仿射微分幾何

內(nèi)容概要

本書首先闡述了技術(shù)未來分析的由來與發(fā)展、研究現(xiàn)狀及研究展望。全書由“理論方法篇”和“實踐應(yīng)用篇”兩個重要部分組成?！袄碚摲椒ㄆ敝攸c分析了14種技術(shù)未來分析理論方法?！皩嵺`應(yīng)用篇”主要介紹了文獻計量學(xué)、技術(shù)路線圖和情景規(guī)劃在實踐中的應(yīng)用。    本書既可以作為從事技術(shù)管理、新技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的研究人員和研究生的參考書，又可以用于企業(yè)尋找技術(shù)創(chuàng)新突破口的方法選擇和新產(chǎn)品開發(fā)的決策依據(jù)。

書籍目錄

技術(shù)未來分析與未來導(dǎo)向技術(shù)分析（代序）第1篇  理論方法篇　第1章　文獻計量學(xué)　　1.1  文獻計量學(xué)的形成與發(fā)展　　1.2　文獻計量學(xué)介紹　　1.3  文獻計量學(xué)的應(yīng)用領(lǐng)域　　1.4　文獻計量學(xué)的優(yōu)缺點及發(fā)展趨勢　　參考文獻　第2章　技術(shù)路線圖　　2.1　技術(shù)路線圖的形成與發(fā)展　　2.2　技術(shù)路線圖介紹　　2.3　技術(shù)路線圖的應(yīng)用領(lǐng)域　　2.4　技術(shù)路線圖與技術(shù)預(yù)測和評估　　2.5　技術(shù)路線圖的優(yōu)缺點及發(fā)展趨勢　　參考文獻　……第2篇　實踐應(yīng)用篇后記

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