光學(xué)薄膜技術(shù)

內(nèi)容概要

本書(作者盧進(jìn)軍、劉衛(wèi)國、潘永強(qiáng))系統(tǒng)地介紹薄膜光學(xué)的基本理論和器件設(shè)計(jì)的基本方法，適當(dāng)?shù)亟榻B一些新設(shè)計(jì)方法、新器件設(shè)計(jì)、新工藝技術(shù)。
本書共7章，主要內(nèi)容包括：薄膜光學(xué)基礎(chǔ)，器件設(shè)計(jì)方法，薄膜制造基本方法，高質(zhì)量光學(xué)薄膜器件的工藝方法，光學(xué)薄膜材料，光學(xué)薄膜特性的測試，功能薄膜及其應(yīng)用。
本書可作為高等學(xué)校有關(guān)專業(yè)的教材，初學(xué)者的入門教材，光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域科技人員的參考書。

書籍目錄

第1章  薄膜光學(xué)特性計(jì)算基礎(chǔ)
  1．1  引言
  1．2  單一界面的反射率和透射率
  1．3  單層介質(zhì)膜的反射率
    1．3．1  單層介質(zhì)膜與基底組合的等效光學(xué)導(dǎo)納
    1．3．2  單層介質(zhì)膜的光學(xué)特性
  1．4  多層介質(zhì)膜的反射率和透射率
  1．5  金屬薄膜的光學(xué)特性
  1．6  光學(xué)零件的反射率和透射率
  思考題與習(xí)題
第2章  介質(zhì)膜系及其應(yīng)用
  2．1  減反射膜
    2．1．1  單層減反射膜
    2．1．2  雙層減反射膜
    2．1．3  多層減反射膜
    2．1．4  高折射率基底的減反射膜
    2．1．5  含吸收層的防眩光減反射膜
  2．2  高反射膜
    2．2．1  周期性多層膜堆的反射率
    2．2．2  (LH)s周期性多層膜堆的高反射帶
    2．2．3  高反射帶的展寬
    2．2．4  傾斜入射時(shí)的高反射帶
    2．2．5  金屬反射膜
  2．3  中性分束膜
    2．3．1  介質(zhì)中性分光鏡
    2．3．2  偏振中性分束棱鏡
    2．3．3  金屬中性分光鏡
  2．4  截止濾光片
    2．4．1  多層膜堆的通帶透射率
    2．4．2  通帶波紋的壓縮
    2．4．3  通帶的展寬和壓縮
    2．4．4  截止波長和截止帶中心的透射率
    2．4．5  截止濾光片傾斜使用時(shí)的偏振效應(yīng)
    2．4．6  截止濾光片的應(yīng)用
  2．5  帶通濾光片
    2．5．1  法布里-珀羅濾光片的特性
    2．5．2  全介質(zhì)法布里-珀羅濾光片
    2．5．3  誘導(dǎo)透射濾光片
    2．5．4  法布里-珀羅濾光片的最新應(yīng)用
    2．5．5  寬帶通濾光片
  2．6  偏振分束膜
    2．6．1  膠合棱鏡介質(zhì)偏振分光膜
    2．6．2  平板介質(zhì)偏振分光鏡
    2．6．3  金屬柵偏振分光鏡
  2．7  消偏振膜系
    2．7．1  單波長消偏振
    2．7．2  受抑全反射寬波段消偏振分光鏡
    2．7．3  金屬-介質(zhì)組合膜堆寬波段消偏振
    2．7．4  消偏振截止濾光片
  思考題與習(xí)題
第3章  光學(xué)薄膜制造技術(shù)
  3．1  光學(xué)真空鍍膜機(jī)
  3．2  真空與物理氣相沉積
  3．3  真空獲得與檢測
    3．3．1  真空泵
    3．3．2  低溫冷凝泵
    3．3．3  PVD使用的高真空系統(tǒng)
    3．3．4  真空度的檢測
  3．4  熱蒸發(fā)
  3．5  濺射
    3．5．1  輝光放電濺射
    3．5．2  磁控濺射  
    3．5．3  離子束濺射
    3．5．4  離子、靶材與濺射率
  3．6  離子鍍
  3．7  離子輔助鍍
  3．8  等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積
    3．8．1  PECVD過程的動(dòng)力學(xué)  
    3．8．2  PECVD裝置
  思考題與習(xí)題
第4章  光學(xué)薄膜制造工藝
  4．1  光學(xué)薄膜器件的質(zhì)量要素
  4．2  影響膜層質(zhì)量的工藝要素
    4．2．1  影響薄膜器件質(zhì)量的工藝要素及作用機(jī)理
    4．2．2  提高膜層機(jī)械強(qiáng)度的工藝途徑
    4．2．3  控制膜層折射率的主要工藝途徑
    4．2．4  獲得致密膜層的方法
  4．3  獲得精確厚度的方法
    4．3．1  目視法
    4．3．2  極值法
    4．3．3  光電定值法
