出版時間:2005-7 出版社:機械工業(yè)出版社 作者:吳懿平 頁數(shù):346
Tag標簽:無
內(nèi)容概要
本書介紹了電子產(chǎn)品的主要制造技術,內(nèi)容包括電子制造概述、芯片設計與制造技術、元器件的互連封裝技術、無源元件制造技術、光電子封裝技術、微機電系統(tǒng)工藝技術、封裝基板技術、電子組裝技術、封裝材料以及微電子制造設備。書中簡要介紹了晶圓制造,重點介紹了電子封裝與組裝技術,系統(tǒng)介紹了制造工藝、相關材料及應用。 本書可作為機械、材料與材料加工、微電子、半導體、計算機與通信、化工等相關專業(yè)本科生、研究生的教材,也可作為廣大科技工作者、工程技術人員了解電子制造技術的入門參考書。
書籍目錄
序前言第一章 電子制造概述 第一節(jié) 電子制造的基本概念 一 制造與電子制造 二 電子產(chǎn)品總成結構的分級 第二節(jié) 電子制造技術回顧 一 晶體管的發(fā)明 二 集成電路的誕生 三 MOS管的出現(xiàn) 四 集成電路的發(fā)展 五 電子封裝技術的發(fā)展第二章 芯片設計與制造技術 第一節(jié) 集成電路物理基礎 一 半導體的導電性 二 PN結 三 晶體管制工作原理 第二節(jié) 集成電路的設計原理 一 集成電路的設計流程 二 集成電路版圖設計基礎 三 制版和光刻工藝 四 MOS集成電路的版圖設計 五 雙極型集成電路的版圖設計 第三節(jié) 微電子系統(tǒng)設計 一 設計方法分類 二 專用集成電路與設計方法 三 門陣列設計方法 四 可編程陣列邏輯 五 通用陳列邏輯 六 現(xiàn)場可編程門陣列 第四節(jié) 芯片制造工藝 一 硅材料 二 潔凈室分類 三 氧化工藝 四 公演氣相沉積 五 光刻 六 光刻掩模的制作 七 擴散 八 離子注入 九 電極與多層布線 十 CMOS集成電路制作過程第三章 元器件的互連封裝技術 第一節(jié) 引線鍵合技術 一 鍵合原理 二 鍵合工藝 第二節(jié) 載帶自動焊技術 一 TAB技術的特點與分類 二 TAB基帶材料 三 芯片凸點制作 四 TAB互連封裝工藝 五 帶凸點的載帶制作 第三節(jié) 倒裝芯片技術 一 倒裝芯片技術特點 二 凸點技術 三 倒裝焊工藝方法 第四節(jié) 芯片級互連的比較 第五節(jié) 元器件的封裝 一 塑料封裝和陶瓷封裝的特點 二 插裝IC的標準封裝形式 三 表面貼裝器件的標準封裝 ……第四章 無源元件制造技術第五章 光電子封裝技術第六章 微機電系統(tǒng)工藝技術第七章 封裝基板技術第八章 電子組裝技術第九章 封裝材料第十章 微電子制造設備參考文獻 第一節(jié) 第二節(jié) 第三節(jié)第章 第一節(jié) 第二節(jié) 第三節(jié)第章 第一節(jié) 第二節(jié) 第三節(jié)
圖書封面
圖書標簽Tags
無
評論、評分、閱讀與下載