出版時間:2009-5 出版社:化學工業(yè)出版社 作者:麻蒔立男 頁數:336 字數:292000
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前言
作為準備從事薄膜制備工作的你,也許正坐在燒得通紅的火爐前讀著這本書?;馉t上燒著的水正在沸騰,由于水的沸騰,在窗玻璃上凝結了一層白花花的“霧氣”……這是由于水蒸發(fā)后在窗玻璃上附著而形成了一層薄薄的“薄膜”的現象,可以說是一種水在窗玻璃上“蒸發(fā)鍍膜”的過程。如果不是對水,而是將鋁(Al)放在爐子里加熱,將會發(fā)生什么樣的現象呢?我們可以看到,鋁即使熔化了,只會在表面生成一層薄薄的“污垢”,別說在玻璃上窗附著一層膜了,即使將窗玻璃放在與鋁非常近的地方,鋁也不會在玻璃上附著。這是因為鋁與大氣中的氧發(fā)生反應而生成了氧化物,而且鋁沒有在大氣中蒸發(fā)。要制備良好的鋁薄膜,無論如何必須先排除大氣,即非在真空環(huán)境中進行不可。如今,制備薄膜時,利用真空已成為最平常不過的事了。本書的前半部分,首先介紹制備薄膜而必須的真空技術。在此基礎上,后半部分敘述了薄膜制備技術,即用來制備薄膜的許多相關技術,還進一步介紹了“電鍍”技術。這本書,確切點來講比較接近入門書,如想獲得更加專業(yè)的知識,請參閱羅列在參考文獻里的原始文獻,從那些文獻里可以獲得更深入的專業(yè)知識。在這些文獻里特地集中引用了許多學會雜志的綜述文章。另外,根據作者經驗認為可能是比較難以理解的部分,用日常生活中的事情作了一些比喻,這也許可以對理解有所幫助,但這樣一來很可能會有與物理內涵不一致的地方,敬請理解。最后,在歸納本書的同時,作者要再一次表示誠摯的謝意,許多同行對本書給予了許多真誠的幫助和指導,而且提供了許多寶貴的資料,正是由于他們的幫助,本書才得以完成。
內容概要
本書較為系統(tǒng)、全面地介紹了與薄膜制備技術相關的各種基礎知識,涉及了薄膜制備系統(tǒng)、典型的物理制膜與化學制膜方法、薄膜加工方法,以及常用的薄膜性能表征技術,同時緊密結合當前薄膜領域最先進的技術、方法和裝置。 原外版書作者長期在薄膜科學與技術領域從事研究、開發(fā)和教育工作,有豐富的工作經驗與廣博的專業(yè)知識。本書自初版以來,已有三十余年,迄今已4次再版,反映了本書在這一領域具有較為深遠的影響。 本書的內容豐富,由淺入深,對于材料科學、微電子專業(yè)學生而言是一本良好的基礎教材;對于在這一領域學習、工作的人員而言,具有很好的參考價值。
作者簡介
作者:(日本)麻蒔立男 譯者:陳國榮 劉曉萌 莫曉亮
書籍目錄
第1章 薄膜技術 1.1 生物計算(bio?computing)和薄膜技術 1.2 醫(yī)用微型機械 1.3 人工腦的實現(μ?Electronics) 1.4 大型顯示的實現 1.5 原子操控 1.6 薄膜技術概略 參考文獻 第2章 真空的基礎 2.1 真空的定義 2.2 真空的單位 2.3 氣體的性質 2.3.1 平均速率 Va 2.3.2 分子直徑 δ 2.3.3 平均自由程 L 2.3.4 碰撞頻率 Z 2.4 氣體的流動和流導 2.4.1 孔的流導 2.4.2 長管的流導 (L/a≥100) 2.4.3 短管的流導 2.4.4 流導的合成 2.5 蒸發(fā)速率 參考文獻 第3章 真空泵和真空測量 3.1 真空泵 3.1.1 油封式旋片機械泵 3.1.2 油擴散泵 3.1.3 吸附泵 3.1.4 濺射離子泵 3.1.5 升華泵 3.1.6 冷凝泵 3.1.7 渦輪泵(分子泵)和復合渦輪泵 3.1.8 干式機械泵 3.2 真空測量儀器——全壓計 3.2.1 熱導型真空計 3.2.2 電離真空計——電離規(guī) 3.2.3 磁控管真空計 3.2.4 蓋斯勒(Geissler)規(guī)管 3.2.5 隔膜真空計 3.2.6 石英晶振真空計 3.2.7 組合式真空規(guī) 3.2.8 真空計的安裝方法 3.3 真空測量儀器——分壓計 3.3.1 磁偏轉型質譜儀 3.3.2 四極質譜儀 3.3.3 有機物質質量分析IAMS法 參考文獻 第4章 真空系統(tǒng) 4.1 抽氣的原理 4.2 材料的放氣 4.3 抽氣時間的推算 4.4 用于制備薄膜的真空系統(tǒng) 4.4.1 殘留氣體 4.4.2 用于制備薄膜的真空系統(tǒng) 4.5 真空檢漏 4.5.1 檢漏方法 4.5.2 檢漏應用實例 參考文獻 第5章 薄膜基礎 第6章 薄膜的制備方法 第7章 基板 第8章 蒸鍍法 第9章 濺射 第10章 氣相沉積CVD和熱氧化氮化 第11章 刻蝕 第12章 精密電鍍 第13章 平坦化技術 參考文獻
章節(jié)摘錄
插圖:第6章薄膜的制備方法薄膜的制備除這里要講的利用真空來制備的方法以外,還有諸如電鍍、大氣中印刷涂敷、機械方法等許多方法。它作為一個重要的產業(yè),不斷地獲得發(fā)展。在所有方法中,真空制備法作為一種先進薄膜制備技術占有十分重要的地位。它在以電子學為核心的知識產業(yè)、電子工業(yè)、鐘表業(yè)、照相等光學產業(yè)中是不可或缺的重要技術。為此,真空法制備薄膜本身及其相關的應用研究非常熱門,層出不窮的新技術、新方法不斷得到開發(fā)和利用。6.1緒論代表性的利用真空來制備薄膜的方法(以后就簡稱為薄膜制備方法)大致有如表6.1所示的蒸發(fā)法、離子鍍法、濺射法和氣相反應法。其他還有制備特富龍等有機薄膜的聚合法、電離聚合法以及制備一些特殊金屬單體薄膜的熱分解法等。本章主要敘述表中所列的4種方法。至于在液體中進行的電鍍法將在第12章中詳細敘述。
編輯推薦
《薄膜制備技術基礎》的內容豐富,由淺入深,對于材料科學、微電子專業(yè)學生而言是一本良好的基礎教材;對于在這一領域學習、工作的人員而言,具有很好的參考價值。
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