出版時(shí)間:2009-7 出版社:科學(xué)出版社 作者:伍國(guó)玨 頁(yè)數(shù):713
Tag標(biāo)簽:無(wú)
前言
本書(shū)第一版問(wèn)世八年之后,新版賜予了我進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)全面搜集半導(dǎo)體器件愿望的良機(jī)。借此機(jī)會(huì),增加了八個(gè)章節(jié)的內(nèi)容。在這些新增加的器件中,有一些是在第一版出版后發(fā)明的,有一些是在第一版出版之前不久才發(fā)明因而公布受到限制,還有一些則純粹是被遺漏。此外新版還增加了一種有意義的器件,即單電子晶體管,由于它可以由金屬和絕緣體制作,不一定是半導(dǎo)體器件,所以將它增補(bǔ)在附錄A中。前一版中論述歐姆接觸的一章被移到附錄B中,因?yàn)樗袷且粋€(gè)組件而不是一個(gè)器件。新版對(duì)目錄中器件的分類也稍做調(diào)整,原有各章在認(rèn)為有必要時(shí)都做了適當(dāng)?shù)难a(bǔ)充修訂。 附錄B新增了一節(jié)關(guān)于擴(kuò)散的內(nèi)容。這樣,附錄B便涵蓋了半導(dǎo)體器件的所有導(dǎo)電機(jī)理,這與許多教科書(shū)中開(kāi)頭幾章的情況相類似。若本書(shū)被用作研討課程的主要讀本,可以在學(xué)習(xí)選定的章節(jié)之前仔細(xì)閱讀附錄B中的內(nèi)容。仍然希望本書(shū)能為研究半導(dǎo)體器件提供新的設(shè)計(jì)制造思路,并且也能成為與半導(dǎo)體相關(guān)課程的有益參考書(shū)籍。
內(nèi)容概要
本書(shū)全面介紹了從第一只電阻器出現(xiàn)至今的200多種半導(dǎo)體器件,并對(duì)每種器件的背景知識(shí)、結(jié)構(gòu)、原理及應(yīng)用做了完整的概述。器件類型不僅包括早期或已淘汰的器件,更包括新近的量子器件;不僅包括通用器件,還包括專用器件等。并且在附錄中收錄了一些最基本的器件物理知識(shí)。本書(shū)的編排可以讓廣大讀者快速了解各類半導(dǎo)體器件,同時(shí)也可就某一類器件展開(kāi)深入的學(xué)習(xí)與研究。本書(shū)具有如下特點(diǎn):收錄最全;反映最新器件研究水平;編排獨(dú)特。 本書(shū)是微電子學(xué)、電子科學(xué)與技術(shù)、材料學(xué)等專業(yè)的高校師生和從業(yè)工程師等在理論學(xué)習(xí)、科學(xué)研究以及實(shí)際工作中必備的教科書(shū)和參考書(shū)。
作者簡(jiǎn)介
伍國(guó)玨,1975年獲羅格斯大學(xué)電氣工程專業(yè)學(xué)士學(xué)位,1979年獲哥倫比亞大學(xué)電氣工程專業(yè)博士學(xué)位:自1980年起,在位于新澤西州墨累山(MurrayH)的杰爾系統(tǒng)(最早屬于AT&T的貝爾實(shí)驗(yàn)室,后因AT&T被拆分歸屬于朗訊科技,已于2007年被Lsl Logic兼并)擔(dān)任技術(shù)主管:主要從事siMOS器件、SiGe異質(zhì)結(jié)雙極型晶體管、以及新近出現(xiàn)的化合物半導(dǎo)體高速高功率器件方面的研究:還擔(dān)任了IEEE Electron Device Letterls的編輯以及IEEE出版社的聯(lián)絡(luò)員。
書(shū)籍目錄
