未來10年中國學科發(fā)展戰(zhàn)略

內(nèi)容概要

　　本書是國家自然科學基金委員會和中國科學院合作開展"2011～2020年我國學科發(fā)展戰(zhàn)略研究"的成果。本書從數(shù)學學科的特點與戰(zhàn)略地位、發(fā)展規(guī)律和趨勢、發(fā)展現(xiàn)狀與布局、國際交流與合作等方面對數(shù)學學科未來十年的發(fā)展進行了系統(tǒng)、權(quán)威和科學的分析探討，并就優(yōu)先發(fā)展領(lǐng)域和重大交叉研究領(lǐng)域進行了預測和探討，書稿還為學科的科學發(fā)展提出了很多有價值的保障措施和決策建議。

書籍目錄

總序(路甬祥陳宜瑜)
前言
摘要
Abstract
第一章　學科研究特點與戰(zhàn)略地位
第二章　學科發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
 第一節(jié)　基礎(chǔ)數(shù)學的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
 第二節(jié)　應用數(shù)學的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
 第三節(jié)　計算數(shù)學與科學工程計算的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
 第四節(jié)　統(tǒng)計學與海量數(shù)據(jù)分析的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
 第五節(jié)　數(shù)學與其他學科交叉的發(fā)展規(guī)律和態(tài)勢
第三章　我國數(shù)學的發(fā)展現(xiàn)狀
第四章　我國數(shù)學學科的發(fā)展布局
第五章　優(yōu)先發(fā)展領(lǐng)域與重大交叉研究領(lǐng)域
　一、基礎(chǔ)數(shù)學
　二、應用數(shù)學
　三、計算數(shù)學與科學工程計算
　四、統(tǒng)計學與海量數(shù)據(jù)分析
　五、數(shù)學與其他學科交叉的若干重大問題
第六章　國際合作與交流
第七章　保障措施與建議
 第一節(jié)　建立合理的科學評價體系
 第二節(jié)　培養(yǎng)和穩(wěn)定高水平的數(shù)學人才
 第三節(jié)　建設(shè)一些有國際影響的研究基地
 第四節(jié)　加大對數(shù)學學科的穩(wěn)定支持
 第五節(jié)　要關(guān)注基礎(chǔ)教育的重要性
參考文獻

章節(jié)摘錄

版權(quán)頁：當前材料科學的中心問題是新型材料的設(shè)計及相應的器件制備，研究的焦點從原子、分子體系一直延續(xù)到凝聚態(tài)體系，還涉及材料的力、熱、電、光、磁等多方面行為，高度各向異性和非均勻性的新材料呈現(xiàn)出一些與傳統(tǒng)材料不同的新特征。研制新材料急需解決的關(guān)鍵科學工程問題，涉及對復雜體系建立更準確有效的數(shù)學模型并進行高效數(shù)值求解的過程，但這些過程非常復雜，往往跨越多個時空尺度，并涉及多個物理、化學甚至生物反應過程。新材料問題的上述特性使得單一尺度模型往往難以精確描述物理現(xiàn)象，因而越來越傾向于采用多尺度、多場、多過程耦合的數(shù)學模型，在不同區(qū)域或不同物理層次運用不同的物理規(guī)律。這些模型能夠有效集成不同尺度上的信息，更好地反映物性機理，從而使得對復雜物理以及生化過程的可靠預測與設(shè)計成為可能。模擬計算作為理論和實驗的補充手段，可以實現(xiàn)“自下而上”地研究材料的結(jié)構(gòu)一功能關(guān)系，給出了“材料設(shè)計”的全新理念。數(shù)值模擬在對材料特性本質(zhì)的認識、新型功能材料的設(shè)計等方面起著非常重要的作用，這是一個極具魅力的研究領(lǐng)域。低維材料、納米材料設(shè)計中的數(shù)學模型與算法的研究也是當前科學與工程計算領(lǐng)域的研究熱點之一，是面臨全新挑戰(zhàn)的課題。對于半導體產(chǎn)業(yè)來講，摩爾定律仍然繼續(xù)譜寫著神話，集成電路上晶體管的密度每兩年便會增加一倍。一方面，采用深紫外（波長193納米）光刻的45納米的制造工藝已經(jīng)投入生產(chǎn)，32納米的制造工藝已經(jīng)準備就緒。另一方面，極紫外（波長13.5納米）光刻技術(shù)推出的延遲，使得2011年應當準備就緒的22納米制造工藝還需建立在深紫外光刻技術(shù)之上，印制圖形的尺寸幾乎是所使用曝光波長的1／9。通過模擬來設(shè)計和優(yōu)化掩模、實現(xiàn)更好分辨率的計算光刻技術(shù)，已經(jīng)被所有主要的掩模供貨商認為是22納米及其更高密度所要求的技術(shù)。同時，復雜的半導體芯片的版圖設(shè)計和物理驗證也提出了更高的要求。

編輯推薦

《未來10年中國學科發(fā)展戰(zhàn)略:數(shù)學》編輯推薦：“未來10年中國學科發(fā)展戰(zhàn)略”叢書是國家自然科學基金委員會和中國科學院學部歷時兩年多聯(lián)合開展研究的重要成果，凝聚著600多位院士、專家的智慧和心血，對廣大科技工作者洞悉學科發(fā)展規(guī)律、了解前沿領(lǐng)域和重點方向及開展科技創(chuàng)新等有重要的參考價值，對促進我國學科均衡、協(xié)調(diào)、可持續(xù)發(fā)展必將發(fā)揮積極作用?！段磥?0年中國學科發(fā)展戰(zhàn)略?數(shù)學》全面總結(jié)了近年來數(shù)學的研究現(xiàn)狀和研究動態(tài)，客觀分析了學科發(fā)展態(tài)勢，從學科的發(fā)展規(guī)律和研究特點出發(fā)，前瞻性地思考了學科的整體布局，提出了數(shù)學的重要科學問題、前沿方向及我國發(fā)展該學科領(lǐng)域的政策措施等。《未來10年中國學科發(fā)展戰(zhàn)略:數(shù)學》不僅對相關(guān)領(lǐng)域科技工作者和高校師生有重要的參考價值，同時也是科技管理者和社會公眾了解數(shù)學發(fā)展現(xiàn)狀及趨勢的權(quán)威讀本。

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