棱鏡反射光技術(shù)與工程應(yīng)用

內(nèi)容概要

本書以消失波特性、棱鏡表面等離子體共振特性、受阻全內(nèi)反射特性和電介質(zhì)薄膜增強(qiáng)古斯一漢欣位移理論為基礎(chǔ)，以棱鏡反射光技術(shù)與應(yīng)用為主體內(nèi)容。包括：基于棱鏡反射光的特性，重點(diǎn)研究自聚焦透鏡在棱鏡鏡面反射光方向作準(zhǔn)直耦舍系統(tǒng)的附加耦合損耗，為研制棱鏡型光纖傳感器選擇棱鏡材料提供了理論指導(dǎo)；基于洛倫茲電子論和菲涅耳公式，研究棱鏡反射光原理及其在測(cè)量溶液濃度方面的應(yīng)用；討論表面等離子體共振傳感技術(shù)在測(cè)量溶液濃度、指紋識(shí)別和表面形貌探測(cè)方面的應(yīng)用；研究增強(qiáng)古斯一漢欣位移的方法及其在測(cè)量溶液濃度和研發(fā)相關(guān)光學(xué)器件方面的應(yīng)用。    本書可作為物理電子學(xué)、光信息科學(xué)與技術(shù)、生物與醫(yī)學(xué)工程和光電子學(xué)等學(xué)科研究生的教學(xué)和科研用書，也可作為相關(guān)學(xué)科的研究生和科技人員的參考書。

作者簡(jiǎn)介

　　張志偉，主要作品：《現(xiàn)代火力戰(zhàn)》 《棱鏡反射光技術(shù)與工程應(yīng)用》 《神圣使命:國(guó)家與國(guó)防》 《神圣不可侵犯:中國(guó)的領(lǐng)土與主權(quán)》 《眾志成城:中國(guó)的國(guó)防法規(guī)》 《出鞘神劍:中國(guó)的武裝力量》 《走向強(qiáng)大:中國(guó)的國(guó)防現(xiàn)代化建設(shè)》 《J2EE構(gòu)建企業(yè)系統(tǒng):專家級(jí)解決方案》 《西方哲學(xué)問題研究》

書籍目錄

第1章　緒論  1.1　研究的內(nèi)容、目的和意義  1.2　棱鏡反射光在測(cè)量溶液濃度中的應(yīng)用    1.2.1　測(cè)量溶液濃度的現(xiàn)狀    1.2.2　基于表面等離子體共振技術(shù)測(cè)量溶液濃度的發(fā)展概況    1.2.3  電介質(zhì)薄膜增強(qiáng)古斯一漢欣位移的研究現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì)  1.3　雙棱鏡結(jié)構(gòu)中受阻全內(nèi)反射技術(shù)的研究進(jìn)展第2章  自聚焦透鏡在棱鏡型光學(xué)傳感器中的應(yīng)用研究  2.1  自聚焦透鏡的基本概念與基本理論    2.1.1  自聚焦透鏡的物理基礎(chǔ)    2.1.2  自聚焦透鏡的工作原理  2.2  自聚焦透鏡準(zhǔn)直系統(tǒng)的裝配誤差及其引起的附加耦合損耗分析    2.2.1  自聚焦透鏡的長(zhǎng)度與焦距    2.2.2  自聚焦透鏡準(zhǔn)直系統(tǒng)的裝配誤差類型    2.2.3  自聚焦透鏡準(zhǔn)直系統(tǒng)的裝配誤差引起的附加耦合損耗分析方法  2.3  自聚焦透鏡用于準(zhǔn)直系統(tǒng)時(shí)附加耦合損耗的研究    2.3.1  自聚焦透鏡作為準(zhǔn)直透鏡的附加耦合損耗    2.3.2  自聚焦透鏡間加入轉(zhuǎn)向直角棱鏡后的附加耦合損耗    2.3.3  自聚焦透鏡在棱鏡鏡面反射方向作準(zhǔn)直耦合系統(tǒng)的附加耦合損耗第3章　棱鏡反射光測(cè)量溶液濃度理論和方法的研究  3.1  平面光波在界面反射與折射的基本概念和基本理論    3.1.1　反射定律與折射定律    3.1.2　菲涅耳公式  3.2　溶液的濃度與其折射率關(guān)系的研究    3.2.1  溶液的濃度與其折射率之間的線性關(guān)系的理論模型    3.2.2　食鹽溶液的濃度與其折射率關(guān)系的實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ汀　?.2.3  白糖溶液的濃度與其折射率關(guān)系的實(shí)驗(yàn)?zāi)Ｐ? 3.3　基于菲涅耳公式測(cè)量溶液濃度的簡(jiǎn)單模型    3.3.1  基于菲涅耳公式測(cè)量溶液濃度的特點(diǎn)    3.3.2　基于菲涅耳公式測(cè)量溶液濃度計(jì)算模型的建立方法    3.3.3　基于菲涅耳公式測(cè)量溶液濃度的計(jì)算模型的實(shí)驗(yàn)裝置    3.3.4　基于菲涅耳公式測(cè)量溶液濃度的計(jì)算程序第4章　棱鏡型表面等離子體共振傳感技術(shù)與應(yīng)用研究  4.1  平面光波在界面的全反射特性與消失波的基本概念與基本理論    4.1.1  平面光波的全反射特性    4.1.2　消失波的基本概念及其特點(diǎn)和應(yīng)用  4.2　金屬薄膜的基本特性    4.2.1　金屬薄膜光學(xué)特性的一般特點(diǎn)    4.2.2　銀膜和金膜在應(yīng)用中的特點(diǎn)    4.2.3　透明基片上的單層吸收膜的反射特性  4.3  表面等離子體共振傳感器的基本概念和基本理論    4.3.1  等離子體與表面等離子體的概念    4.3.2　表面等離子體共振效應(yīng)的基本概念    4.3.3　表面等離子體波共振的三種解釋  4.4　棱鏡型表面等離子體共振傳感器的理論與實(shí)驗(yàn)研究    4.4.1  棱鏡型SPR傳感器金屬膜的厚度    4.4.2　棱鏡折射率對(duì)SPR傳感器共振角的影響    4.4.3　溶液濃度對(duì)SPR傳感器共振角的影響    4.4.4　光強(qiáng)度調(diào)制型SPR傳感器測(cè)量溶液濃度方法的研究    4.4.5　棱鏡型SPR傳感器的靈敏度與影響因數(shù)  4.5　保偏光纖及其在棱鏡型SPR傳感器中的應(yīng)用研究　　4.5.1  單模光纖的理想偏振特性與雙折射效應(yīng)    4.5.2　低雙折射單模光纖    4.5.3　保偏光纖的基本原理    4.5.4　保偏光纖的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)    4.5.5　保偏光纖的參數(shù)與應(yīng)用    4.5.6　保偏光纖的精確定位方法    4.5.7　溫度對(duì)保偏光纖的影響    4.5.8　棱鏡型保偏光纖SPR傳感器  4.6　棱鏡型表面等離子體共振成像技術(shù)及其應(yīng)用    4.6.1　棱鏡型SPRI技術(shù)的理論基礎(chǔ)    4.6.2　棱鏡型SPRI技術(shù)在指紋采集系統(tǒng)中的應(yīng)用　　……第5章　電介質(zhì)薄膜增強(qiáng)古斯—漢欣位移方法與應(yīng)用研究第6章　結(jié)論與建議附錄參考文獻(xiàn)

