TFT-LCD原理與設(shè)計(jì)

內(nèi)容概要

　　本書(shū)基于TFT-LCD工廠生產(chǎn)的實(shí)踐，科學(xué)原理與工程應(yīng)用相結(jié)合。介紹了TFT-LCD的基本概念，組成材料，工藝和設(shè)計(jì)流程等；列舉了高品質(zhì)、低成本的設(shè)計(jì)理念和設(shè)計(jì)方法；最后在以低溫多晶硅LTPS工藝為例，介紹中小尺寸，特別是便攜式TFT-LCD產(chǎn)品的發(fā)展。對(duì)一線技術(shù)人員及電子專業(yè)的學(xué)生具有重要的參考價(jià)值。

書(shū)籍目錄

第一章 TFT-LCD概述
1.1 TFT-LCD的發(fā)展
1.1.1 TFT-LCD發(fā)展簡(jiǎn)史
1.1.2 TFT-LCD的競(jìng)爭(zhēng)與趨勢(shì)
1.1 TFT-LCD的基本概念
1.2.1 產(chǎn)品相關(guān)的概念
1.2.2 光學(xué)相關(guān)的概念
1.3 TFT-LCD的結(jié)構(gòu)與功能
第二章 彩色TFT-LCD基礎(chǔ)
2.1 色彩學(xué)基礎(chǔ)
2.1.1 光與色
2.1.2 光的亮度
2.1.3 色的坐標(biāo)
2.1.4 色的溫度
2.1.5 TFT-LCD的彩色顯示
2.2 TFT器件基礎(chǔ)
2.2.1 TFT器件原理
2.2.2 TFT開(kāi)關(guān)的特性要求
2.2.3 TFT開(kāi)關(guān)特性的工藝設(shè)計(jì)
2.2.4 TFT開(kāi)關(guān)特性的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
2.3 液晶顯示基礎(chǔ)
2.3.1 液晶的基本結(jié)構(gòu)與特性
2.3.2 液晶光學(xué)
2.3.3 液晶電學(xué)
2.3.4 液晶力學(xué)
2.3.5 液晶的顯示模式
第三章 TFT-LCD材料技術(shù)
3.1 玻璃基板
3.1.1　玻璃基板的制造技術(shù)與發(fā)展
3.1.2　玻璃基板的使用要求
3.2 ITO薄膜
3.3 配向膜
3.3.1 配向膜的材料技術(shù)
3.3.2 配向膜的特性要求
3.4 液晶材料
3.4.1 液晶的物理特性與分子結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
3.4.2 液晶材料的特性要求
3.5 Seal材
3.6 微粒子
3.6.1 球狀Spacer
3.6.2 纖維狀Spacer和金球Spacer
3.7 CF基板
3.7.1 CF的材料技術(shù)
3.7.2 CF的特性要求
3.7.3 CF的制造技術(shù)
3.8 偏光薄膜
3.8.1 偏光板
3.8.2 相位差板
3.8.3 寬視角補(bǔ)償膜
3.9 電路元件
3.10 背光源　
3.10.1 光源
3.10.2 光學(xué)膜片
3.10.3 導(dǎo)光板
第四章 TFT-LCD工藝技術(shù)
4.1 陣列工藝技術(shù)
4.1.1 陣列工藝流程
4.1.2 洗凈工藝
4.1.3 Sputter成膜工藝
4.1.4 CVD成膜工藝
4.1.5 PR工藝
4.1.6 曝光工藝
4.1.7 濕刻工藝
4.1.8 干刻工藝
4.1.9 陣列檢查工程
4.2 成盒工藝技術(shù)
4.2.1 配向膜成膜與配向
4.2.2 Spacer散布與固著
4.2.3 封框膠與銀漿涂布
4.2.4 液晶滴下
4.2.5 真空貼合
4.2.6 封框膠硬化
4.2.7 玻璃切斷
4.2.8 偏光板貼付
4.2.9 成盒工程檢查
4.3 模塊工藝技術(shù)
4.3.1 OLB工程
4.3.2 PCB壓接
4.3.3 模塊組裝
4.3.4 老化實(shí)驗(yàn)
4.3.5 模塊工程檢查
第五章 TN顯示原理與設(shè)計(jì)
