出版時(shí)間:2008-10 出版社:高等教育出版社 作者:姜辛 等著 頁數(shù):328 字?jǐn)?shù):410000
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前言
半導(dǎo)體物理學(xué)在最近幾十年取得了驚人的進(jìn)展,其動(dòng)力源于半導(dǎo)體材料及其廣闊的應(yīng)用背景與理論和應(yīng)用的有機(jī)結(jié)合。這一方面推動(dòng)了基礎(chǔ)理論的進(jìn)步,另一方面促進(jìn)了新型實(shí)用材料體系和先進(jìn)工藝制備技術(shù)的不斷涌現(xiàn)。充分體現(xiàn)新材料是支撐現(xiàn)代文明社會(huì)的基礎(chǔ)和促進(jìn)高技術(shù)發(fā)展的先導(dǎo)。微電子技術(shù)特別是顯示技術(shù)和太陽能光電轉(zhuǎn)換技術(shù)等熱點(diǎn)領(lǐng)域的巨大需求,使得無論從基礎(chǔ)研究還是應(yīng)用開發(fā)方面,推動(dòng)了一個(gè)很重要的領(lǐng)域——氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電薄膜體系——的蓬勃發(fā)展。
內(nèi)容概要
本書主要論述透明導(dǎo)電薄膜的性能與技術(shù),比較系統(tǒng)全面地介紹了透明導(dǎo)電氧化物薄膜的結(jié)構(gòu)、性能、制備、表征與應(yīng)用,反映了當(dāng)前透明導(dǎo)電氧化物薄膜性能與技術(shù)研究、發(fā)展的前沿信息。全書共七章,包括了透明導(dǎo)電氧化物薄膜的基本特征、沉積制備、性能分析檢測、微細(xì)結(jié)構(gòu)、電學(xué)性能、光學(xué)性能及應(yīng)用等內(nèi)容。書中不僅包含作者近年來在國內(nèi)外的最新研究成果,還概括了國內(nèi)外很多學(xué)者在透明導(dǎo)電氧化物薄膜研究上的主要成就,是本比較系統(tǒng)全面的透明導(dǎo)電氧化物薄膜論著。
作者簡介
姜辛,德國夫瑯和費(fèi)薄膜與表面工程研究所高級(jí)研究員,材料學(xué)專家。1983年畢業(yè)于吉林大學(xué)物理系,獲學(xué)士學(xué)位;1992年在世界上首先獲得金剛石在Si上的異質(zhì)外延生長,該方法在全世界被廣泛采用來制備高質(zhì)量金剛石膜。在15年的科學(xué)研究中,在薄膜技術(shù)領(lǐng)域,尤其在金剛石外延領(lǐng)域多年處于世界領(lǐng)先地位,成為世界著名學(xué)者之一,其發(fā)表文章100余篇,引用總次數(shù)1000余次,國際特邀報(bào)告10余次。作為華人,首次在德國獲得教授資格及第二學(xué)位(Dr.rer.nat.habil.),并在布倫瑞克大學(xué)任教授。目前主要從事薄膜太陽能電池,外延膜的生長,納米復(fù)合梯度膜的制備,納米材料等方面的研究。2002年同時(shí)受到德國Clausthal技術(shù)大學(xué)及濟(jì)根大學(xué)終身教授聘請(qǐng)。
書籍目錄
第一章 透明導(dǎo)電薄膜概述 1.1 概述 1.2 透明導(dǎo)電薄膜的分類 1.3 透明導(dǎo)電薄膜的基本特性 1.3.1 透明導(dǎo)電金屬薄膜 1.3.2 透明導(dǎo)電氧化物薄膜 1.4 透明導(dǎo)電氧化物薄膜的研究現(xiàn)狀 1.4.1 SnO2薄膜及其摻雜體系 1.4.2 Cd2SnO4薄膜體系 1.4.3 In2O3薄膜及其摻雜體系 1.4.4 ZnO薄膜及其摻雜體系 1.5 透明導(dǎo)電氧化物薄膜的應(yīng)用 1.5.1 ITO薄膜的主要應(yīng)用 1.5.2 ZnO薄膜的主要應(yīng)用 1.5.3 透明導(dǎo)電薄膜的其他應(yīng)用 參考文獻(xiàn)第二章 透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備技術(shù) 2.1 概述 2.2 真空蒸發(fā)鍍膜 2.2.1 真空蒸發(fā)鍍膜原理 2.2.2 真空蒸發(fā)的方式和設(shè)備 2.3 濺射鍍膜 2.3.1 概述 2.3.2 濺射鍍膜原理 2.3.3 濺射鍍膜的特點(diǎn) 2.3.4 濺射鍍膜裝置 2.3.5 磁控濺射沉積ITO薄膜 2.3.6 ITO鍍膜生產(chǎn)實(shí)例 2.3.7 磁控濺射沉積ZnO薄膜 2.4 化學(xué)氣相沉積 2.4.1 化學(xué)氣相沉積的原理 2.4.2 化學(xué)氣相沉積的分類與特點(diǎn) 2.4.3 化學(xué)氣相沉積ITO薄膜工藝 2.4.4 化學(xué)氣相沉積的ZnO薄膜制備工藝 2.5 其他化學(xué)沉積方法 2.5.1 溶膠-凝膠法制備透明導(dǎo)電薄膜 2.5.2 噴涂熱分解法制備透明導(dǎo)電薄膜 2.6 透明導(dǎo)電薄膜制備技術(shù)的比較 2.6.1 不同技術(shù)沉積的ITO薄膜的性能比較 2.6.2 