TFT/LCD薄膜晶體管尋址的液晶顯示器

內(nèi)容概要

　　本書是20世紀(jì)90年代由日本專家Tbshihisa
Tsukada編寫的一本TFT／LCD(薄膜晶體管尋址／液晶顯示器)基礎(chǔ)書籍，內(nèi)容言簡意賅、深入淺出，被日本和韓國許多業(yè)內(nèi)人士作為液晶顯示領(lǐng)域的啟蒙類基礎(chǔ)書籍。書中內(nèi)容對于目前國內(nèi)蓬勃發(fā)展的顯示產(chǎn)業(yè)有很高的參考價(jià)值，特別是對高校師生有學(xué)習(xí)參考價(jià)值。本書是有關(guān)TFT／LCD技術(shù)的參考書，介紹了TFT／LCD的基本知識、操作原理和設(shè)計(jì)方法，薄膜晶體管原理，氫化非晶硅基礎(chǔ)知識和液晶顯示的基本知識。
　　本書可以作為相關(guān)專業(yè)高等院校師生的教學(xué)參考書，也可供相關(guān)領(lǐng)域的工程技術(shù)人員參考。

書籍目錄

譯者的話
前言
第1章　引言
第1章　參考文獻(xiàn)
第2章　TFT/LCD
2．1TFT/LCD的結(jié)構(gòu)
2．2像素設(shè)計(jì)
2．3設(shè)計(jì)分析
2．3．1像素電容的充電
2．3．2電壓的偏移
2．3．3柵線延遲
2．3．4色度設(shè)計(jì)
2．4TFT屏的制造
第2章　參考文獻(xiàn)
第3章　TFT
3．1氫化非晶硅薄膜晶體管
3．2TFT的特點(diǎn)
3．2．1電流—電壓特征
3．2．2寄生效應(yīng)
3．3閾值電壓漂移
3．4有關(guān)工藝問題
3．4．1鋁柵極TFT
3．4．2自對位工藝
3．5a-Si：H TFT的計(jì)算機(jī)模擬
第3章　參考文獻(xiàn)
第4章　氫化非晶硅
4．1非晶半導(dǎo)體
4．2a-Si：H的態(tài)密度
4．3電導(dǎo)率和載流子遷移率
4．4a?Si：H的吸收光譜
4．4．1光學(xué)吸收
4．4．2紅外吸收
第4章　參考文獻(xiàn)
第5章　扭曲向列液晶盒
5．1TN液晶盒的閾值電壓
5．2TN液晶盒的C—V特性
5．3TN液晶盒的光學(xué)性能
5．4超扭曲向列(STN)液晶盒
第5章　參考文獻(xiàn)
第6章　液晶
6．1介電常數(shù)和折射率
6．2彈性常數(shù)
6．3黏性
第6章　參考文獻(xiàn)
參考文獻(xiàn)

圖書封面

圖書標(biāo)簽Tags

無

評論、評分、閱讀與下載

---

    TFT/LCD薄膜晶體管尋址的液晶顯示器 PDF格式下載

---