納米壓印技術

內(nèi)容概要

近年來，納米壓印技術迅猛發(fā)展，已引起業(yè)界廣泛關注。本書結合作者所在單位一一納米加工技術實驗室的研究工作，基于近年來納米壓印的研究成果編寫而成。納米壓印技術包括壓印圖形轉移和后續(xù)的刻蝕結構轉移過程。本書首先簡單介紹了納米壓印技術的研究現(xiàn)狀；然后系統(tǒng)介紹了壓印模板的制備和處理、壓印用光刻膠、壓印工藝和刻蝕工藝等，并著重闡述了納米壓印加工制造技術；此外，還介紹了納米壓印技術在半導體光電器件、半導體存儲器件、生物技術和生命科學等領域的最新應用。
本書可供微納加工、電子器件、生物芯片等領域的科研人員及工程技術人員參考，也可作為高等院校相關專業(yè)研究生和高年級本科生的教材或參考書。

書籍目錄

序
前言
第1章 緒論
　1.1 引言
　1.2 納米壓印技術
 1.2.1 納米壓印技術的發(fā)展
 1.2.2 納米壓印技術的分類
 1.2.3 納米壓印技術的研究內(nèi)容
　1.3 納米壓印關鍵性技術
 1.3.1 模板
 1.3.2 壓印膠
 1.3.3 壓印過程缺陷
 1.3.4　對準套刻工藝
 1.3.5 三維結構壓印
 1.3.6　刻蝕結構轉移
　1.4 納米壓印技術的研究現(xiàn)狀和趨勢
 1.4.1 國內(nèi)外文獻分析
 1.4.2 國內(nèi)外專利分析
 1.4.3 國外納米壓印設備介紹
　1.5 納米壓印技術的應用與前景
　1.6 本書的章節(jié)安排
 參考文獻
第2章　模板制備
　2.1 概述
　2.2 制備模板的材料
　2.3 制備模板的方法
 2.3.1 電子束光刻
 2.3.2　離子束光刻
 2.3.3　極紫外光刻
 2.3.4　X射線光刻
 2.3.5　激光全息光刻
 2.3.6 單層納米球刻印術
 2.3.7 邊緣光刻
 2.3.8　化學氣相沉積
 2.3.9　濕法刻蝕
 2.3.10　嵌段聚合物組裝模板
 2.3.11 軟模板復型
 2.3.12 氧化法制多孔氧化鋁模板
 2.3.13 電鑄法
 2.3.14 原子力顯微鏡刻蝕
　2.4　模板檢測的方法
 2.4.1 掃描電子顯微鏡
 2.4.2　原子力顯微鏡
 2.4.3 小角度X射線散射
 2.4.4　光學顯微鏡
 2.4.5　模板結構的評價
　2.5 有關模板的關鍵性技術問題
　2.6 本章小結
　　參考文獻
第3章 納米壓印光刻膠
　3.1 概述
　3.2 光刻膠材料的選擇標準
 3.2.1 成膜性能
 3.2.2　壓印性能
 3.2.3　抗刻蝕性能
 3.3 不同種類壓印光刻膠
 3.3.1 熱壓印光刻膠
 3.3.2 紫外壓印光刻膠
 3.3.3 步進壓印光刻膠
 3.3.4 滾動式壓印光刻膠
 3.3.5　微接觸印刷
　3.4 本章小結
 參考文獻
第4章 納米壓印工藝
 4.1 概述
　……
第5章　刻蝕
第6章　納米壓印技術在發(fā)光二極管上的應用
第7章　納米壓印工藝在制作相變存儲器件的應用
第8章　納米壓印技術在其他領域的應用

章節(jié)摘錄

　?。?）加大研發(fā)投入，同時鼓勵納米專利的申請。在對研究課題資助的立項和評估上，將能否獲得專利以及獲得專利的數(shù)量和質量作為一個衡量的標準?！　。?）重視技術轉讓中的專利戰(zhàn)略。目前，美國、日本等國家的納米壓印技術處于領先地位，有些技術沒有必要從頭開始研究，可以引進應用。在技術引進中，應注意所引進技術的法律狀態(tài)，如是否已過了專利保護期、專利權是否已被授予、專利權被宣告無效后法律責任和損失的承擔等?！　。?）促進產(chǎn)學研體系的形成。納米壓印技術涉及領域非常廣，分布到各個交叉學科，需要各領域的專家學者緊密配合、協(xié)同工作。例如，納米壓印膠的開發(fā)，涉及化學、材料和等離子物理等多個學科的配合。目前高校和研究所是納米壓印技術研發(fā)的主力軍，但納米科技產(chǎn)業(yè)化的主體是企業(yè)，這就要求政府管理部門運用宏觀調(diào)控手段，克服專利技術轉讓中的壁壘，促進產(chǎn)學研體系的形成?！　。?）技術標準和專利相結合。目前，發(fā)達國家紛紛采用技術標準和專利相結合的技術聯(lián)盟戰(zhàn)略，將本國的許多核心專利包含于其制定的標準中，然后利用自身的經(jīng)濟和技術優(yōu)勢地位，將國內(nèi)標準上升為國際標準，進而達到壟斷市場的目的。由于納米壓印技術尚處于研發(fā)階段，還沒有統(tǒng)一的標準和術語來進行規(guī)范和指導。如果能夠實質性參與相關國際標準的制定工作，就能夠改變過去在其他行業(yè)中標準化的被動局面，而且可以采取積極主動的技術標準戰(zhàn)略，提出符合我國國情的標準條款，提升我國納米壓印技術的國際競爭力。 　　……

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