再版前言前言引言二極管Ⅰ:整流器 第1章 p—n結(jié)二極管 第2章 p-i-n二極管 第3章 肖特基勢(shì)壘二極管 第4章 平面摻雜勢(shì)壘二極管 第5章 同型異質(zhì)結(jié)二極管Ⅱ:負(fù)阻N形 第6章 隧道二極管 第7章 轉(zhuǎn)移電子器件 第8章 共振隧穿二極管 第9章 共振帶間隧穿二極管 第10章 單勢(shì)壘隧道二極管 第11章 單勢(shì)壘帶間隧穿二極管 第12章 實(shí)空間轉(zhuǎn)移二極管二極管Ⅲ:負(fù)阻效應(yīng)S形 第13章 金屬一絕緣體一半導(dǎo)體開(kāi)關(guān) 第14章 平面摻雜勢(shì)壘開(kāi)關(guān) 第15章 無(wú)定形半導(dǎo)體閾值開(kāi)關(guān) 第16章 異質(zhì)結(jié)構(gòu)熱電子二極管二極管Ⅳ:負(fù)阻渡越時(shí)間 第17章 碰撞電離雪崩渡越時(shí)阿二極管 第18章 勢(shì)壘注入渡越時(shí)間二極管 第19章 電阻器 第20章 金屬一氧化物一半導(dǎo)體電容器 第21章 電荷耦合器件晶體管Ⅰ:場(chǎng)效應(yīng) 第22章 金屬.氧化物一半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管 第23章 結(jié)型場(chǎng)效應(yīng)晶體管 第24章 金屬、半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管 第25章 調(diào)制摻雜場(chǎng)效應(yīng)晶體管 第26章 可滲基區(qū)晶體管 第27章 靜電感應(yīng)晶體管 第28章 實(shí)空間轉(zhuǎn)移晶體管 第29章 平面摻雜場(chǎng)效應(yīng)晶體管 第30章 表面隧道晶體管 第31章 橫向共振隧穿場(chǎng)效應(yīng)晶體管 第32章 斯塔克效應(yīng)晶體管 第33章 速度調(diào)制晶體管晶體管Ⅱ:電勢(shì)效應(yīng) 第34章 雙極型晶體管 第35章 隧穿熱電子轉(zhuǎn)移放大器 第36章 金屬基極晶體管 第37章 雙極反型溝道場(chǎng)效應(yīng)晶體管 第38章 隧道發(fā)射極晶體管 第39章 平面摻雜勢(shì)壘晶體管 第40章 異質(zhì)結(jié)熱電子晶體管 第41章 感應(yīng)基區(qū)晶體管 第42章 共振隧穿雙極晶體管 第43章 共振隧穿熱電子晶體管 第44章 量子阱基區(qū)共振隧穿晶體管 第45章 自旋閥晶體管 非易失性存儲(chǔ)器晶閘管和功率器件光電子器件Ⅰ:光源光電子器件Ⅱ:光電探測(cè)器光電子器件Ⅲ:雙穩(wěn)態(tài)光學(xué)器件光電子器件Ⅳ:其他器件傳感器索引譯后記
章節(jié)摘錄
二極管Ⅰ:整流器 第1章 p—n結(jié)二極管 1.1 歷史 1940年,Ohl利用光閃射到硅棒上觀察光電效應(yīng)時(shí),發(fā)現(xiàn)了p-n結(jié)。當(dāng)時(shí)晶體不純,同一晶體的不同部分有不同的雜質(zhì),無(wú)意中形成了天然p-n結(jié)。Ohl還發(fā)現(xiàn),當(dāng)金屬觸須按壓在晶體的不同部位時(shí),便會(huì)觀察到相反的行為。當(dāng)相對(duì)于金屬觸須在晶體上加正偏置產(chǎn)生大電流時(shí),Ohl稱之為p型材料;相反,當(dāng)傳導(dǎo)類似電流需要負(fù)偏置時(shí),則稱其為n型材料。后來(lái),貝爾實(shí)驗(yàn)室的這個(gè)研究小組建立起p型與受主雜質(zhì)以及n型與施主雜質(zhì)之間的聯(lián)系。1949年,Shockley提出p-n結(jié)二極管的理論,并促成了雙極型晶體管的發(fā)明。隨后,該理論由Sah等及Moll加以完善。在參考文獻(xiàn)中可以查到有關(guān)該類器件的最近評(píng)述文章。p-n結(jié)已成為電子工業(yè)中最通用的整流器。在許多其他器件中,它還作為一種非常重要的基本結(jié)構(gòu)單元?! ?.2 結(jié)構(gòu) 該器件的早期結(jié)構(gòu)形式是將金屬引線按壓到半導(dǎo)體表面上構(gòu)成。電流脈沖通過(guò)引線和半導(dǎo)體時(shí),便形成結(jié)。