分析化學(xué)及實(shí)驗(yàn)

內(nèi)容概要

本書是普通高等教育“十二五”規(guī)劃教材。全書共分為緒論、實(shí)驗(yàn)前準(zhǔn)備、強(qiáng)堿滴定酸、強(qiáng)酸滴定堿、配位平衡及配位滴定法、氧化還原平衡及氧化還原滴定法、沉淀平衡及沉淀滴定法、重量分析法等八章，各章均用相應(yīng)的實(shí)驗(yàn)引出理論知識(shí)，具有教學(xué)針對(duì)性強(qiáng)、內(nèi)容實(shí)用等特點(diǎn)。
本書可作為化工、醫(yī)藥、食品、環(huán)保、輕工等高等職業(yè)院校、應(yīng)用型本科院校的專業(yè)用書，也可作為分析檢驗(yàn)工作者的參考資料。

書籍目錄

前言
第一章　緒論
第二章　實(shí)驗(yàn)前的準(zhǔn)備
　項(xiàng)目一　分析實(shí)驗(yàn)室基礎(chǔ)知識(shí)
　項(xiàng)目二　滴定分析儀器和溶液體積的校準(zhǔn)
第三章　強(qiáng)堿滴定酸
　項(xiàng)目一　強(qiáng)堿標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制與標(biāo)定
　項(xiàng)目二　強(qiáng)堿滴定一元強(qiáng)酸模式
　項(xiàng)目三　強(qiáng)堿滴定一元弱酸模式
　項(xiàng)目四　強(qiáng)堿滴定多元弱酸模式
第四章　強(qiáng)酸滴定堿
　項(xiàng)目一　強(qiáng)酸標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制與標(biāo)定
　項(xiàng)目二　強(qiáng)酸滴定一元強(qiáng)堿模式
　項(xiàng)目三　強(qiáng)酸滴定一元弱堿模式
　項(xiàng)目四　強(qiáng)酸滴定多元弱堿模式
第五章　配位平衡與配位滴定法
　項(xiàng)目一　EDTA標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制與標(biāo)定
　項(xiàng)目二　無副反應(yīng)的配位滴定模式
　項(xiàng)目三　有副反應(yīng)的配位滴定模式
　項(xiàng)目四　控制酸度連續(xù)選擇配位滴定模式
第六章　氧化還原平衡與氧化還原滴定法
　項(xiàng)目一　轉(zhuǎn)移電子數(shù)相等的可逆對(duì)稱氧化還原滴定模式——硫酸鈰法
　項(xiàng)目二　轉(zhuǎn)移電子數(shù)不相等的可逆氧化還原滴定模式
　項(xiàng)目三　不可逆對(duì)稱氧化還原滴定模式——高錳酸鉀法
第七章　沉淀平衡與沉淀滴定法
　項(xiàng)目一　莫爾（Mohr）法
　項(xiàng)目二　佛爾哈德（Volhard）法——返滴定法測定鹵素離子
　項(xiàng)目三　法揚(yáng)司（Fajans）法
第八章　重量分析法
　項(xiàng)目一　氣化法——直接灰化法
　項(xiàng)目二　沉淀重量法
主要參考文獻(xiàn)
附錄
　附錄一　常用酸堿的密度和濃度
　附錄二　常用緩沖溶液的配制
　附錄三　常用基準(zhǔn)物質(zhì)的干燥條件和應(yīng)用
　附錄四　常用指示劑
　附錄五　弱酸弱堿在水中的離解常數(shù)（25℃，I=0）
　附錄六　配合物的穩(wěn)定常數(shù)（18～25℃）
　附錄七　羧酸配位劑類配合物的穩(wěn)定常數(shù)（18～25℃，I=0.1）
　附錄八　標(biāo)準(zhǔn)電極電位表（18～25℃）
　附錄九　某些氧化還原電對(duì)的條件電位ψθ'
　附錄十　微溶化合物的溶度積（18～25℃，I=0）
　附錄十一　化合物式量表

章節(jié)摘錄

版權(quán)頁：   插圖：   （三）影響沉淀純度的主要因素 1.共沉淀現(xiàn)象 所謂的共沉淀現(xiàn)象（Coprecipitation）是指在進(jìn)行某種物質(zhì)的沉淀反應(yīng)時(shí)，某些可溶性的雜質(zhì)被同時(shí)沉淀下來的現(xiàn)象。例如，以BaCl2為沉淀劑沉淀SO42—時(shí)，若溶液中有Fe3+存在，當(dāng)BaSO4沉淀析出時(shí)，原本是可溶性的Fe2（SO4）3就會(huì)被夾在沉淀中，使得灼燒后的BaSO4中混有棕黃色的Fe3O4。共沉淀現(xiàn)象主要有以下幾類。 1）表面吸附引起的共沉淀 表面吸附（Adsorption）是由于晶體表面離子電荷不完全等衡所造成的。這種吸附一般認(rèn)為是物理吸附。例如，在BaSO4沉淀表面，由于表面離子電荷不完全等衡，它就要吸引溶液中帶相反電荷的離子于沉淀表面，組成吸附層（Adsorption Layer）。為了保持電中性，吸附層還可以再吸引異電荷離子（又稱為抗衡離子，Counter Ion）而形成較為松散的擴(kuò)散層（Diffusion Layer），吸附層和擴(kuò)散層共同組成沉淀表面的雙電層（Electrical Double Layer），構(gòu)成了表面吸附化合物。 一般來說，表面吸附是有選擇性的。由于沉淀劑一般是過量的，因而吸附層優(yōu)先吸附的是構(gòu)晶離子，其次是與構(gòu)晶離子大小相近，電荷相同的離子。擴(kuò)散層的吸附也具有一定的規(guī)律，在雜質(zhì)離子濃度相同時(shí)，優(yōu)先吸附能與構(gòu)晶離子形成溶解度或解離度最小的化合物的離子；例如，BaSO4沉淀時(shí)，若SO42—沉淀劑過量，則沉淀表面主要吸附的是SO42-。若溶液中存在Ca2+和Hg2+，則擴(kuò)散層將主要吸附Ca2+，因?yàn)镃aSO4的溶解度比HgSO4的小。如果BaSO4沉淀時(shí)，若是Ba2+沉淀劑過量，則沉淀表面主要吸附的是Ba2+。若溶液中存在Cl—和NO3—，則擴(kuò)散層將主要吸附NO3—，因?yàn)锽a（NO2）2的溶解度比BaCl2的小。通常離子的價(jià)態(tài)越高，濃度越大，就越易被吸附；另外，沉淀的比表面（單位質(zhì)量顆粒的表面積）越大，吸附的雜質(zhì)量也越大，因此，相對(duì)而言，表面吸附是影響無定形沉淀純度的主要原因；還需注意的是，對(duì)物理吸附來說，吸附過程是放熱過程，而解吸附（或脫附，Desorption）是吸熱過程，因此溶液的溫度越高，一般吸附的雜質(zhì)量也就越小。 2）吸留及包夾 若沉淀生長過快，使得表面吸附的雜質(zhì)離子來不及離開沉淀表面，就被隨后沉積上來的離子所覆蓋，這種現(xiàn)象稱為吸留（Occlusion）。它往往是由于沉淀劑加得過快所造成，是晶形沉淀不純的主要原因。它所引起共沉淀的程度同樣符合吸附規(guī)律。對(duì)于可溶性鹽的結(jié)晶，有時(shí)母液也可能被機(jī)械地包于沉淀之中，這種現(xiàn)象稱為包夾（Inclusion）。

圖書封面

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