電鍍添加劑理論與應(yīng)用

內(nèi)容概要

本書由兩大部分組成。第一部分闡述電鍍添加劑的作用機(jī)理，包括添加劑的吸附及在陰極的還原，對鍍層光亮的影響，對鍍層整平作用的影響，對鍍層物理力學(xué)性能的影響以及光亮電鍍的理論。第二部分闡述電鍍前處理及電鍍各種金屬所用添加劑的演變過程，各鍍種所用添加劑的結(jié)構(gòu)、性能與分類，以及各種金屬的電鍍工藝及其實(shí)用添加劑的配方。    本書適用于所有從事電鍍、化學(xué)鍍的生產(chǎn)，教學(xué)和科研人員閱讀。

作者簡介

方景禮，1940年生，福建省建甌市人。1962年南京大學(xué)化學(xué)系畢業(yè)，1965年南京大學(xué)化學(xué)系研究生畢業(yè)。從師于中國化學(xué)會創(chuàng)始人、中國科學(xué)院院士戴安邦教授。為澳大利亞金屬精飾學(xué)會(AIMF)、英國金屬精飾學(xué)會(IMF)和美國電鍍與表面精飾學(xué)會(AESF)會員。是《應(yīng)用化學(xué)》、《表面

書籍目錄

第一章 配位離子電解沉積的基本過程  1.1 水合金屬配位離子的電解沉積過程    1.1.1 水合金屬配位離子的電解沉積    1.1.2 水合金屬離子的配位與絡(luò)合    1.1.3 電鍍過程概述    1.1.4 電極反應(yīng)的速度和鍍層品質(zhì)的關(guān)系  1.2 獲得良好鍍層的條件    1.2.1 電場強(qiáng)度    1.2.2 電極的表面狀態(tài)    1.2.3 配位離子的形態(tài)與結(jié)構(gòu)    1.2.4 配位離子的傳輸速度    1.2.5 添加劑  1.3 配位體對金屬離子電解沉積速度的影響    1.3.1 水合金屬離子的電極反應(yīng)速度與其內(nèi)配位水取代反應(yīng)速度的關(guān)系    1.3.2 配位體配位能力的影響    1.3.3 配位體濃度的影響    1.3.4 配位體形態(tài)(或鍍液pH)的影響    1.3.5 橋聯(lián)配位體的影響    1.3.6 多種配位體的競爭    1.3.7 易吸附配位體的影響    1.3.8 表面活性物質(zhì)的影響第二章 有機(jī)添加劑的陰極還原  2.1 有機(jī)添加劑的吸附、還原和它的光亮作用  2.2 有機(jī)添加劑的還原與還原電位    2.2.1 有機(jī)物還原電位的表示法    2.2.2 有機(jī)物還原的半波電位  2.3 有機(jī)添加劑的電解還原條件與還原產(chǎn)物    2.3.1 醛、酮類有機(jī)物的電解還原    2.3.2 不飽和烴的電解還原    2.3.3 亞胺的電解還原    2.3.4 其他類有機(jī)物的電解還原  2.4 取代基對添加劑還原電位的影響    2.4.1 誘導(dǎo)效應(yīng)與共軛效應(yīng)    2.4.2 Hammett方程與取代基常數(shù)    2.4.3 取代基對有機(jī)添加劑還原電位的影響  2.5 鍍鎳光亮劑的陰極還原    2.5.1 第一類(或初級)光亮劑的陰極還原    2.5.2 第二類(或次級)光亮劑的陰極還原第三章 光亮電鍍理論  3.1 光亮電鍍的幾種理論    3.1.1 細(xì)晶理論    3.1.2 晶面定向理論    3.1.3 膠體膜理論    3.1.4 電子自由流動理論  3.2 平滑細(xì)晶理論    3.2.1 提出平滑細(xì)晶理論的依據(jù)    3.2.2 表面平滑對光亮的影響    3.2.3 表面晶粒尺寸對光亮的影響  3.3 獲得細(xì)晶鍍層的條件    3.3.1 晶核形成速度與超電壓的關(guān)系    3.3.2 添加劑做為晶粒細(xì)化劑一第四章 整平作用與整平劑  4.1 整平劑的整平作用    4.1.1 微觀不平表面的物理化學(xué)特征    4.1.2 整平作用的類型    4.1.3 整平作用的機(jī)理  4.2 整平能力的測定方法    4.2.1 “V”形微觀輪廓法    4.2.2 假正弦波法    4.2.3 梯形槽法    4.2.4 電化學(xué)測量法  4.3 鍍鎳整平劑    4.3.1 炔類化合物的整平作用    4.3.2 炔類整平劑的結(jié)構(gòu)對整平能力的影響    4.3.3 含氮雜環(huán)類整平劑的整平作用  4.4 酸性光亮鍍銅整平劑    4.4.1 染料類整平劑的整平作用    4.4.2 取代基對酸性光亮鍍銅整平劑其整平能力的影響    ……第五章  表面活性劑及其電鍍中的作用第六章  添加劑對鍍層性能的影響第七章  電鍍前處理用添加劑第八章  鍍鎳添加劑第九章  鍍銅添加劑第十章  鍍鋅添加劑第十一章  酸性光亮鍍錫和鉛錫合金添加劑第十二章  電鍍貴金屬的添加劑第十三章  鍍鉻添加劑第十四章  化學(xué)鍍銅添加劑第十五章  化學(xué)鍍鎳添加劑附錄Ⅰ  電鍍常用化學(xué)品的性質(zhì)與用途附錄Ⅱ  常用化合物的金屬含量和溶解度附錄Ⅲ  某些元素的電化當(dāng)量及有關(guān)數(shù)據(jù)附錄Ⅳ  質(zhì)子合常數(shù)和絡(luò)合微穩(wěn)定常數(shù)表附錄Ⅴ  難溶化合物的溶度積參考文獻(xiàn)

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