一般認(rèn)為,摻雜是通過(guò)金屬引線進(jìn)行擴(kuò)散而形成的,如圖1.1(a)所示,這種結(jié)構(gòu)稱為點(diǎn)接觸,金屬引線稱為觸須(點(diǎn)接觸具有p-n結(jié)或肖特基勢(shì)壘的特性,取決于成形工藝,見(jiàn)3.2節(jié))。早期的另一種工藝是合金法。該方法將含有適當(dāng)雜質(zhì)的金屬放置在半導(dǎo)體表面上,加熱到共熔溫度以上,在界面處形成一層薄的重?fù)诫s的合金。以上兩種技術(shù)都已不再使用。平面結(jié)構(gòu)如圖1.1(b)所示。表面摻雜通常利用離子注入引入,也可通過(guò)高溫進(jìn)行擴(kuò)散,雜質(zhì)源可以是通過(guò)氣體攜帶,也可以使用淀積材料。另一種通用技術(shù)是在外延生長(zhǎng)過(guò)程中摻雜。二極管的面積通常由注入或擴(kuò)散過(guò)程中絕緣層窗口決定。
編輯推薦
作為集成電路基本組成單元的半導(dǎo)體器件的發(fā)展,是過(guò)去50多年電子工業(yè)高速發(fā)展的主要原因。由于信息時(shí)代對(duì)更快速和更復(fù)雜系統(tǒng)的持續(xù)需求,不僅已有的半導(dǎo)體器件得到改進(jìn)、完善,新的器件也在不斷涌現(xiàn),因此相關(guān)文獻(xiàn)涉及的器件種類繁多、變化豐富。作為全面收集半導(dǎo)體器件的工程學(xué)指南專著的第二版,《半導(dǎo)體器件完全指南(原書(shū)第2版)》繼續(xù)保持了在這個(gè)意義上的唯一性:總共收集了74類、200多種器件。 與初版一樣,《半導(dǎo)體器件完全指南(原書(shū)第2版)》的價(jià)值體現(xiàn)在其內(nèi)容全面,以及通俗易懂的表達(dá)方式和易于使用的編排形式,使得《半導(dǎo)體器件完全指南(原書(shū)第2版)》適用于廣泛的讀者群體?! ×谐隽岁P(guān)鍵信息,方便快速瀏覽 每一章節(jié)對(duì)應(yīng)某種特定的器件,便于參考文獻(xiàn)的集中檢索 從歷史、結(jié)構(gòu)、特性、應(yīng)用等方面詳細(xì)介紹了每種器件 第二版在原來(lái)的基礎(chǔ)上新增了八章,并且重新編排以反映該領(lǐng)域的最新進(jìn)展。不僅如此,《半導(dǎo)體器件完全指南(原書(shū)第2版)》繼承了初版的優(yōu)點(diǎn):對(duì)于剛剛畢業(yè)想要對(duì)本行業(yè)有快速了解的大學(xué)生以及想要高效獲取基本信息的從業(yè)者和研究人員而言,《半導(dǎo)體器件完全指南(原書(shū)第2版)》是理想的參考資料;對(duì)于銷售人員、律師以及任何與半導(dǎo)體行業(yè)有關(guān)的人員,《半導(dǎo)體器件完全指南(原書(shū)第2版)》是很有價(jià)值的實(shí)用手冊(cè)。 1975年獲羅格斯大學(xué)電氣工程專業(yè)學(xué)士學(xué)位,1979年獲哥倫比亞大學(xué)電氣工程專業(yè)博士學(xué)位:自1980年起,在位于新澤西州墨累山(MurrayH)的杰爾系統(tǒng)(最早屬于AT&T的貝爾實(shí)驗(yàn)室,后因AT&T被拆分歸屬于朗訊科技,已于2007年被Lsl Logic兼并)擔(dān)任技術(shù)主管:主要從事siMOS器件、SiGe異質(zhì)結(jié)雙極型晶體管、以及新近出現(xiàn)的化合物半導(dǎo)體高速高功率器件方面的研究:還擔(dān)任了IEEE Electron Device Letterls的編輯以及IEEE出版社的聯(lián)絡(luò)員。
圖書(shū)封面
圖書(shū)標(biāo)簽Tags
無(wú)
評(píng)論、評(píng)分、閱讀與下載
250萬(wàn)本中文圖書(shū)簡(jiǎn)介、評(píng)論、評(píng)分,PDF格式免費(fèi)下載。 第一圖書(shū)網(wǎng) 手機(jī)版