不同技術(shù)沉積的ZnO薄膜的性能比較 2.6.3 其他透明導(dǎo)電薄膜的制備技術(shù) 參考文獻(xiàn)第三章 薄膜的分析和性能檢測技術(shù) 3.1 概述 3.2 薄膜形貌分析 3.2.1 掃描電子顯微鏡 3.2.2 透射電子顯微鏡 3.2.3 掃描探針顯微鏡 3.3薄 膜相結(jié)構(gòu)分析 3.3.1 X射線衍射 3.3.2 電子衍射 3.4 薄膜成分分析 3.4.1 概述 3.4.2 電子探針X射線顯微分析 3.4.3 電子能譜分析 3.4.4 二次離子質(zhì)譜(SIMS) 3.5 表面電子態(tài)分析 3.6 表面原子態(tài)分析 3.7 薄膜厚度測量 3.7.1 薄膜厚度的概念 3.7.2 薄膜厚度的測量方法 3.8 薄膜電學(xué)性能測量 3.8.1 四點(diǎn)探針法 3.8.2 霍爾效應(yīng) 3.9 薄膜光學(xué)性能測量 3.9.1 透射率和反射率測量 3.9.2 橢圓偏振測量技術(shù) 參考文獻(xiàn)第四章 透明導(dǎo)電薄膜的結(jié)構(gòu)特性 4.1 概述 4.2 ITO薄膜的結(jié)構(gòu)特性 4.2.1 ITO薄膜的相結(jié)構(gòu) 4.2.2 ITO薄膜的成分分布及化學(xué)態(tài) 4.2.3 ITO薄膜的組織形貌 4.3 ZnO:Al薄膜的結(jié)構(gòu)特性 4.3.1 ZnO薄膜的相結(jié)構(gòu) 4.3.2 ZnO薄膜的晶體生長模式 4.3.3 ZnO薄膜的成分分布及化學(xué)態(tài) 4.3.4 ZnO薄膜的能帶結(jié)構(gòu)及表面功函數(shù) 參考文獻(xiàn)第五章 透明導(dǎo)電薄膜的電學(xué)性能 5.1 概述 5.2 半導(dǎo)體薄膜中的電荷輸運(yùn)現(xiàn)象 5.2.1 單晶半導(dǎo)體材料中的電傳導(dǎo) 5.2.2 多晶材料中的電傳導(dǎo) 5.2.3 非晶材料中的傳導(dǎo)機(jī)制 5.3 未摻雜透明導(dǎo)電薄膜的電學(xué)性能 5.3.1 沉積工藝參數(shù)的影響 5.3.2 薄膜厚度的影響 5.3.3 沉積后退火處理的影響 5.4 摻雜透明導(dǎo)電膜的電學(xué)性能 5.4.1 摻雜量的影響 5.4.2 沉積工藝參數(shù)的影響 5.4.3 沉積后退火處理的影響 5.5 透明導(dǎo)電薄膜導(dǎo)電機(jī)制的實(shí)驗(yàn)研究 5.6 透明導(dǎo)電氧化物薄膜電學(xué)性能的幾個(gè)值得關(guān)注的問題 參考文獻(xiàn)第六章 透明導(dǎo)電薄膜的光學(xué)性能 6.1 概述 6.2 光學(xué)常數(shù) 6.2.1 折射系數(shù)和消光系數(shù) 6.2.2 禁帶寬度 6.3 光學(xué)和電學(xué)性質(zhì)的關(guān)聯(lián)性 6.4 半導(dǎo)體氧化物薄膜的光學(xué)性質(zhì) 6.4.1 禁帶寬度 6.4.2 折射系數(shù)和消光系數(shù) 6.4.3 透射、反射和吸收 6.5 提高透明導(dǎo)電氧化物薄膜光學(xué)性能值得關(guān)注的技術(shù) 參考文獻(xiàn)第七章 透明導(dǎo)電薄膜的應(yīng)用研究 7.1 概述 7.2 透明導(dǎo)電薄膜的性能指數(shù) 7.3 波長(頻率)選擇特性應(yīng)用 7.3.1 波長(頻率)選擇特性 7.3.2 摻雜對(duì)光學(xué)性能的影響 7.4 在薄膜太陽能電池上的應(yīng)用 7.4.1 薄膜太陽能電池結(jié)構(gòu) 7.4.2 透明導(dǎo)電氧化物薄膜太陽能電池 7.4.3 透明導(dǎo)電薄膜用于太陽能電池的面電極 7.5 在顯示器件上的應(yīng)用 7.5.1 透明導(dǎo)電薄膜在發(fā)光二極管上的應(yīng)用 7.5.2 ITO透明導(dǎo)電薄膜在長壽命電致發(fā)光器件上的應(yīng)用 7.5.3 SnO2、ITO透明薄膜電極在PbO光電導(dǎo)靶上的應(yīng)用 7.5.4 SnO2、ITO透明導(dǎo)電薄膜電極在液晶顯示器上的應(yīng)用 7.6 在氣敏元件上的應(yīng)用 7.6.1 甲烷和丙烷氣敏元件 7.6.2 一氧化碳探測器 7.6.3 氫氣敏元件 7.6.4 乙醇探測器 7.6.5 氮氧化物氣敏元件 7.6.6 其他氣體的氣敏元件 7.7 ZnO薄膜在壓電器件中的應(yīng)用 7.7.1 ZnO壓電薄膜的制備 7.7.2 壓電性能 7.7.3 壓電薄膜的應(yīng)用 7.8 其他應(yīng)用 7.8.1 In2O3、ITO透明導(dǎo)電薄膜在航空航天、汽車、高速列車上的應(yīng)用 7.8.2 透明導(dǎo)電薄膜在電子器件上的應(yīng)用 7.8.3 在防護(hù)涂層方面的應(yīng)用 7.9 透明導(dǎo)電薄膜今后應(yīng)著力研究解決的重要科學(xué)技術(shù) 參考文獻(xiàn)
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