5.1 TN顯示原理
5.1.1 TN顯示的光透過(guò)率
5.1.2 TN顯示的光學(xué)原理
5.1.3 TN顯示的電學(xué)原理
5.2 TN像素工作原理
5.2.1 TN像素基本結(jié)構(gòu)
5.2.2 像素中的電容效應(yīng)
5.2.3 配線延遲效應(yīng)
5.2.4 灰階電壓寫(xiě)入與保持
5.2.5 TN顯示的綜合效應(yīng)
5.3 15XGA的顯示屏設(shè)計(jì)
5.3.1 預(yù)設(shè)計(jì)
5.3.2 陣列側(cè)像素設(shè)計(jì)
5.3.3 彩膜側(cè)像素設(shè)計(jì)
5.3.4 顯示屏周邊設(shè)計(jì)
5.3.5 顯示屏用Mark設(shè)計(jì)
5.4 15XGA的基板相關(guān)設(shè)計(jì)
5.4.1 基板用TEG與Mark設(shè)計(jì)
5.4.2 UV Mask與UVSheet設(shè)計(jì)
5.4.3 配向膜印刷版設(shè)計(jì)
第六章 IPS顯示原理與設(shè)計(jì)
6.1 IPS顯示原理
6.1.1 IPS顯示的光透過(guò)率
6.1.2 IPS顯示的光學(xué)原理
6.1.3 IPS顯示的電學(xué)原理
6.1 IPS技術(shù)的發(fā)展
6.2.1 從單疇結(jié)構(gòu)到多疇結(jié)構(gòu)
6.2.2 有機(jī)膜IPS技術(shù)
6.3 32HD顯示屏設(shè)計(jì)
6.3.1 S-IPS像素概要
6.3.2 SA-IPS像素概要
6.3.3 32HD像素設(shè)計(jì)
6.3.4 32HD顯示屏設(shè)計(jì)
6.4 FFS顯示原理與設(shè)計(jì)
6.4.1 FFS的電光學(xué)原理
6.4.2 FFS技術(shù)的發(fā)展
6.4.3 FFS的像素設(shè)計(jì)
6.5 IPS殘像機(jī)理與解決方案
6.5.1 IPS殘像機(jī)理
6.5.2 離子型不純物分析
6.5.3 殘留DC分析
6.5.4 線殘像的機(jī)理與對(duì)策
第七章 VA顯示原理與設(shè)計(jì)
7.1 VA顯示原理
7.1.1 VA顯示的光透過(guò)率
7.1.2 VA顯示的光學(xué)原理
7.1.2 VA顯示的電學(xué)原理
7.2 不同VA技術(shù)的發(fā)展
7.2.1 MVA技術(shù)的發(fā)展
7.2.2 PVA技術(shù)的發(fā)展
7.2.3 CPA技術(shù)的發(fā)展
7.2.4 新型VA顯示技術(shù)
7.3 VA的色偏機(jī)理與對(duì)策
7.3.1 VA的色偏機(jī)理與評(píng)價(jià)
7.3.2 色偏的改善技術(shù)
7.4 46FHD顯示屏設(shè)計(jì)
7.4.1 46FHD像素的預(yù)設(shè)計(jì)
7.4.2 46FHD像素的詳細(xì)設(shè)計(jì)
7.4.3 46FHD顯示屏的整體設(shè)計(jì)
7.4.4 46FHD顯示屏拼接曝光設(shè)計(jì)
第八章 TFT-LCD驅(qū)動(dòng)技術(shù)與設(shè)計(jì)
8.1 TFT-LCD驅(qū)動(dòng)原理
8.1.1 驅(qū)動(dòng)原理簡(jiǎn)介
8.1.2 驅(qū)動(dòng)方式
8.1.3 階調(diào)增強(qiáng)技術(shù)　
8.2 TFT-LCD電路技術(shù)
8.2.1 電源電路
8.2.2 時(shí)序控制電路
8.2.3 數(shù)據(jù)驅(qū)動(dòng)電路
8.2.4 掃描驅(qū)動(dòng)電路
8.2.5 接口電路
8.3 TFT-LCD電路設(shè)計(jì)
8.3.1 電路設(shè)計(jì)概要
8.3.2 電路原理圖設(shè)計(jì)