章節(jié)摘錄

　　第1章　緒論　　1.1　研究的內(nèi)容、目的和意義　　考慮棱鏡與介質(zhì)構(gòu)成的光學(xué)界面如圖1．1所示。在光束從光密介質(zhì)（折射率n。）入射到光疏介質(zhì)（折射率n2）時(shí)，入射角θ1存在一個(gè)臨界角θc。當(dāng)入射角小于臨界角時(shí)，入射光束被介質(zhì)界面反射和折射，部分能量被反射回光密介質(zhì)，部分能量被折射到光疏介質(zhì)，折射角θ2和入射角θ1，之間的關(guān)系由斯涅耳（snell）定律n1sinθ1=n3sinθ2決定。當(dāng)入射角大于臨界角時(shí)，出現(xiàn)了全反射現(xiàn)象，此時(shí)，入射光束的能量被介質(zhì)界面全部反射回光密介質(zhì)?！　”緯饕懻摵脱芯坷忡R反射光技術(shù)和應(yīng)用。物理光學(xué)方面的一系列理論和實(shí)驗(yàn)研究的不斷完善以及光纖技術(shù)、棱鏡鍍膜技術(shù)和光電檢測(cè)技術(shù)的不斷發(fā)展，為深入研究和應(yīng)用棱鏡反射光提供了可能，這些理論和方法包括對(duì)消失波特性、棱鏡表面等離子體共振特性和電介質(zhì)薄膜增強(qiáng)古斯一漢欣位移的深人研究以及保偏光纖技術(shù)和棱鏡表面等離子體傳感技術(shù)實(shí)際應(yīng)用?！　∫岳忡R反射光為基礎(chǔ)的測(cè)量方法已經(jīng)引起更多的重視和研究。在入射角小于臨界角情況下測(cè)量的依據(jù)是菲涅耳公式，具有極普遍的意義，因此對(duì)待測(cè)溶液沒有特殊要求，適應(yīng)范圍廣。

編輯推薦

　　《棱鏡反射光技術(shù)與工程應(yīng)用》特色：1.講述在測(cè)量溶液濃度檢測(cè)方面的應(yīng)用；2.探討在指紋識(shí)別和表面形貌探測(cè)方面的應(yīng)用；3.展望研發(fā)相關(guān)光學(xué)器件方面的應(yīng)用。　　《棱鏡反射光技術(shù)與工程應(yīng)用》新意：基于表面等離子體共振技術(shù)，雙棱鏡結(jié)構(gòu)中受阻全內(nèi)反射技術(shù)，電介質(zhì)薄膜增強(qiáng)古斯-漢欣位移技術(shù)，自聚焦透鏡在棱鏡型光學(xué)傳感器中的應(yīng)用。

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