié)合，以培養(yǎng)職業(yè)崗位實際能力為目標，突出強調(diào)應用性和實踐性。
　　本書根據(jù)編者多年實踐經(jīng)驗進行編寫，既有操作實踐知識，又有基礎(chǔ)理論；力求深入淺出，通俗易懂。希望通過本書出版，能為促進我國光伏產(chǎn)業(yè)發(fā)展，并對生產(chǎn)一線的讀者能有所幫助。

書籍目錄

第1章 硅的基本知識
　1.1 什么是硅？
　1.2 為什么有人將硅稱為矽？
　1.3 硅在地球上的儲量是怎樣的？
　1.4 人類是何時首次獲得單質(zhì)硅的？
　1.5 為什么說硅是碳族元素？
　1.6 硅有什么物理性質(zhì)？
　1.7 硅有什么化學性質(zhì)？硅有什么電學性能？
　1.8 工業(yè)用硅是怎樣分類的？
　1.9 什么是工業(yè)硅？
　1.10 工業(yè)硅是怎樣生產(chǎn)的？
　1.11 對工業(yè)硅有什么要求？
　1.12 什么是硅石？什么是水晶石？
　1.13 什么是硅粉？什么是石英粉？什么是白炭黑？
　1.14 自然界的物質(zhì)有哪三種狀態(tài)？
　1.15 什么是晶體？什么是非晶體？
　1.16 什么是解理性？
　1.17 什么是各向異性？
　1.18 什么是晶面？什么是晶向？
　1.19 硅晶體不同晶面或晶向有什么不同？
　1.20 什么是晶體缺陷？什么是位錯？
　1.21 晶體與非晶體哪個內(nèi)能高？
　1.22 晶體與非晶體的熔點有什么不同？
　1.23 什么是霍爾效應？
　1.24 什么是多晶硅？什么是單晶硅？
　1.25 多晶硅有什么用途？單晶硅有什么用途？
　1.26 什么是純度？
　1.27 純度怎么表示？
　1.28 什么是分凝現(xiàn)象？什么是分凝系數(shù)？
　1.29 雜質(zhì)對半導體有什么影響？
　1.30 雜質(zhì)在半導體中有什么作用？
　1.31 什么是本征半導體？什么是雜質(zhì)半導體？
　1.32 什么是半導體？半導體有哪些獨特的性能？
　1.33 半導體材料的種類有哪些？
　1.34 什么是電阻率？什么是電導率？
　1.35 半導體與金屬導體有什么不同？
　1.36 為什么半導體的導電不如導體？
　1.37 雜質(zhì)在半導體中有什么作用？
　1.38 半導體中的雜質(zhì)可分為哪兩類？電中性雜質(zhì)對半導體有哪些作用？
　1.39 雜質(zhì)在半導體的晶格中占什么位置呢？
　1.40 什么是載流子？什么是帶正電的載流子？
　1.41 什么是載流子濃度？
　1.42 什么是載流子遷移率？
　1.43 什么是載流子復合？什么是平衡狀態(tài)？什么是壽命？
　1.44 什么是多數(shù)載流子？什么是少數(shù)載流子？
　1.45 什么是P型半導體？什么是N型半導體？
第2章 單晶硅的生產(chǎn)方法
　2.1 什么是單晶硅？什么是“FZ”單晶？什么是“CZ”單晶？
　2.2 直拉法單晶硅是怎樣生產(chǎn)的？
　2.3 什么是籽晶？單晶硅生產(chǎn)對籽晶有哪些要求？
　2.4 怎樣進行化學處理？
　2.5 裝爐時應該注意什么？
　2.6 什么是真空？什么是真空度？
　2.7 種晶時應該注意什么？
　2.8 怎樣縮頸？怎樣放肩？
　2.9 怎樣等徑？怎樣收尾？
　2.10 拉晶時溫度和拉速是怎樣變化的？
　2.11 單晶硅中都含有哪些雜質(zhì)？
　2.12 氧雜質(zhì)對單晶硅有什么影響？什么是內(nèi)吸雜工藝？
　2.13 碳雜質(zhì)對單晶硅有什么影響？
　2.14 金屬雜質(zhì)對單晶硅有什么影響？
　2.15 摻雜方法有哪幾種？
　2.16 什么是浮渣？出現(xiàn)浮渣怎樣處理？
　2.17 什么是跳硅？什么是搭橋？出現(xiàn)跳硅和搭橋怎樣處理？
　2.18 拉單晶時會出現(xiàn)哪些不正?，F(xiàn)象？
　2.19 影響單晶硅縱向均勻性的有哪些因素？有哪些解決方法？
　2.20 影響單晶硅徑向均勻性的有哪些因素？有哪些解決方法？
　2.21 在保護氣氛中與真空下拉晶有什么不同？
　2.22 單晶硅產(chǎn)生位錯有哪些原因？怎樣減少位錯？
　2.23 什么是晶變？
　2.24 什么是直拉單晶硅的減壓工藝？
　2.25 什么是磁場直拉單晶硅生產(chǎn)法？
　2.26 晶體生長時固液界面有哪幾種？如何保持固液界面平坦？
　2.27 對單晶爐的熱系統(tǒng)有哪些改良？
　2.28 什么是區(qū)熔提純法？什么是懸浮區(qū)熔法？
　2.29 懸浮區(qū)熔法生長單晶與直拉法生長單晶比較各有什么優(yōu)缺點？
　2.30 區(qū)熔時怎樣接棒？
　2.31 籽晶與硅棒怎樣連接？
　2.32 區(qū)熔過后出現(xiàn)多晶怎么辦？
第3章 多晶硅的生產(chǎn)方法
第4章 三氯氫硅和四氯化硅的生產(chǎn)方法
第5章 多晶硅和單晶硅生產(chǎn)所用的其他原料
第6章 環(huán)保和節(jié)能
第7章 多晶硅的物理生產(chǎn)法
第8章 多晶硅和單晶硅生產(chǎn)所用的主要設(shè)備
第9章 安全生產(chǎn)
第10章 對單晶硅和多晶硅生產(chǎn)的展望
附錄
參考文獻

圖書封面

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