    4．3．4  任意膜厚的單波長監(jiān)控
    4．3．5  石英晶振法
    4．3．6  寬光譜膜厚監(jiān)控
  4．4  獲得均勻膜層的方法
    4．4．1  影響膜層厚度均勻性的因素
    4．4．2  獲得均勻厚度膜層的途徑
  思考題與習(xí)題
第5章  薄膜材料及其性質(zhì)
  5．1  薄膜的微觀結(jié)構(gòu)與性質(zhì)
    5．1．1  薄膜結(jié)構(gòu)的材料學(xué)基礎(chǔ)
    5．1．2  薄膜的光學(xué)性質(zhì)
    5．1．3  薄膜的力學(xué)性質(zhì)
  5．2  常用光學(xué)薄膜材料
    5．2．1  金屬薄膜
    5．2．2  介質(zhì)薄膜
    5．2．3  特殊材料
  思考題與習(xí)題
第6章  光學(xué)薄膜特性測試與分析
  6．1  光學(xué)薄膜特性的檢測標(biāo)準(zhǔn)
    6．1．1  國標(biāo)(JB／T 6179—92)中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜的分類、符號(hào)及標(biāo)注
    6．1．2  國標(biāo)(JB／T 8226—1999)中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜檢測項(xiàng)目  
    6．1．3  國標(biāo)(JB／T 8226—1999)中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜試驗(yàn)方法  
    6．1．4  國標(biāo)(JB／T 8226—1999)中規(guī)定的光學(xué)零件鍍膜檢驗(yàn)規(guī)則
  6．2  薄膜透射率、反射率的測量
    6．2．1  光譜儀的基本原理
    6．2．2  薄膜透射率的測量
    6．2．3  薄膜反射率的測量
  6．3  薄膜光學(xué)常數(shù)和厚度的測量
    6．3．1  光度法確定薄膜的光學(xué)常數(shù)
    6．3．2  橢圓偏振法確定薄膜的光學(xué)常數(shù)
    6．3．3  薄膜厚度的測量
  6．4  薄膜吸收和散射的測量
    6．4．1  薄膜吸收損耗的測量
    6．4．2  薄膜散射損耗的測量
  6．5  薄膜激光損傷閾值的測量
    6．5．1  薄膜激光損傷的機(jī)理分析
    6．5．2  薄膜激光損傷閾值的測量標(biāo)準(zhǔn)及方法
    6．5．3  薄膜抗激光損傷閾值測量中應(yīng)注意的幾個(gè)問題
  6．6  薄膜非光學(xué)特性的檢測
    6．6．1  薄膜附著力的測量
    6．6．2  薄膜應(yīng)力的測量
    6．6．3  薄膜的環(huán)境試驗(yàn)
    6．6．4  薄膜結(jié)構(gòu)和化學(xué)成分檢測
  思考題與習(xí)題
第7章  功能薄膜及其應(yīng)用
  7．1  透明導(dǎo)電薄膜
    7．1．1  透明導(dǎo)電薄膜的分類
    7．1．2  透明導(dǎo)電薄膜的基本特性
    7．1．3  透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備
    7．1．4  透明導(dǎo)電氧化物薄膜的特性測試
    7．1．5  透明導(dǎo)電氧化物薄膜的應(yīng)用
  7．2  太陽能薄膜
    7．2．1  太陽能光熱轉(zhuǎn)換薄膜
    7．2．2  太陽能光電轉(zhuǎn)換薄膜
  7．3  超硬薄膜材料
    7．3．1  金剛石薄膜
    7．3．2  類金剛石(DLC)薄膜
    7．3．3  立方氮化硼薄膜
    7．3．4  CNz薄膜
    7．3．5  其他硬質(zhì)薄膜
  思考題與習(xí)題
附錄A常見薄膜材料參數(shù)
參考文獻(xiàn)

編輯推薦

《光學(xué)薄膜技術(shù)(第2版)》(作者盧進(jìn)軍、劉衛(wèi)國、潘永強(qiáng))新增了一些薄膜新技術(shù)和新應(yīng)用方面的內(nèi)容：第2章中增加了顯示器用防眩光減反射膜；第3章中增加了等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積技術(shù)；新增了第6章光學(xué)薄膜特性測試與分析和第7章功能薄膜及其應(yīng)用。結(jié)合教學(xué)需要，每章都配置了一些思考題與習(xí)題，僅供教學(xué)參考使用。

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無

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