實(shí)用鍍膜技術(shù)

內(nèi)容概要

　　第1篇，重點(diǎn)闡述了真空蒸鍍、濺射鍍膜、離子鍍的工作原理、鍍膜方法及設(shè)備構(gòu)造，并對電源電控、PLC控制的自動化鍍膜系統(tǒng)的硬件設(shè)計(jì)和軟件編程的相關(guān)內(nèi)容做了比較詳細(xì)的介紹。第2篇重點(diǎn)介紹了液相沉積中有關(guān)電鍍的某些內(nèi)容，其中包括電鍍金、銀、銅、鉻、鎳、鈀及其合金的鍍膜方法及工藝、技術(shù)難點(diǎn)、電鍍液配方及不合格產(chǎn)品的處理辦法。另外還對電鍍設(shè)備、電源及自動生產(chǎn)線的設(shè)計(jì)、應(yīng)用做了較為全面的論述。第3篇介紹了鍍膜前處理工藝流程及其設(shè)備和電鍍的廢水處理方法及其設(shè)備。第4篇是膜層質(zhì)量及檢測方面的內(nèi)容?！　　秾?shí)用鍍膜技術(shù)》不求內(nèi)容完備，只求實(shí)用和創(chuàng)新。文字通俗易懂，有利于對基礎(chǔ)知識的理解、掌握與運(yùn)用。內(nèi)容新穎，收集了近些年來鍍膜技術(shù)中的新發(fā)明和新成果的一些內(nèi)容。

書籍目錄

第1章　緒論??1.1　干式鍍膜（氣相沉積法）??1.1.1　物理氣相沉積鍍膜技術(shù)（PVD）??1.1.2　化學(xué)氣相沉積（CVD）鍍膜技術(shù)??1.2　濕式鍍膜（液相沉積法）??1.2.1　電鍍??1.2.2　陽極氧化??1.2.3　化學(xué)鍍??1.2.4　化學(xué)轉(zhuǎn)化膜處理??1.3　鍍膜技術(shù)的用途和應(yīng)用??1.3.1　鍍膜技術(shù)在裝飾品方面的應(yīng)用??1.3.2　鍍膜技術(shù)在刀具、模具等金屬切削加工工具方面的應(yīng)用??1.3.3　鍍膜技術(shù)在建筑玻璃和汽車玻璃上的應(yīng)用??1.3.4　鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用1.3.5　鍍膜技術(shù)在太陽能利用方面的應(yīng)用1.3.6　鍍膜技術(shù)在防偽技術(shù)中的應(yīng)用??1.3.7　鍍膜技術(shù)在飛機(jī)防護(hù)涂層方面的應(yīng)用??1.3.8　鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用??1.3.9　鍍膜技術(shù)在信息存儲領(lǐng)域中的應(yīng)用1.3.10　鍍膜技術(shù)在傳感器方面的應(yīng)用1.3.11　鍍膜技術(shù)在集成電路制造中的應(yīng)用??第1篇　干式鍍膜——PVD?第2章　干式鍍膜技術(shù)的基礎(chǔ)知識——真空??2.1　真空的基礎(chǔ)知識2.2　真空容器——真空鍍膜室設(shè)計(jì)與計(jì)算2.3　真空的獲得2.4　真空測量2.5　真空系統(tǒng)的栓漏第3章　真空蒸發(fā)鍍膜?3.1　真空蒸發(fā)鍍膜工作原理3.2　幾種主要真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)3.3　真空蒸發(fā)鍍膜設(shè)備?第4章　濺射鍍膜4.1　濺射鍍膜的基本原則4.2　濺射鍍膜技術(shù)和種類及特點(diǎn)……第5章　真空離子鍍膜??第6章　物理氣相沉積鍍膜中幾種主要電源??第7章　PLC在PVD中的應(yīng)用??第8章　部分PVD鍍膜工藝第2篇　濕式鍍膜——電鍍?第9章　電鍍的基礎(chǔ)知識??第10章　單金屬電鍍??第11章　合金電鍍??第12章　電鍍設(shè)備??第13章　電鍍電源??第3篇　鍍前、鍍后處理技術(shù)?第14章　鍍前處理技術(shù)??第15章　電鍍污水處理技術(shù)??第4篇　膜層質(zhì)量及檢測?第16章　PVD膜層質(zhì)量檢測??第17章　電鍍鍍層性能測試??參考文獻(xiàn)

章節(jié)摘錄

　　第1章　緒論　　鍍膜的方法很多，分類方法也各不一樣。按膜層的形成方法來分類，可以分為干式鍍膜和濕式鍍膜?！　「墒藉兡な侵冈谡婵盏臈l件下，應(yīng)用物理或化學(xué)的方法，將材料汽化成原子、分子或使其電離成離子，并通過氣相過程，在基體表面沉積一層具有特殊性能的薄膜技術(shù)，所以也稱為氣相沉積或真空鍍膜。干式鍍膜技術(shù)可以分為物理氣相沉積（Physical Vapor Cleposition，PVD）和化學(xué)氣相沉積（Chemical Vapor Cleposition，CVD）。　　濕式鍍膜是指將工件置于電解質(zhì)溶液中，通過化學(xué)、電化學(xué)的方法，使其表面形成鍍層，所以也有人稱為溶液法或液相沉積法?！　?.1　干式鍍膜（氣相沉積法）　　1.1.1物理氣相沉積鍍膜技術(shù)（PVD）　　PVD主要的方法有真空蒸鍍（Vacuum evaporation）、濺射鍍膜（Vacuum sputterng）、離子鍍（Ion plating）?！　?.真空蒸鍍　　真空蒸鍍是將鍍料在真空中加熱、蒸發(fā)，使蒸發(fā)的原子或原子團(tuán)在溫度較低的基板上析出，形成薄膜。這與水壺煮開水時(shí)，冒出的水蒸氣使玻璃窗蒙上一層模糊的水汽相似。它是利用電阻加熱，高頻感應(yīng)加熱或高能束（電子束、激光束、離子束等）轟擊使鍍膜材料轉(zhuǎn)化為氣相而沉積到基體表面上的一種成熟的技術(shù)?！　‰娮杓訜岱ㄑb置便宜、操作簡單，廣泛用于Au、Ag、Cu、Ni、Cr等半導(dǎo)體材料及電阻材料成膜，除特殊材料之外，差不多都能滿足鍍膜要求。電子束蒸發(fā)法多用于制作像半導(dǎo)體工業(yè)那樣要求純度極高的膜和絕緣物的蒸發(fā)、AL的高速蒸鍍、高熔點(diǎn)物質(zhì)的蒸鍍等。

編輯推薦

　　本書從實(shí)用的角度出發(fā)，對鍍膜技術(shù)中最常用的干式鍍膜中的物理氣相沉積、濕式鍍膜（液相沉積）中的電鍍方面的知識做較為系統(tǒng)的介紹，不少內(nèi)容是實(shí)際工作的經(jīng)驗(yàn)總結(jié)，可以直接用于生產(chǎn)。本書是本行業(yè)工作人員及其他對鍍膜技術(shù)感興趣的人士了解鍍膜技術(shù)及應(yīng)用的一本很好的入門書。

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