8.3.3 PCB版圖設(shè)計(jì)
8.3.4 COF設(shè)計(jì)
8.3.5 伽瑪設(shè)計(jì)與調(diào)節(jié)
第九章 TFT-LCD結(jié)構(gòu)技術(shù)與設(shè)計(jì)
9.1 結(jié)構(gòu)技術(shù)與設(shè)計(jì)概要
9.1.1 結(jié)構(gòu)技術(shù)概要
9.1.2 結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)概要
9.2 OPEN CELL結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
9.3 背光源結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
9.3.1 后板金設(shè)計(jì)
9.3.2 導(dǎo)光板設(shè)計(jì)
9.3.3 光學(xué)膜片設(shè)計(jì)
9.3.4 燈管設(shè)計(jì)
9.3.5 燈管反射罩和電源線設(shè)計(jì)
9.3.6 LED光源的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
9.4 模塊結(jié)構(gòu)綜合設(shè)計(jì)
9.4.1 組裝設(shè)計(jì)
9.4.2 強(qiáng)度設(shè)計(jì)
9.4.3 散熱與防塵設(shè)計(jì)
9.4.4 電學(xué)設(shè)計(jì)
9.4.5 光學(xué)設(shè)計(jì)
9.4.6 安全性設(shè)計(jì)
第十章 高品質(zhì)和低成本設(shè)計(jì)
10.1 面向光學(xué)規(guī)格的高品質(zhì)設(shè)計(jì)
10.1.1 高亮度設(shè)計(jì)
10.1.2 高對(duì)比度設(shè)計(jì)
10.1.3 高響應(yīng)速度設(shè)計(jì)
10.2 面向特殊畫(huà)質(zhì)的高品質(zhì)設(shè)計(jì)
10.2.1 閃爍機(jī)理與設(shè)計(jì)對(duì)策
10.2.2 串?dāng)_機(jī)理與設(shè)計(jì)對(duì)策
10.2.3 顯示不均機(jī)理與設(shè)計(jì)對(duì)策
10.3 合格率設(shè)計(jì)
10.3.1 工程檢查及相關(guān)設(shè)計(jì)
10.3.2 ESD改善設(shè)計(jì)
10.3.3 點(diǎn)缺陷修復(fù)設(shè)計(jì)
10.3.4 線缺陷修復(fù)設(shè)計(jì)
10.4 低成本設(shè)計(jì)
10.4.1 4MASK設(shè)計(jì)
10.4.2 省UV MASK設(shè)計(jì)
10.4.3 低材料成本設(shè)計(jì)
第十一章 LTPS TFT-LCD原理與設(shè)計(jì)
11.1 LTPS TFT原理與設(shè)計(jì)
11.1.1 LTPS TFT器件基礎(chǔ)
11.1.2 LTPS TFT特性設(shè)計(jì)
11.1.2 LTPS TFT工藝技術(shù)
11.2 LTPS TFT-LCD周邊電路集成設(shè)計(jì)
11.2.1 模擬輸入電路集成設(shè)計(jì)
11.2.2 DAC內(nèi)置電路集成設(shè)計(jì)
11.3 半透過(guò)型LTPS TFT-LCD原理與設(shè)計(jì)
11.3.1 半透過(guò)型LTPS TFT-LCD
11.3.2 半透過(guò)型TFT-LCD的反射光學(xué)設(shè)計(jì)
11.3.3 半透過(guò)型TFT-LCD的偏光光學(xué)設(shè)計(jì)

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