薄膜材料

內(nèi)容概要

本書總結了過去幾十年里薄膜材料的研究進展，同時將重點放在薄膜中內(nèi)應力的起源、發(fā)展及其影響等諸多方面。書中不僅系統(tǒng)考慮了薄膜－基底系統(tǒng)或多層膜系統(tǒng)的整體變形及薄膜的斷裂、脫層和翹曲，而且還考慮了更小尺度上薄膜中位錯的形成及非彈性變形。薄膜中應力的影響與薄膜材料結構之間的聯(lián)系貫穿于整書的討論。通過舉例計算和有實際意義的實例分析及討論，更加具體地闡明了書中的基本概念，并于每章后附有習題。    本書可供從事材料和工程及相關研究領域工作，特別是從事薄膜材料的科技人員和微電子機械領域從事設計制造的工程技術人員閱讀，也可作為有關專業(yè)的研究生和大學高年級本科生的教材和參考書。本書英文版被美國哈佛大學、布朗大學、麻省理工學院、斯坦福大學等大學用作研究生教材。

書籍目錄

第1章 引言和總論　1.1 薄膜組態(tài)分類　1.2 薄膜沉積方法　1.3 氣相沉積薄膜的生長方式　1.4 薄膜微觀結構　1.5 微電子結構的制備　1.6 MEMS的結構制備　1.7 薄膜應力源　1.8 多晶體薄膜的生長應力　1.9 薄膜應力的后果　1.10 習題第2章 薄膜應力和基底曲率　2.1 Storey方程　2.2 薄膜厚度對雙層薄膜曲率的影響　2.3 曲率測量方法　2.4 層狀和成分梯度薄膜　2.5 幾何非線性變形范圍　2.6 平衡形狀的分叉　2.7 習題第3章 各向異性和圖形薄膜中的應力　3.1 彈性各向異性　3.2 立方晶體的彈性常數(shù)　3.3 非立方晶體的彈性常數(shù)　3.4 層狀外延生長材料的彈性應變　3.5 一般錯配應變的薄膜應力　3.6 薄膜應力的X射線衍射測量　3.7 各向異性薄膜引起的基底曲率　3.8 壓電薄膜　3.9 平行薄膜裂紋的周期排列　3.10 平行線或條紋的周期排列　3.11 圖形薄膜中應力的測量　3.12 習題第4章 脫層和斷裂第5章 薄膜的翹曲、鼓包和剝離第6章 外延系統(tǒng)中的位錯形成第7章 位錯交互作用和應變馳豫第8章 表面的平衡和穩(wěn)定性第9章 應力在傳質中的作用參考文獻英漢名詞索引

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